JP6034170B2 - Ｘ線管装置及びｘ線管装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、Ｘ線管装置及びＸ線管装置の製造方法に関する。

Ｘ線管装置は、医療診断用途や、非破壊検査用途など、多くの用途に利用されている。Ｘ線管装置は、Ｘ線管、ハウジング及び絶縁油を備えている。ハウジングは、Ｘ線管を収容している。絶縁油は、Ｘ線管とハウジングとの間の空間に充填されている。絶縁油は、Ｘ線管が発生する熱を吸収し、Ｘ線管を冷却している。Ｘ線管の発熱量が多い場合、Ｘ線管装置は循環冷却システムをさらに備えている場合がある。

上記ハウジングは、Ｘ線管を収容するための開口部を有している。開口部には、閉塞部材が設けられている。開口部と閉塞部材との間には、Ｏリングが設けられ、絶縁油を液密にシールしている。ハウジングの開口部を閉塞部材及びＯリングで閉塞した後、ハウジング内部に脱気された絶縁油が充填される。

また、Ｘ線管装置は、鉛を利用したＸ線遮蔽材を備えている。Ｘ線遮蔽材は、ハウジング内部に取付けられ、ハウジング外部への不要なＸ線の漏洩を遮蔽する。少なくともＸ線遮蔽材の表面の一部は、絶縁油に浸っている。

特開平１０−１０６７９０号公報 米国特許第６０６２７３１号明細書 米国特許第６２５７７６２号明細書

ところで、Ｘ線遮蔽材が絶縁油に浸っている状態にあると、Ｘ線遮蔽材を形成している鉛が使用中に徐々に腐食してしまう。これにより、絶縁油中に悪影響を及ぼす異物が形成されてしまう。絶縁油中に鉛を主成分の１つとする浮遊異物が生成されたり、鉛を主成分の１つとする堆積物がＸ線管の外面の金属表面に形成されたりする。

浮遊異物は比較的高いＸ線吸収率を有している。このため、利用Ｘ線束が透過する絶縁油中に浮遊異物が存在すると、Ｘ線画像にアーチファクトが生じる恐れがある。その他、Ｘ線管やハウジングがベリリウムなどの金属で形成されたＸ線放射窓を有している場合、Ｘ線放射窓に鉛を主成分の１つとする堆積物が形成され易い。このため、利用Ｘ線の透過度が低下する恐れがある。堆積物の厚みが不均一である場合にはＸ線画像にアーチファクトが生じる恐れがある。

そこで、上記問題を解決するため、Ｘ線遮蔽材の表面に保護皮膜を形成する手法が考えられる。例えば、Ｘ線遮蔽材の表面に、硬化剤を作業直前に混合させる２液混合型のエポキシ樹脂塗料等の有機皮膜を厚くコーティングさせることが考えられる。ところで、上記塗料を用いる場合、硬化速度が速く、一度硬化すると溶媒で溶かすことが困難であり、エアスプレー法やエアレススプレー法を採用することが難しく、はけ塗り法が一般的である。

しかしながら、上記塗料の粘性が高いため、厚みを均一に塗布することが困難である。作業に時間と熟練が要求されることになるため、製造コストが高くなるという問題がある。また、上記塗料（有機塗料）とＸ線遮蔽材（鉛）との密着力は一般的に低いため、使用中に有機皮膜が剥離し易くなるという問題（性能上の限界）がある。また、保護効果を高めるために塗膜の厚みを増そうとすると、有機皮膜がさらに剥離し易くなるという問題（ジレンマ）がある。Ｘ線遮蔽材に下地塗装を行うことにより、Ｘ線遮蔽材に対する有機皮膜の密着性を高めることは可能であるが、製造コストがさらに高くなるという問題がある。

その他、上記問題を解決するため、Ｘ線遮蔽材の両面に錫などを利用して予め電気メッキを施し、Ｘ線遮蔽材をハウジング内面に接着させる技術が、例えば上記特許文献２及び３に開示されている。上記技術は上記問題を解決する手法の一つではあるが、Ｘ線遮蔽材の切り口に鉛が露出してしまう問題がある。また、製造コストが高くなってしまう問題がある。

この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、絶縁油中に置かれる鉛部材の腐食に伴う異物発生を低コストで低減又は防止することができ、長期にわたって高い信頼性を維持することができるＸ線管装置及びＸ線管装置の製造方法を提供することにある。

