JP6050981B2

JP6050981B2 - マスクブランク収納ケース、及びマスクブランク収納体

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Publication number: JP6050981B2
Application number: JP2012168555A
Authority: JP
Inventors: 康弘水越; 孝雄樋口
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 2012-07-30
Filing date: 2012-07-30
Publication date: 2016-12-21
Anticipated expiration: 2032-07-30
Also published as: JP2014027217A; KR101848950B1; KR20140016188A

Description

本発明は、電子デバイスの製造に使用されるフォトマスクの製造に用いられるマスクブランクを収納する収納ケース、及びマスクブランク収納体に関するものである。

近年の電子デバイス、特に半導体素子や液晶モニター用のカラーフィルター或いはＴＦＴ素子等は、ＩＴ技術の急速な発達に伴い、一層の微細化が要求されている。このような微細加工技術を支える技術の一つが、転写用マスクと呼ばれるフォトマスクを用いたリソグラフィー技術である。このリソグラフィー技術においては、露光用光源の電磁波を転写用マスクを通じてレジスト膜付きシリコンウエハーに露光することにより、シリコンウエハー上に微細なパターンを形成している。この転写用マスクは通常、ガラス基板等の表面に遮光膜等の薄膜を形成したマスクブランクにリソグラフィー技術を用いて転写パターン（マスクパターン）となるパターンを形成して製造される。ところで、マスクブランクの表面にパーティクル等の異物があると、形成されるパターンの欠陥の原因となるので、マスクブランクの表面には異物等が付着しないように清浄に保管される必要がある。

このようなマスクブランクを収納保管し運搬するためのケースとしては、従来では例えば下記特許文献１に開示されているようなマスク運搬用ケースが知られている。すなわち、従来のマスクブランクを収納保管するケースは、キャリアなどと呼ばれている中ケースにマスクブランクを数枚乃至数十枚並べて保持させ、このマスクブランクを保持した中ケースを外箱（ケース本体）内に収容し、さらに外箱上に蓋体を被せて、マスクブランクを収納する構造となっていた。

図９乃至図１１は、特許文献１に開示されたものと同様の構造の収納ケースを示すもので、図９は収納ケースの蓋体を示す斜視図、図１０はマスクブランクを中ケースに収納する状態を示す斜視図、図１１は収納ケースのケース本体（外ケース）を示す斜視図である。
この収納ケースは、マスクブランク１を中ケース２に収納し、この中ケース２をケース本体３に収納し、このケース本体３の開口部側に蓋体４を被せる構造である。

上記中ケース２は、開口部側（上方）から底面側（下方）に向けて複数の溝２１，２２を一方の互いに対向する内側面に所定間隔をおいて一対をなして形成し、その溝２１，２２の底面側の底部と中ケース底面にはそれぞれ開口窓（図示せず）と開口部２７が設けられ、さらに中ケース底面側には基板支持部２６が形成され、この基板支持部２６でマスクブランク１の下方端面を支持している（図１０）。そして、この中ケース２をケース本体３に収納して固定するための凹面部２８，２９がそれぞれ中ケースの他方の互いに対向する外側面に底面側から開口部側の途中まで形成されている。数枚のマスクブランク１を中ケース２の一対の溝２１，２２に沿って入れると、これらのマスクブランクは所定間隔をおいて互いに平行に並べられて収納される。

上記ケース本体３は、上述した中ケース２の凹面部２８，２９と当接するに適合した突出部３１，３２を、互いに対向する内側面に形成し、その突出部３１，３２の底部はケース本体３底面とも接合している（図１１）。また、一方の対向する外側面の開口部側には凸部３３，３４が形成されている。そして、ケース本体３の開口縁３５のやや下方の位置に続く外周面３６と上記凸部３３，３４の凸面とは略同一面に形成されている。

また上記蓋体４は、その一方の対向する下方縁４７（ケース本体へ差し込む開口部側の縁であって、図９では上方へ向いている）の中央から延びた係合片４１，４２に凹部４３，４４を形成している。これにより、蓋体４をケース本体３に被せたときに、上記凹部４３，４４が前記ケース本体３の凸部３３，３４とそれぞれ嵌合することで、蓋４とケース本体３とが固定される構造となっている。また、中ケース２の開口部側上端面２５と当接して中ケース２を垂直方向において支持固定するストッパー４５，４６を一方の内側面に互いに対向させて形成している。

特公平１−３９６５３号公報

近年の電子デバイスの高性能化に伴って、転写用マスクに形成されるパターンも一段と微細化が要求されており、このような微細パターンを形成するためにもマスクブランクの清浄度は極めて高いものでないと許容できなくなってきている。従って、マスクブランクに異物等が付着するのを出来るだけ抑制することにより、特にレジスト膜を有するマスクブランクの保管中は出来るだけ高い清浄度に維持する必要がある。

しかしながら、従来構造の収納ケースは、マスクブランクを中ケース２に収納する際、あるいは中ケース２から取り出す際に、マスクブランクの両側端部が中ケース２の溝２１，２２と接触し、擦れることによる発塵が発生しやすい。従来は、主にマスクブランクの出し入れに支障がないようにする観点から、中ケース２の上記溝２１，２２は、収納するマスクブランクの大きさ及び板厚よりも若干余裕を持たせていたが、マスクブランクの出し入れの際の発塵を抑制する観点からの検討はなされていなかった。そのため、マスクブランクを上記中ケース２の溝２１，２２に沿って差し込む際の最初の時点から最後の収納し終わるまで、あるいは収納されたマスクブランクを溝２１，２２に沿って取り出す際の最初の時点から最後の取り出し終わるまで、マスクブランクの両側端部が中ケース２の溝２１，２２と常にほぼ接触しているため、その間に発塵が起こり易いものと考えられる。そして、発生したパーティクルは、たとえばマスクブランクの膜表面に付着して、異物欠陥となるおそれが極めて高かった。
また、本発明者の検討によると、発塵の起こり易さは、たとえば上記中ケース２の材質にもよっても異なる。

そこで、本発明は、上記従来の問題点を解消し、中ケースを備える収納ケースからマスクブランクを出し入れする際の発塵を抑制できるようにしたマスクブランク収納ケース、及びマスクブランク収納体を提供することを目的とする。

本発明者は、前記課題を解決するため鋭意検討した結果、マスクブランクの両側端を縦方向に保持する中ケースの基板保持部をテーパー形状とし、その底面側よりも開口部側の寸法が広くなるように構成するとともに、中ケースを摺動性が高く、かつ表面硬度が高い材料で形成することで、マスクブランクを中ケースから出し入れする際の発塵を効果的に抑制できることを見い出し、本発明を完成するに至ったものである。

すなわち、本発明は以下の構成を有するものである。
（構成１）
上方が開口したケース本体と、該ケース本体に被せて嵌め合わされる蓋体と、前記ケース本体内に収容され、主表面が四角形状のマスクブランクを内部に縦方向に収納する中ケースとを備えるマスクブランク収納ケースであって、前記中ケースは、マスクブランクの両側端を縦方向に保持する基板保持部を備え、該基板保持部は底面側よりも開口部側の寸法が広くなるように構成されており、且つ前記中ケースは、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマーから選択される樹脂からなり、前記中ケースは、鉛筆硬度でH以上の表面硬度を有することを特徴とするマスクブランク収納ケースである。

構成１のように、中ケースの基板保持部は底面側よりも開口部側の寸法が広くなるように構成し、且つ中ケースは、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマーから選択される樹脂であって、鉛筆硬度でH以上の表面硬度を有しているので、マスクブランクと接触する中ケースの摺動性が高く、且つ表面硬度が高いので、中ケースからマスクブランクを出し入れする際にマスクブランクと中ケース（基板保持部）との接触、擦れによる発塵が特に発生しやすい中ケースの開口部側での発塵を効果的に抑制することができ、その結果としてマスクブランクを中ケースから出し入れする際の発塵を全体として抑制することができる。

（構成２）
前記中ケースの基板保持部は、マスクブランクの主表面方向の横幅と板厚方向の横幅のいずれも、底面側よりも開口部側の寸法が広くなるように構成されていることを特徴とする構成１に記載のマスクブランク収納ケースである。
構成２にあるように、中ケースの基板保持部は、マスクブランクの主表面方向の横幅と板厚方向の横幅のいずれも、底面側よりも開口部側の寸法が広くなるように構成することにより、マスクブランクを中ケースから出し入れする際の発塵を抑制する効果がより効果的に発揮される。

（構成３）
前記中ケースの基板保持部は、底面側よりも開口部側の寸法が１ｍｍ〜３ｍｍ広くなるように構成されていることを特徴とする構成１又は２に記載のマスクブランク収納ケースである。
構成３にあるように、中ケースの基板保持部は、例えば底面側よりも開口部側の寸法が１ｍｍ〜３ｍｍ広くなるように構成することにより、上述の本発明による効果が十分に発揮され、なお且つマスクブランクを中ケース内に保持する機能を低下させることはない。

（構成４）
表面にレジスト膜を有するレジスト膜付きマスクブランクを収納することを特徴とする構成１乃至３のいずれかに記載のマスクブランク収納ケースである。
構成４のように、表面にレジスト膜を有するレジスト膜付きマスクブランクの場合は基板保持部との接触、擦れによる発塵が特に発生しやすいため、収納に本発明の収納ケースを用いるのが好適である。

（構成５）
構成１乃至４のいずれかに記載のマスクブランク収納ケースにレジスト膜付きマスクブランクが収納されたことを特徴とするマスクブランク収納体である。
上記本発明の構成のマスクブランク収納ケースにレジスト膜付きマスクブランクが収納されたマスクブランク収納体は、マスクブランクを中ケースから出し入れする際の発塵が抑制されるので、マスクブランクの膜表面への異物付着による欠陥の発生も抑制される。

（構成６）
前記マスクブランクは、基板の主表面上に転写パターン形成用の薄膜を有し、前記基板の対向する主表面間に介在する端面において、前記主表面と直交する方向の側壁面と、該側壁面と前記主表面との間に介在する面取面とを有しており、前記基板における前記側壁面と前記面取面の稜線の曲率半径が５０μｍ以上であることを特徴とする構成５に記載のマスクブランク収納体である。
構成６にあるように、上記マスクブランクは、上記基板における上記側壁面と上記面取面の稜線の曲率半径が５０μｍ以上としているので、マスクブランクの稜線による上記中ケースの基板保持部へのダメージを抑えることができるので、上記基板保持部欠落によるパーティクル発生を抑制することができる。

本発明によれば、中ケースは、マスクブランクの両側端を縦方向に保持する基板保持部を備え、該基板保持部は底面側よりも開口部側の寸法が広くなるように構成され、且つ中ケースは、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマーから選択される樹脂であって、鉛筆硬度でH以上の表面硬度を有しているので、中ケースからマスクブランクを出し入れする際にマスクブランクと中ケースとの接触、擦れによる発塵が特に発生しやすい中ケースの開口部側での発塵を効果的に抑制することができるので、マスクブランクを中ケースから出し入れする際の発塵を全体として抑制することができる。その結果、マスクブランクの膜表面への異物付着による欠陥の発生も抑制することができる。

本発明に係る収納ケースの一実施の形態を示すもので、蓋体をケース本体に被せる前の状態の（ａ）正面図と（ｂ）側面図である。本発明に係る収納ケースの蓋体をケース本体に被せた状態の（ａ）正面図と（ｂ）側面図である。複数枚のレジスト膜付きマスクブランクを中ケースに収納した状態を示す平面図である。（ａ）は図３の中ケースのＩ−Ｉ線の縦断面図、（ｂ）は同じく中ケースのＩＩ−ＩＩ線の縦断面図である。マスクブランクの断面図である。保持部材の斜視図である。保持部材とマスクブランク端面とが接触した状態を示す図である。保持部材とマスクブランク端面とが接触した状態を示す図である。従来構造の収納ケースの蓋体を示す斜視図である。マスクブランクを中ケースに収納する状態を示す斜視図である。従来構造の収納ケースのケース本体（外ケース）を示す斜視図である。