一実施形態に係るＸ線管装置は、
Ｘ線を放射するＸ線管と、
前記Ｘ線管を収容するハウジングと、
前記Ｘ線管と前記ハウジングとの間の空間に充填される絶縁油と、
硫黄加硫ゴムで形成され、前記絶縁油の存在する空間に位置したゴム部材と、
前記絶縁油の存在する空間に位置した鉛部材と、
前記鉛部材の表面に設けられ、メルカプトシランカップリング剤で形成され、前記鉛部材と前記ゴム部材から前記絶縁油中に溶出した硫黄成分との反応を抑制する保護膜と、を備えている。

また、一実施形態に係るＸ線管装置の製造方法は、
Ｘ線を放射するＸ線管と、前記Ｘ線管を収容するハウジングと、前記Ｘ線管と前記ハウジングとの間の空間に充填される絶縁油と、硫黄加硫ゴムで形成され、前記絶縁油の存在する空間に位置したゴム部材と、前記絶縁油の存在する空間に位置した鉛部材と、前記鉛部材の表面に設けられ、メルカプトシランカップリング剤で形成され、前記鉛部材と前記ゴム部材から前記絶縁油中に溶出した硫黄成分との反応を抑制する保護膜と、を備えたＸ線管装置の製造方法において、
前記保護膜を形成する際、
前記メルカプトシランカップリング剤の原液又は前記メルカプトシランカップリング剤が１容量％以上の濃度割合に希釈された混合液を用意し、
前記原液又は混合液を用いて前記鉛部材の表面に保護膜を形成する。

図１は、第１の実施形態に係るＸ線管装置を概略的に示す断面図であり、両面（全面）に保護膜が設けられたＸ線遮蔽部がハウジングに取り付けられている状態を示す図である。 図２は、図１に示したＸ線管装置の一部を拡大して示す図であり、ハウジング本体と蓋部との間に設けられた被シール部がゴム部材でシールされている状態を示す図である。 図３は、図１に示したＸ線管装置の一部を拡大して示す他の図であり、ハウジング本体と蓋部との間に設けられた被シール部がゴム部材の周縁部でシールされている状態を示す図である。 図４は、図１に示したＸ線管装置の一部を拡大して示す他の図であり、ハウジング本体とＸ線放射窓との間に設けられた被シール部がゴム部材でシールされている状態を示す図である。 図５は、図１に示したＸ線管を示す断面図である。 図６は、図１に示したＸ線管装置の一部を拡大して示す他の図であり、筒部とリセプタクルとの間に設けられた被シール部がゴム部材でシールされている状態を示す図である。 図７は、第２の実施形態に係るＸ線管装置を概略的に示す断面図であり、両面（全面）に保護膜が設けられたＸ線遮蔽部がハウジングに取り付けられ、Ｘ線遮蔽部が保護皮膜で被覆されている状態を示す図である。 図８は、第３の実施形態に係るＸ線管装置を概略的に示す断面図であり、ハウジングに取り付けられたＸ線遮蔽部の片面（ハウジングに取り付けられる面の反対側の面）に保護膜が設けられている状態を示す図である。 図９は、第４の実施形態に係るＸ線管装置を概略的に示す断面図であり、ハウジングに取り付けられたＸ線遮蔽部の片面（ハウジングに取り付けられる面の反対側の面）に保護膜が設けられ、保護膜が保護皮膜で被覆されている状態を示す図である。

以下、図面を参照しながら実施形態について説明する。
始めに、本願発明者は、絶縁油に接する鉛部材に腐食が生じ、絶縁油中に異物が形成される原因について鋭意調査研究を進めた。本願発明者は、調査研究を進めた結果、上記原因がハウジング中で絶縁油に接する硫黄加硫ゴムから溶け出した加硫剤（未反応の遊離硫黄または硫黄化合物）または加硫促進剤（硫黄化合物）に起因していることをつき止めた。 硫黄加硫ゴム材料は安価であるため、一般的に使用されている。

従来、絶縁油中の鉛部材に生じる腐食は、絶縁油の硫黄成分、絶縁油に溶存した酸素や水、又は熱やＸ線による絶縁油の劣化生成物が原因であろうと考えられてきた。しかしながら、実際には、上記のように絶縁油に接する硫黄加硫ゴムが存在しない場合、問題となる腐食が発生しないことを確かめた。