以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態を説明する。
図１および図２は、本発明に係る収納ケースの一実施の形態を示すものであり、図１の（ａ）は、本発明に係る収納ケースの蓋体をケース本体に被せる前の状態の正面図、同図（ｂ）はその側面図であり、図２の（ａ）は、本発明に係る収納ケースの蓋体をケース本体に被せた状態の正面図、同図（ｂ）はその側面図である。また、図３は、複数枚のレジスト膜付きマスクブランクを中ケースに収納した状態を示す平面図であり、図４（ａ）は、図３の中ケースのＩ−Ｉ線の縦断面図、同図（ｂ）は同じく中ケースのＩＩ−ＩＩ線の縦断面図である。

本実施の形態に係るマスクブランク収納ケースは、上方が開口したケース本体７と、該ケース本体７に被せる蓋体６と、前記ケース本体７内に収容され、主表面が四角形状のマスクブランクを内部に縦方向に収納する中ケース５とを備えるマスクブランクの収納ケースである。上記蓋体６及びケース本体７は、その全体的な形状は、従来構造の収納ケース（すなわち図９に示す蓋４及び図１１に示すケース本体３）と同様の形状を有している。

本実施の形態の収納ケースは、主表面が四角形状（例えば正方形）のガラス基板の一主表面上にクロム膜等の遮光性薄膜を成膜し、さらにその上にレジスト膜を形成したレジスト膜付きマスクブランクを中ケース５に収納し、この中ケース５をケース本体７に収納し、このケース本体７の開口部側に蓋体６を被せる構造である（図２（ａ）、（ｂ）及び図３参照）。ケース本体７の上から蓋体６を被せると、蓋体６の下方縁に続くやや外方に拡開した側壁部６１とケース本体７の開口縁７１とが前後に重なり合うと同時に、蓋体６の下方縁の側壁部６１とケース本体７の開口縁７１の下方に形成されたやや外方に拡開した側壁部７２とが同一面上に重なり合って蓋体６とケース本体７とが接合される。

また、上記ケース本体７は、その一方の対向する外周面の開口縁７１側には凸部７３が形成されている。そして、ケース本体７の開口縁７１のやや下方の位置に形成された上記側壁部７２と上記凸部７３の凸面とは略同一面に形成されている。

また上記蓋体６は、その一方の対向する上記側壁部６１の中央から延びた係合片６２の内側に凹部６３を形成している。これにより、蓋体６をケース本体７に被せたときに、その一方の対向する２箇所において、上記係合片６２の凹部６３がケース本体７の上記凸部７３とそれぞれ嵌合することで、蓋体６とケース本体７とが閉じた状態で固定される構造となっている（図２（ａ）参照）。なお、図１（ａ）においては、蓋体６の上記係合片６２及び凹部６３と、ケース本体７の上記凸部７３のいずれも一方が示されているが、これと対向する反対側にも蓋体６に上記係合片６２及び凹部６３が、ケース本体７に上記凸部７３がそれぞれ形成されている。

上記中ケース５は、開口部側（上方）から底面側（下方）に向けて複数の溝５１，５２を一方の互いに対向する内側面に所定間隔をおいて一対をなして形成し、マスクブランク１の両側端を縦方向に保持する基板保持部５３を構成している。さらに中ケース５の底面側には基板支持部５４が形成され、この基板支持部５４で収納されたマスクブランク１の下方端面を支持している。

本発明においては、マスクブランク１の両側端を縦方向に保持する上記基板保持部５３をテーパー形状としている。具体的には、該基板保持部５３を構成する両側の溝５１，５２を開口部側（上方）から底面側（下方）に向けてテーパー形状とし、該基板保持部５３の底面側よりも開口部側の寸法が広くなるように構成されている。そして、数枚のマスクブランク１を中ケース５の各々一対の溝５１，５２に沿って差し込むと、これらのマスクブランク１は所定間隔をおいて互いに平行に並べられて収納される（図３参照）。
また、本発明においては、上記中ケース５は、摺動性の高い（つまり滑り性の良好な）ポリカーボネート樹脂、ポリブチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマーから選択される樹脂で形成されている。このポリカーボネート樹脂、ポリブチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマーから選択される樹脂は、化学成分ガスの放出が少ない材料でもある。

本発明のマスクブランク収納ケースは、上記のとおり、中ケース５の一方の対向する内側面にそれぞれ形成した両側の溝５１，５２で構成される基板保持部５３は底面側よりも開口部側の寸法が広くなるように構成し、且つ中ケース５は摺動性の高いポリカーボネート樹脂、ポリブチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマーから選択される樹脂で形成する。これにより、マスクブランク１を中ケース５から出し入れする際に、マスクブランク１と基板保持部５３である溝５１，５２との接触、擦れによる発塵が特に発生しやすい中ケース５の開口部側での発塵を効果的に抑制することができる。その結果、マスクブランク１を中ケース５から出し入れする際の発塵を全体として抑制することができる。

また、本発明において、上記中ケース５の基板保持部５３は、マスクブランク１の主表面方向の横幅と板厚方向の横幅のいずれも、底面側よりも開口部側の寸法が広くなるように構成されることが好ましい。図４に示されるように、マスクブランクの板厚方向における開口部側の横幅の寸法をＡとし、底面側の横幅の寸法をＢとする（同図（ａ）参照）。また、マスクブランクの主表面方向における開口部側の横幅の寸法をＣとし、底面側の横幅の寸法をＤとする（同図（ｂ）参照）。本発明においては、少なくともＡ＞ＢあるいはＣ＞Ｄであればよいが、特にはＡ＞Ｂ、かつ、Ｃ＞Ｄであることが好ましい。