鉛腐食に伴って生成された浮遊異物は、鉛と硫黄（加硫ゴムから溶け出した硫黄、または硫黄化合物を起源とする硫黄）とを主成分とする針状もしくは繊維状の反応物であった。この反応物が部分的に集合して綿状の集合体となって浮遊異物を構成していることが分かった。

そこで、本願発明者は、ゴム部材から絶縁油中へ溶け出した硫黄成分（遊離硫黄や硫黄化合物）と鉛との反応を抑制（又は防止）する手段として、絶縁油中に位置する鉛部材の表面にメルカプトシランカップリング剤を利用した保護膜を形成することが有効であることを実証した。

次の（１）乃至（４）に実証結果を示す。

（１）メルカプトシランカップリング剤を利用した保護膜は、耐油性、及び耐熱性が高い。

（２）メルカプトシランカップリング剤を利用した保護膜は、鉛部材に対する密着性が良い。

（３）鉛部材の表面に設けられメルカプトシランカップリング剤を利用した保護膜は、絶縁油中に溶け出した硫黄成分と鉛の反応を抑制（又は防止）するバリア膜としての機能を有する。

（４）メルカプトシランカップリング剤の原液自体が低粘度液体である。メルカプトシランカップリング剤の原液又はメルカプトシランカップリング剤が希釈された混合液を使用することにより、作業性が非常に優れたコーティングを実施することができる。

次に、硫黄加硫ゴムから溶け出した硫黄成分と鉛部材との反応を抑制又は防止する（絶縁油中に置かれる鉛部材の腐食に伴う異物発生を低減又は防止する）対策を例示的に列挙する。
対策１：鉛部材の全面に、メルカプトシランカップリング剤で形成された保護膜を設ける。保護膜により、鉛部材と絶縁油中に溶出した硫黄との反応を抑制（又は防止）する。なお、本対策は後述する第１の実施形態に係るＸ線管装置及びＸ線管装置の製造方法で採っている。

対策２：上記対策１を採った上でさらに、保護膜の表面を有機材料で形成された保護皮膜で被覆する。なお、本対策は後述する第２の実施形態に係るＸ線管装置及びＸ線管装置の製造方法で採っている。

対策３：絶縁油に面する鉛部材の表面にのみ、メルカプトシランカップリング剤で形成された保護膜を設ける。保護膜により、鉛部材と絶縁油中に溶出した硫黄との反応を抑制（又は防止）する。なお、本対策は後述する第３の実施形態に係るＸ線管装置及びＸ線管装置の製造方法で採っている。

対策４：上記対策３を採った上でさらに、保護膜の表面を有機材料で形成された保護皮膜で被覆する。なお、本対策は後述する第４の実施形態に係るＸ線管装置及びＸ線管装置の製造方法で採っている。

以下、図面を参照しながら第１の実施形態に係るＸ線管装置及びＸ線管装置の製造方法について詳細に説明する。始めに、Ｘ線管装置の構成について説明する。図１は、第１の実施形態に係るＸ線管装置を概略的に示す断面図であり、両面（全面）に保護膜が設けられたＸ線遮蔽部がハウジングに取り付けられている状態を示す図である。

図１に示すように、Ｘ線管装置１０は、大まかにハウジング２０と、ハウジング２０内に収納された回転陽極型のＸ線管３０と、Ｘ線管３０とハウジング２０との間の空間に充填された絶縁油７と、高電圧絶縁部材６と、回転駆動部としてのステータコイル９と、リセプタクル３００、４００とを備えている。

Ｘ線管装置１０は、図示しない循環冷却システムをさらに備えていてもよい。この場合、ハウジング２０には、図示しない絶縁油７の導入口及び排出口が形成されている。循環冷却システムは、例えば、ハウジング２０内の絶縁油７を放熱及び循環させる冷却器と、冷却器をハウジング２０の導入口及び排出口に液密及び気密に連結する導管（ホースなど）とを備えている。冷却器は、循環ポンプ及び熱交換器を有している。循環ポンプは、ハウジング２０側から取り入れた絶縁油７を熱交換器に吐出し、絶縁油７の流れをハウジング２０内に作り出す。熱交換器は、ハウジング２０及び循環ポンプ間に連結され、絶縁油７の熱を外部に放出する。