このように、中ケース５の基板保持部５３は、マスクブランクの主表面方向の横幅と板厚方向の横幅のいずれも、底面側よりも開口部側の寸法が広くなるように構成（Ａ＞Ｂ、かつ、Ｃ＞Ｄ）することによって、マスクブランク１を中ケース５から出し入れする際の発塵を抑制する効果がより効果的に発揮される。
通常、マスクブランク１を中ケース５から出し入れする際には、マスクブランク１の面取面１ｃ（図５参照）が基板保持部５３と接触するが、Ａ＞Ｂとなっているので、マスクブランク１と基板保持部５３の接触を極力少なくすることができるので、発塵抑制効果が大きい。また、中ケース５の基板保持部５３すべてにマスクブランクを収納しない場合においても、保持手段（後述）によりしっかりとマスクブランクを固定させることができるので、搬送・輸送時の振動による発塵の発生を抑制することができる。）

上記のとおり、本発明の収納ケースにおいては、中ケース５の基板保持部５３は底面側よりも開口部側の寸法が広くなるように構成されているが、例えば６インチ角のマスクブランクを収納するケースにおいては、好ましくは、底面側よりも開口部側の寸法が１ｍｍ〜３ｍｍ広くなるように構成されていることが好適である。

このように中ケース５の基板保持部５３を、底面側よりも開口部側の寸法が１ｍｍ〜３ｍｍ広くなるように構成することにより、上述の本発明による発塵抑制効果が十分に発揮され、なお且つ中ケース５内に収納したマスクブランク１を保持する機能が低下することはない。基板保持部５３の底面側よりも開口部側の寸法があまり広いと（例えば３ｍｍを超えると）、基板保持部でのマスクブランクを保持する機能が低下し、中ケースに収納したマスクブランクが収納ケース移動中にがたつくおそれがある。さらに好ましくは、底面側よりも開口部側の寸法を１ｍｍ〜２ｍｍ広くなるように構成することが望ましい。

上記では中ケース５の基板保持部５３における底面側と開口部側の寸法差で規定したが、底面側に対する開口部側の広がり角度で規定しても構わない。即ち、中ケース５の基板保持部５３を、底面側に対する開口部側の広がり角度が０．０８°〜０．５°となるように構成されていることが好適である。好ましくは、０．１°〜０．４°、更に好ましくは、０．１５°〜０．３５°とすることが望ましい。

なお、本実施の形態の収納ケースは、蓋体６を閉じる際、上記本体ケース７の開口縁７１と蓋体６の側壁部６１とが嵌め合わされるが、蓋体６を閉じた収納ケースの密閉性を高めるために、蓋体６を閉じた際にケース本体７の開口縁７１に嵌め込まれるような適当な大きさの環状の弾性部材（図示せず）を蓋体６の側壁部６１の内側に取り付けてもよい。この弾性部材としては、雰囲気の温度、気圧等の変動があっても化学成分ガスの放出が少ない材料が好ましく、例えば、ポリオレフィンエラストマー、ポリエステルエラストマーが挙げられる。

また、上記中ケース５の材質は、前記のとおりポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマーの中から選択した樹脂とする。また、中ケース５は、使用する樹脂材料の分子量、成型温度、成型圧力等を適宜調整することで、その表面硬度が鉛筆硬度でＨ以上としてある。中ケース５の表面硬度は、日本工業規格ＪＩＳＫ５６００−５−４で定義されている方法により測定する。手かき法でもよいが、望ましくは機器法により測定することが好ましい。中ケース５の表面硬度を手かき法で測定する場合には、マスクブランクが接触し保持される中ケース５の基板保持部５３の部分を測定する。また、機器法で測定する場合には、中ケース５の平坦な面を有する外周部分を測定するか、または、中ケース５を成型する条件と同じ条件で作製した平板を測定しても良い。

また、本実施の形態の収納ケースは、収納されたマスクブランクの上方角部を保持する保持手段を前記蓋体６の内側に設けることが好適である。かかる保持手段として、本実施の形態では、マスクブランクの上方の角部端面を保持する樹脂材料で形成された２本の保持部材１０を蓋体６の内側の一方の内側面に互いに対向させて取り付けられる。

以下、上記保持部材１０について説明する。
図６は保持部材の斜視図である。図７は保持部材とマスクブランク端面とが接触した状態を一方向から見た図であり、図８は同じく保持部材とマスクブランク端面とが接触した状態を別の方向から図である。
本実施の形態の上記保持部材１０は、収納された前記マスクブランク１の上方端面における側壁面１ｂと面取面１ｃ（図５参照）の稜線にて当接する第１の当接部１２と、該第１の当接部１２が当接するマスクブランク１の上方端面と隣接する側方端面における側壁面１ｂに当接する第２の当接部１３とを備えている。本実施の形態では、複数枚のマスクブランクの収納に対応できるように、複数の上記第１の当接部１２及び上記第２の当接部１３を備えている。

上記複数の第１の当接部１２及び第２の当接部１３はいずれも、直線状に延在した軸１１に沿って所定間隔で配列されている。この場合の所定間隔は、中ケース５内に収納される複数枚のマスクブランクの間隔に応じて適宜設定される。そして、上記第１の当接部１２及び上記第２の当接部１３はそれぞれ同じ方向に向けて配列され、また各第１の当接部１２と各第２の当接部１３は向い合う位置に配列されている。

上記第１の当接部１２は、上記軸１１の側面から引き出した延出部１２２の先端に当接面１２１を備えてなり、さらに該当接面１２１の当接側の略中央に突起１２３を備えている。上記当接面１２１は、マスクブランク１と接触した時にマスクブランク端面における側壁面１ｂと両側の面取面１ｃの稜線にて線接触で当接するように、全体が緩やかな凹形状に形成されている（図６、図７を参照）。また、上記当接面１２１に上記突起１２３を設けることにより、上記当接面１２１の全体がマスクブランク端面の側壁面１ｂとは接触せずに、上記突起１２３とマスクブランク端面の側壁面１ｂとが接触するようになるため、マスクブランク端面との接触領域を出来るだけ少なくして発塵を抑制する観点から有利である。

また、上記第２の当接部１３は、全体が断面略Ｌ字状に形成されており、上記軸１１の側面から引き出した延出部１３２の先端に、該延出部１３２とは略垂直な方向に当接面１３１を備えてなり、さらに該当接面１３１の当接側の略中央に突起１３３を備えている。かかる構成の第２の当接部１３においては、上記当接面１３１に設けた突起１３３とマスクブランク端面の側壁面１ｂとが接触する。なお、上記突起１３３を設けない構成とすることも可能であるが、その場合は上記当接面１３１がマスクブランク端面の側壁面１ｂと接触するため、マスクブランク端面との接触領域を出来るだけ少なくして発塵を抑制する観点からは、上記のとおり突起１３３を当接面１３１に設ける構成が有利である。

また、上記第１の当接部１２及び上記第２の当接部１３は、上記軸１１に対して断面視で互いが鋭角となる方向に配列されていることが好ましい。本実施の形態では、具体的には、上記第１の当接部１２の当接面１２１と上記第２の当接部１３の当接面１３１とが、上記軸１１に対して断面視で互いが鋭角となる方向に配列されていることが好ましい。

また、上記軸１１には、上記第１の当接部１２及び第２の当接部１３に対応して複数の切欠きを設けており、具体的には上記第１の当接部１２の両側に切欠き１４を、上記第２の当接部１３の両側に切欠き１５をそれぞれ設けている。これらの切欠きの大きさは適宜設定することができる。
また、本実施形態の保持部材１０を上記蓋体６の内側に取り付ける際の係合孔として、上記軸１１の所定箇所に開口１６，１７を、さらに保持部材１０の両端部に開口１８をそれぞれ設けている。勿論、保持部材１０の取り付け構造によっては、上記開口を設ける必要はない。

なお、以上説明した軸１１と、第１の当接部１２及び第２の当接部１３から構成される保持部材１０は、例えば樹脂材料で一体に形成されている。
上記保持部材１０の材質は、中ケース５と同様に、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマーの中から選択した材料が好ましい。さらに、使用する樹脂材料の選定、樹脂材料の分子量、成型温度、成型圧力等を適宜調整することで、その表面硬度が鉛筆硬度でＨ以上とすることが望ましい。保持部材１０の表面硬度は、中ケース５と同様、日本工業規格ＪＩＳＫ５６００−５−４で定義されている方法により測定する。

上記保持部材１０のうち、上記第１の当接部１２がマスクブランクの上方端面における側壁面１ｂと面取面１ｃの稜線Ｐ１、Ｐ３で、さらには上記第２の当接部１３がマスクブランクの側壁面１ｂのＰ２で接触し、所定の圧力がかかった状態でマスクブランクを保持しても、これらの樹脂材料は、所望の硬度と摺動性を兼ね備えているので、マスクブランクと保持部材１０との擦れによるパーティクルの発生を著しく抑制することができる。

以上説明したように、収納ケースに収納された状態のマスクブランクの上方角部を保持する保持手段として用いる保持部材１０は、マスクブランク端面との接触面積は極めて小さく、しかもマスクブランク端面の面取面１ｃに転写パターン形成用の薄膜やレジスト膜が形成されたとしても、上記保持部材１０の第１の当接部１２が直接接触することがない。本実施の形態では、上記第１の当接部１２は、マスクブランク１の上方端面における側壁面１ｂとその両側の面取面１ｃの稜線上の２箇所と、当接面１２１の突起１２３と接触する側壁面１ｂ上の１箇所の全部で３箇所（具体的には図５中に丸印を付したＰ１，Ｐ２，Ｐ３の３箇所）でマスクブランク端面と線接触する。従って、上記保持部材１０とマスクブランク端面との接触によるパーティクルの発生を著しく抑制することができ、その結果、例えば輸送・保管中の振動等があっても発塵等によるマスクブランクの主表面へのパーティクル付着を抑制することができる。さらに、上記保持部材１０はマスクブランクにとって重要な主表面と極めて近い領域に接触することはないため、主表面への影響（例えば主表面における膜欠陥など）の懸念もない。

また、上記保持部材１０は、さらに、上記第１の当接部１２が当接するマスクブランク１の上方端面と隣接する側方端面における側壁面１ｂに当接する第２の当接部１３を備えているため、上記第１の当接部１２によって保持されるマスクブランク１の上方端面と隣接する側方端面における側壁面をも保持することができる（図８を参照）。その結果、収納されたマスクブランク１の上方角部をしっかりと固定して保持することができる。

また、上記のとおり、上記第１の当接部１２及び上記第２の当接部１３はいずれも直線状に延在した上記軸１１に沿って所定間隔で配列され、前記軸１１には上記第１の当接部１２及び上記第２の当接部１３に対応して複数の切欠き１４，１５を設けているので、第１の当接部１２及び第２の当接部１３の各々の（一つ一つの）軸回りの動きの自由度が向上する。ゆえに、収納ケース内に収納された複数枚のマスクブランクの１枚１枚をしっかりと保持することができる。また、収納ケース内に、上記保持部材１０の上記第１の当接部１２、第２の当接部１３に対応した枚数のマスクブランク１を収納しない場合においても、上記複数の切欠き１４、１５により、収納ケース内に収納されたマスクブランクの１枚１枚をしっかり保持することができるので、マスクブランクの輸送、搬送中の振動によるパーティクルの発生を抑制することができる。