ハウジング２０は、筒状に形成されたハウジング本体２０ｅと、蓋部（側板）２０ｆ、２０ｇ、２０ｈとを有している。ハウジング本体２０ｅ、蓋部２０ｆ、２０ｇ、２０ｈは、金属材料又は樹脂材料で形成されている。この実施形態において、ハウジング本体２０ｅ、蓋部２０ｆ、２０ｇ、２０ｈはアルミニウムを用いた鋳物で形成されている。樹脂材料を使用する場合は、ネジ部など強度を必要とする個所や、樹脂の射出成形で成形し難い個所、またハウジング２０の外部への電磁気ノイズの漏洩を防止する図示しない遮蔽層など、部分的に金属を併用しても良い。

後述する高電圧供給端子４４が位置する側のハウジング本体２０ｅの開口部には、環状の段差部が形成されている。上記段差部の内周面には、環状の溝部が形成されている。Ｘ線管装置の管軸に沿った方向において、蓋部２０ｆの周縁部はハウジング本体２０ｅの段差部に接触している。ハウジング本体２０ｅの上記溝部にはＣ形止め輪２０ｉが嵌合されている。

Ｃ形止め輪２０ｉは、管軸に沿った方向における、ハウジング本体２０ｅに対する蓋部２０ｆの位置を規制している。この実施形態において、蓋部２０ｆのがたつきを防止するため、蓋部２０ｆの位置は固定されている。高電圧供給端子４４が位置する側のハウジング本体２０ｅの開口部は、蓋部２０ｆ及びＣ形止め輪２０ｉなどにより液密に閉塞されている。

図２は、図１に示したＸ線管装置１０の一部を拡大して示す図であり、ハウジング本体２０ｅと蓋部２０ｆとの間に設けられた被シール部１ａがゴム部材２ａで液密にシールされている状態を示す図である。

図１及び図２に示すように、ハウジング２０は、被シール部１ａを有している。この実施形態において、被シール部１ａは、ハウジング本体２０ｅと蓋部２０ｆとの間に設けられている。被シール部１ａは、環状である。

ゴム部材２ａは被シール部１ａを液密にシールしている。この実施形態において、ゴム部材２ａはＯリングで形成されている。ゴム部材２ａはハウジング本体２０ｅと蓋部２０ｆとの間に設けられている。ゴム部材２ａは、ハウジング２０外部への絶縁油７の漏れを防止する機能を有している。なお、絶縁油７は、蓋部２０ｆの周縁部とハウジング本体２０ｅの段差部との間の隙間から被シール部１ａに流出し得る。

ゴム部材２ａは絶縁油７の存在する空間に位置し、絶縁油７に接している。ゴム部材２ａは硫黄加硫ゴムで形成されている。ゴム部材２ａは、ハウジング２０外部への絶縁油７の漏れを防止する機能を保持することができる。

後述する高電圧供給端子５４が位置する側のハウジング本体２０ｅの開口部の内周面には、環状の溝部が形成されている。蓋部２０ｇはハウジング本体２０ｅの内部に位置している。蓋部２０ｈは蓋部２０ｇに対向している。蓋部２０ｇは、絶縁油７が出入りする開口部２０ｋを有している。蓋部２０ｈには、雰囲気としての空気が出入りする通気孔２０ｍが形成されている。

ハウジング本体２０ｅの上記溝部にはＣ形止め輪２０ｊが嵌合されている。Ｃ形止め輪２０ｊは、蓋部２０ｈがゴム部材２ｂの周縁部（シール部）へ応力を加えている状態を保持している。ゴム部材２ｂのシール部はＯリングのように形成されている。上記のことから、高電圧供給端子５４が位置する側のハウジング本体２０ｅの開口部は、蓋部２０ｇ、蓋部２０ｈ、Ｃ形止め輪２０ｊ及びゴム部材２ｂなどにより液密に閉塞されている。

図３は、図１に示したＸ線管装置１０の一部を拡大して示す他の図であり、ハウジング本体２０ｅと蓋部２０ｇと蓋部２０ｈとの間に設けられた被シール部１ｂがゴム部材２ｂの周縁部でシールされている状態を示す図である。

図１及び図３に示すように、ハウジング２０は、被シール部１ｂを有している。この実施形態において、被シール部１ｂは、ハウジング本体２０ｅと蓋部２０ｇと蓋部２０ｈとの間に設けられている。被シール部１ｂは環状である。