また、上記のとおり、上記第１の当接部１２及び上記第２の当接部１３が、上記軸１１に対して断面視で互いが鋭角となる方向に配列されていることにより、ケース本体にマスクブランクを収納して、該ケース本体に上記保持部材１０を取り付けた蓋体を被せるときに、マスクブランクの上方端面を保持する第１の当接部１２は最初にその先端部がマスクブランクと接触し、続いてその他の部分がマスクブランクと接触するので、マスクブランクに対する保持力を向上でき、接触時の発塵も抑えられる。このような保持部材１０（保持手段）を蓋体６の内側に設けていることにより、例えば輸送、搬送中の振動を緩和でき、マスクブランクをしっかりと固定して発塵を防ぐことができる。

一方、上述のケース本体７及び蓋体６の材質は、樹脂材料で形成されるが、例えばポリプロピレン、アクリル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエチルサルファイト、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン（ＡＢＳ）、シクロオレフィンポリマー等の樹脂から適宜選択されることが好ましい。これらの中でも、雰囲気の温度、気圧等の変動があっても化学成分ガスの放出が少ない材料が特に好ましく、例えばポリカーボネート、ポリエステル、ポリブチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマーが好ましい。なお、マスクブランクの保管中にチャージが溜まると、マスク製造過程において放電破壊を起こし、パターン欠陥となる場合があるので、たとえばケース本体７の構成樹脂にカーボン等を混ぜ込んで導電性を付与するようにしてもよい。

また、本発明のマスクブランク収納ケースは、保持手段、蓋体及びケース本体の構造に関しては、上記図１及び図２、図６に示すものには限定されない。また、蓋体とケース本体との嵌合構造（固定構造）に関しても上記図１及び図２に示すものには限定されない。

本発明に係る収納ケースに収納されるマスクブランクの一構成例は、基板の主表面上に転写パターンとなる薄膜を形成してなるもの、あるいはさらに該薄膜の表面にレジスト膜を形成してなるものである。
上記基板としては、マスクブランクがバイナリマスクブランクや位相シフト型マスクブランク等の透過型マスクブランクの場合、露光光に対して透光性を有する基板材料を使用し、例えば合成石英ガラス基板である。また、マスクブランクがＥＵＶ露光用等の反射型マスクブランクの場合、低熱膨張の特性を有するＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２系ガラス（２元系（ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２）及び３元系（ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２−ＳｎＯ_２等））や、例えばＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３−Ｌｉ_２Ｏ系の結晶化ガラスの基板が使用される。また、マスクブランクがナノインプリントプレート用マスクブランクの場合、例えば合成石英ガラス基板が使用される。

なお、上記マスクブランクは、上記基板における側壁面と面取面との稜線の曲率半径が５０μｍ以上である端部形状を有していることが好ましい。マスクブランクの稜線による基板保持部へのダメージを抑えることができるので、基板保持部の欠落によるパーティクル発生を抑制することができる。上記稜線の曲率半径は、好ましくは５０μｍ以上１０００μｍ以下、さらに好ましくは、１００μｍ以上８５０μｍ以下、さらに好ましくは、３５０μｍ以上７５０μｍ以下が望ましい。

上記透過型マスクブランクは、上記基板の主表面上に、転写パターン形成用の薄膜として遮光膜を形成することによりバイナリマスクブランクが得られる。また、上記基板の主表面上に、転写パターン形成用の薄膜として位相シフト膜、あるいは位相シフト膜及び遮光膜を形成することにより、位相シフト型マスクブランクが得られる。また、基板彫り込み型のレベンソン位相シフト型マスクブランクにおいては、基板の主表面上に、転写パターン形成用の薄膜として遮光膜を形成することにより得られる。また、クロムレスタイプの位相シフト型マスクブランクや、ナノインプリントプレート用マスクブランクにおいては、基板の主表面上に、転写パターン形成用の薄膜としてエッチングマスク膜を形成することにより得られる。
上記遮光膜は、単層でも複数層（例えば遮光層と反射防止層との積層構造）としてもよい。また、遮光膜を遮光層と反射防止層との積層構造とする場合、この遮光層を複数層からなる構造としてもよい。また、上記位相シフト膜、エッチングマスク膜、吸収体膜についても、単層でも複数層としてもよい。

透過型マスクブランクとしては、例えば、クロム（Ｃｒ）を含有する材料により形成されている遮光膜を備えるバイナリマスクブランク、遷移金属とケイ素（Ｓｉ）を含有する材料により形成されている遮光膜を備えるバイナリマスクブランク、タンタル（Ｔａ）を含有する材料により形成されている遮光膜を備えるバイナリマスクブランク、ケイ素（Ｓｉ）を含有する材料、あるいは遷移金属とケイ素（Ｓｉ）を含有する材料により形成されている位相シフト膜を備える位相シフト型マスクブランクなどが挙げられる。上記遷移金属とケイ素（Ｓｉ）を含有する材料としては、遷移金属とケイ素を含有する材料のほかに、遷移金属及びケイ素に、さらに窒素、酸素及び炭素のうち少なくとも１つの元素を含む材料が挙げられる。具体的には、遷移金属シリサイド、または遷移金属シリサイドの窒化物、酸化物、炭化物、酸窒化物、炭酸化物、あるいは炭酸窒化物を含む材料が好適である。遷移金属には、モリブデン、タンタル、タングステン、チタン、クロム、ハフニウム、ニッケル、バナジウム、ジルコニウム、ルテニウム、ロジウム、ニオブ等が適用可能である。この中でも特にモリブデンが好適である。

さらに上記バイナリマスクブランクや位相シフト型マスクブランクにおいて、遮光膜上に、エッチングマスク膜を備えても構わない。エッチングマスク膜の材料は、遮光膜をパターニングする際に使用するエッチャントに対して耐性を有する材料から選択される。遮光膜の材料がクロム（Ｃｒ）を含有する材料の場合、エッチングマスク膜の材料としては、例えば上記ケイ素（Ｓｉ）を含有する材料が選択される。また、遮光膜の材料がケイ素（Ｓｉ）を含有する材料や、遷移金属とケイ素（Ｓｉ）を含有する材料の場合、エッチングマスク膜の材料としては、例えば上記クロム（Ｃｒ）を含有する材料が選択される。

また、反射型マスクブランクとしては、基板上に、ＥＵＶ光に対して反射する多層反射膜、さらに、転写用マスクの製造工程におけるドライエッチングやウェット洗浄から多層反射膜を保護するため、保護膜が形成された多層反射膜付き基板として、上記多層反射膜や保護膜上に転写パターン形成用の薄膜として吸収体膜を備える反射型マスクブランクが挙げられる。

ＥＵＶ光の領域で使用される多層反射膜としては、Ｍｏ／Ｓｉ周期多層膜のほかに、Ｒｕ／Ｓｉ周期多層膜、Ｍｏ／Ｂｅ周期多層膜、Ｍｏ化合物／Ｓｉ化合物周期多層膜、Ｓｉ／Ｎｂ周期多層膜、Ｓｉ／Ｍｏ／Ｒｕ周期多層膜、Ｓｉ／Ｍｏ／Ｒｕ／Ｍｏ周期多層膜、Ｓｉ／Ｒｕ／Ｍｏ／Ｒｕ周期多層反射膜が挙げられる。
また、上記保護膜の材料としては、例えば、Ｒｕ、Ｒｕ−（Ｎｂ、Ｚｒ、Ｙ、Ｂ、Ｔｉ、Ｌａ、Ｍｏ）、Ｓｉ−（Ｒｕ、Ｒｈ、Ｃｒ、Ｂ）、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｌａ、Ｂ等の材料から選択される。これらのうち、Ｒｕを含む材料を適用すると、多層反射膜の反射率特性がより良好となる。

また、上記吸収体膜の材料としては、例えば、Ｔａ単体、Ｔａを主成分とする材料が用いられる。Ｔａを主成分とする材料は、通常、Ｔａの合金である。このような吸収体膜の結晶状態は、平滑性、平坦性の点から、アモルファス状又は微結晶の構造を有しているものが好ましい。Ｔａを主成分とする材料としては、例えば、ＴａとＢを含む材料、ＴａとＮを含む材料、ＴａとＢを含み、更にＯとＮの少なくともいずれかを含む材料、ＴａとＳｉを含む材料、ＴａとＳｉとＮを含む材料、ＴａとＧｅを含む材料、ＴａとＧｅとＮを含む材料などを用いることができる。また例えば、ＴａにＢ、Ｓｉ、Ｇｅ等を加えることにより、アモルファス構造が容易に得られ、平滑性を向上させることができる。さらに、ＴａにＮ、Ｏを加えれば、酸化に対する耐性が向上するため、経時的な安定性を向上させることができる。

なお、以上は、基板上に転写パターン形成用の薄膜を有するマスクブランク、あるいは前記薄膜上にさらにレジスト膜を有するマスクブランクを収納する収納ケースについて説明したが、本発明に係る収納ケースは、マスクブランク用基板や、上記マスクブランクを用いて製造された転写用マスクの収納ケースとしても好ましく用いることができる。

以下、具体的な実施例により本発明を説明する。
（実施例１）
６インチ角の合成石英ガラス基板（１５２．４ｍｍ×１５２．４ｍｍ×６．２５ｍｍ）上にスパッタ法で、表層に反射防止機能を有するクロム膜（遮光膜）を形成し、その上にスピンコート法でポジ型の化学増幅型レジストである電子線描画用レジスト膜を形成した後、基板周縁部に形成されたレジスト膜を溶剤で除去してレジスト膜付きマスクブランクを製造した。なお、合成石英ガラス基板の側壁面及び面取面は、酸化セリウムの研磨剤を使用したブラシ研磨により所望の平滑性が得られるように精密研磨され、側壁面と面取面との間の稜線の曲率半径が、３５０μｍ以上７５０μｍ以下の範囲の合成石英ガラス基板を使用した。稜線の曲率半径は、ミツトヨ社製輪郭形状測定機ＣＶ−３１００により測定した。

このようにして製造した５枚のレジスト膜付きマスクブランクを１ケースに収納した。収納ケースとして、前述の図１〜図４に示す本発明の実施の形態に係る収納ケースを用いた。なお、中ケースの基板保持部の寸法（図４参照）は、Ａ＝１５４．２ｍｍ、Ｂ＝１５３．０ｍｍ、Ｃ＝８．３ｍｍ、Ｄ＝７．３ｍｍ（マスクブランク主表面方向における底面側に対する開口部側の横幅の広がり角度は、０．２８°、マスクブランク板厚方向における底面側に対する開口部側の横幅の広がり角度は、０．２４°）とした。また、蓋体、ケース本体、中ケースの材質は、ポリカーボネート（カーボン入り）、蓋体に取り付けた保持部材の材質はポリブチレンテレフタレートを用いた。収納作業は所定の清浄度に調節されたクリーンルーム内で行った。

なお、中ケースで使用したポリカーボネート、保持部材で使用したポリブチレンテレフタレートは、それぞれ中ケース、保持部材を成型する条件で作製した平板を準備し、鉛筆引っかき試験器によりそれぞれの樹脂の表面硬度を測定した。樹脂の表面硬度は、ＪＩＳＫ５６００−５−４に則り測定した。
中ケースのポリカーボネート、保持部材のポリブチレンテレフタレートの表面硬度はそれぞれ、鉛筆硬度で、２Ｈ（中ケース）、Ｈ（保持部材）であった。なお、マスクブランクが接触する中ケースの基板保持部、保持部材を手かき法で表面硬度を測定したところ、上記と同じ結果が得られた。