ゴム部材２ｂのシール部は、被シール部１ｂを液密にシールしている。ゴム部材２ｂのシール部は、ハウジング本体２０ｅと蓋部２０ｇと蓋部２０ｈとの間に設けられている。ゴム部材２ｂは、ハウジング２０外部への絶縁油７の漏れを防止する機能を有している。なお、ゴム部材２ｂは絶縁油７の存在する空間に位置している。

この実施形態において、ゴム部材２ｂはゴムベローズ（ゴム膜）であり、絶縁油７に接している。ゴム部材２ｂは、ハウジング２０内において、蓋部２０ｇ及び蓋部２０ｈで囲まれた領域を、第１空間と、第２空間とに仕切っている。第１空間は、開口部２０ｋと繋がった空間であり、絶縁油７が存在する空間である。第２空間は、通気孔２０ｍと繋がった空間であり、外気が存在する空間である。ゴム部材２ｂは、絶縁油７の体積変化を吸収し、絶縁油７の圧力調整を行っている。ゴム部材２ｂは硫黄加硫ゴムで形成されている。

図４は、図１に示したＸ線管装置１０の一部を拡大して示す他の図であり、ハウジング本体２０ｅとＸ線放射窓２０ｗとの間に設けられた被シール部１ｃがゴム部材２ｃでシールされている状態を示す図である。

図１及び図４に示すように、ハウジング本体２０ｅは、Ｘ線透過領域Ｒ１に対向したＸ線放射口２０ｏを有している。Ｘ線放射口２０ｏは、ハウジング本体２０ｅの一部を貫通して形成されている。ハウジング２０は、Ｘ線放射窓２０ｗを有している。Ｘ線放射窓２０ｗは、Ｘ線を透過しハウジング２０外部に放射する。

なお、後述するＸ線遮蔽部５２０及び５４０は、Ｘ線放射口２０ｏにおけるハウジング２０外部へのＸ線の放射を妨げることのないように設けられている。このため、Ｘ線遮蔽部５４０は、Ｘ線放射口２０ｏの側縁に設けられている。

Ｘ線放射窓２０ｗは、ハウジング２０の外側に位置している。Ｘ線放射窓２０ｗは、機械的強度の高い材料を利用して形成することができる。この実施形態において、Ｘ線放射窓２０ｗは、アルミニウムを利用して形成されているが、他の金属材料や樹脂などを利用して形成することも可能である。Ｘ線放射窓２０ｗは凹型形状を有し、Ｘ線管３０とＸ線放射窓２０ｗとの間隔の低減を図っている。

Ｘ線放射窓２０ｗに対向したハウジング本体２０ｅの外壁には、取付け面が形成されている。Ｘ線放射口２０ｏを囲むようにハウジング本体２０ｅの取付け面には枠状の溝部が形成されている。Ｘ線放射窓２０ｗは、上記取付け面に対向した状態で、上記取付け面に接触され、締め具としてのねじ２０ｓによりハウジング本体２０ｅに締め付けられている。ねじ２０ｓは、Ｘ線放射窓２０ｗに形成された貫通孔を通り、ハウジング本体２０ｅに形成されたねじ穴に締め付けられている。Ｘ線放射窓２０ｗはＸ線放射口２０ｏを閉塞している。

ハウジング２０は、被シール部１ｃを有している。この実施形態において、被シール部１ｃは、ハウジング本体２０ｅとＸ線放射窓２０ｗとの間に設けられている。被シール部１ｃは、枠状である。

ゴム部材２ｃは被シール部１ｃを液密にシールしている。この実施形態において、ゴム部材２ｃはＯリングで形成されている。ゴム部材２ｃは、ハウジング本体２０ｅの取付け面に形成された溝部に設けられている。ゴム部材２ｃは、ハウジング２０外部への絶縁油７の漏れを防止する機能を有している。なお、絶縁油７は、ハウジング本体２０ｅとＸ線放射窓２０ｗとの間の隙間から被シール部１ｃに流出し得る。ゴム部材２ｃは絶縁油７の存在する空間に位置している。ゴム部材２ｃは硫黄加硫ゴムで形成されている。

図５は、図１に示したＸ線管３０を示す断面図である。
図１及び図５に示すように、Ｘ線管３０は、真空外囲器３１を備えている。真空外囲器３１は、真空容器３２を有している。真空容器３２は、例えば、ガラス、又は銅、ステンレス及びアルミニウム等の金属で形成されている。この実施形態において、真空容器３２はガラスで形成されている。なお、真空容器３２を金属で形成する場合、真空容器３２は、Ｘ線透過領域Ｒ１に対向した開口を有している。そして、真空容器３２の開口は、Ｘ線を透過する材料としてのベリリウムで形成されたＸ線透過窓で気密に閉塞されている。真空外囲器３１の一部は、高電圧絶縁部材５０で形成されている。本実施形態において、高電圧絶縁部材５０は、電気絶縁性のセラミクスで形成されている。