そして、中ケースから上記マスクブランクを取り出し、また中ケースに収納するマスクブランクの出し入れ操作を連続１０回行った。
マスクブランクの出し入れ操作終了後、欠陥検査装置（レーザーテック社製：Ｍ２３５０）を用いて、マスクブランクの１３２ｍｍ×１３２ｍｍ領域のレジスト膜上の付着異物による欠陥（０．１μｍ以上の大きさの欠陥）個数を測定した。なお、評価は、上記出し入れ操作前の欠陥個数を予め上記と同様に測定しておき、これに対する出し入れ操作終了後の欠陥個数の増加個数で行った。
その結果、本実施例では、増加欠陥個数は、平均（５枚の平均）して０個であり、中ケースへのマスクブランクの出し入れ操作に伴うマスクブランクと中ケースとの擦れによる発塵を効果的に抑制することが可能であることが確認できた。

（比較例１）
実施例１と同様に製造した５枚のレジスト膜付きマスクブランクを収納するケースとして、前述の図９乃至図１１に示す従来構造の収納ケースを用いたこと以外は実施例１と同様にしてマスクブランクの収納を行った。なお、中ケース（図１０参照）の基板保持部は、開口部側（上方）から底面側（下方）まで同じ寸法であり、マスクブランクの主表面方向の横幅は１５３．０ｍｍ、板厚方向の横幅は７．３ｍｍとした。また、蓋体の材質は、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン（ＡＢＳ）、ケース本体、中ケース、保持部材の材質はポリプロピレンを用いた。
なお、実施例１と同様にして測定した中ケース、保持部材のポリプロピレンの表面硬度は、鉛筆硬度で、ＨＢであった。
そして、実施例１と同様に上記レジスト膜付きマスクブランクの中ケースへの出し入れ操作を行った。

そして、実施例１と同様に、マスクブランクの上記出し入れ操作前の付着異物欠陥個数に対する出し入れ操作終了後の欠陥個数の増加個数を測定した。その結果、本比較例では、増加欠陥個数は、平均（５枚の平均）して３．６個と非常に多く、これは中ケースへのマスクブランクの出し入れ操作に伴うマスクブランクと中ケースとの擦れによる発塵が多く発生しやすいことによると考えられる。

（実施例２）
実施例１において、使用する合成石英ガラス基板の側壁面及び面取面のブラシ研磨の研磨時間を短くして、側壁面と面取面との間の稜線の曲率半径を、１００μｍ以上３００μｍ以下の範囲の合成石英ガラス基板を使用した以外は実施例１と同様にして、中ケースに収納するマスクブランクの出し入れ操作を連続１０回行った後の増加欠陥個数を評価した。その結果、本実施例２では、増加欠陥個数は、平均（５枚の平均）して０．２個であり、中ケースのマスクブランクの出し入れ操作に伴うマスクブランクと中ケースとの擦れによる発塵を効果的に抑制することが可能であることが確認できた。

（比較例２）
実施例２と同様に製造した５枚のレジスト膜付きマスクブランクを収納するケースとして、前述の図９乃至図１１に示す従来構造の収納ケースを用いたこと以外は実施例２と同様にしてマスクブランクの収納を行った。そして、実施例１と同様に上記レジスト膜付きマスクブランクの中ケースへの出し入れ操作を行った。その結果、本比較例では、増加欠陥個数は、平均（５枚の平均）して５．２個と非常に多く、これは中ケースへのマスクブランクの出し入れ操作に伴うマスクブランクと中ケースとの擦れによる発塵が多く発生しやすいことによると考えられる。

（実施例３、４）
実施例１における中ケースをポリブチレンテレフタレート（表面硬度Ｈ）、シクロオレフィンポリマー（表面硬度Ｈ）とした以外は実施例１と同様にして、中ケース内に収納するマスクブランクの出し入れ操作を連続１０回行った後の増加欠陥個数を評価した。その結果、本実施例３，４では、増加欠陥個数は、平均（５枚の平均）して０個であり、中ケースへのマスクブランクの出し入れ操作に伴うマスクブランクと中ケースとの擦れによる発塵を効果的に抑制することが可能であることが確認できた。

１マスクブランク
２中ケース
３ケース本体
４蓋体
５中ケース
５１，５２溝部
５３基板保持部
６蓋体
７ケース本体
１０保持部材

Claims

上方が開口したケース本体と、該ケース本体に被せて嵌め合わされる蓋体と、前記ケース本体内に収容され、主表面の大きさが６インチ×６インチのマスクブランクを内部に縦方向に収納する中ケースとを備えるマスクブランク収納ケースであって、
前記中ケースは、マスクブランクの両側端を縦方向に保持する基板保持部を備え、該基板保持部はマスクブランクの主表面方向の横幅と板厚方向の横幅のいずれも、底面側よりも開口部側の寸法が広くなるように構成されており、且つ前記中ケースは、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマーから選択される樹脂からなり、前記中ケースは、鉛筆硬度でH以上の表面硬度を有することを特徴とするマスクブランク収納ケース。
前記中ケースの基板保持部は、底面側よりも開口部側の寸法が１ｍｍ〜３ｍｍ広くなるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のマスクブランク収納ケース。
表面にレジスト膜を有するレジスト膜付きマスクブランクを収納することを特徴とする請求項１又は２に記載のマスクブランク収納ケース。
収納ケースに収納された状態のマスクブランクの上方角部を保持する保持部材を備え、該保持部材は、マスクブランクの上方端面における側壁面とその両側の面取面の稜線上の２箇所と、側壁面上の１箇所の全部で３箇所でマスクブランク端面と線接触することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のマスクブランク収納ケース。
請求項１乃至４のいずれかに記載のマスクブランク収納ケースにレジスト膜付きマスクブランクが収納されたことを特徴とするマスクブランク収納体。
前記マスクブランクは、基板の主表面上に転写パターン形成用の薄膜を有し、前記基板の対向する主表面間に介在する端面において、前記主表面と直交する方向の側壁面と、該側壁面と前記主表面との間に介在する面取面とを有しており、前記基板における前記側壁面と前記面取面の稜線の曲率半径が５０μｍ以上であることを特徴とする請求項５に記載のマスクブランク収納体。