Ｘ線管３０は、陽極ターゲット３５及び陰極３６を有している。
陽極ターゲット３５は、真空外囲器３１内に設けられている。陽極ターゲット３５は、円盤状に形成されている。陽極ターゲット３５は、この陽極ターゲットの外面の一部に設けられた傘状のターゲット層３５ａを有している。ターゲット層３５ａは、陰極３６から照射される電子が衝突されることによりＸ線を放出する。陽極ターゲット３５は、モリブデンなどの金属で形成されている。

陽極ターゲット３５の外側面や、陽極ターゲット３５でのターゲット層３５ａとは反対側の表面には、黒色化処理が施されている。ターゲット層３５ａは、モリブデン、モリブデン合金、タングステン合金等の金属で形成されている。陽極ターゲット３５は、管軸を中心に回転自在である。このため、陽極ターゲット３５の軸線は、管軸と平行である。

陰極３６は、真空外囲器３１内に設けられている。陰極３６は、陽極ターゲット３５に照射する電子を放出する。陰極３６には相対的に負の電圧が印加される。低膨張合金であるＫＯＶ部材５５は、真空外囲器３１内で高電圧供給端子５４を覆っている。ここでは、高電圧供給端子５４と高電圧絶縁部材５０の間と、ＫＯＶ部材５５と高電圧絶縁部材５０の間は、それぞれろう付けされている。ＫＯＶ部材５５には、陰極支持部材３７が取付けられている。陰極３６は、陰極支持部材３７に取付けられている。

高電圧供給端子５４は、陰極支持部材３７の内部を通って陰極３６に接続されている。高電圧供給端子５４は、陰極３６に相対的に負の電圧を印加するともに陰極３６の図示しないフィラメント（電子放出源）にフィラメント電流を供給するものである。

Ｘ線管３０は、固定軸１１、回転体１２、軸受け１３及びロータ１４を備えている。固定軸１１は、円柱状に形成されている。固定軸１１の外周の一部には突出部が形成され、突出部は真空外囲器３１に気密に取付けられている。固定軸１１には、高電圧供給端子４４が電気的に接続されている。固定軸１１は回転体１２を回転可能に支持する。回転体１２は、筒状に形成され、固定軸１１と同軸的に設けられている。回転体１２の外面にロータ１４が取り付けられている。回転体１２には、陽極ターゲット３５が取付けられている。軸受け１３は、固定軸１１と回転体１２の間に形成されている。回転体１２は、陽極ターゲット３５とともに回転可能に設けられている。高電圧供給端子４４は、固定軸１１、軸受け１３及び回転体１２を介して陽極ターゲット３５に相対的に正の電圧を印加する。この実施形態において、高電圧供給端子４４及び高電圧供給端子５４は、金属端子である。

Ｘ線管３０の固定軸１１は高電圧絶縁部材６にも固定されている。高電圧絶縁部材６はハウジング２０に、直接又はステータコイル９などを介して間接的に固定されている。高電圧絶縁部材６は、一端が円錐形をし、他端が閉塞した管状に形成されている。高電圧絶縁部材６は、固定軸１１と、ハウジング２０及びステータコイル９との間を電気的に絶縁するものである。

図１及び図４に示すように、Ｘ線管装置１０は、鉛で形成されたＸ線遮蔽部５１０、５２０、５３０、５４０をさらに備えている。これらのＸ線遮蔽部は、少なくとも鉛を含むＸ線不透過材で形成されていればよく、鉛合金等で形成されていてもよい。

図１に示すように、Ｘ線遮蔽部５１０は、管軸に沿った方向にターゲット層３５ａと対向したハウジング２０の一端側に設けられている。Ｘ線遮蔽部５１０は、ターゲット層３５ａから放射されるＸ線を遮蔽するものである。Ｘ線遮蔽部５１０は、第１遮蔽部５１１及び第２遮蔽部５１２を有している。

第１遮蔽部５１１は、管軸に沿った方向にターゲット層３５ａと対向した側の蓋部２０ｇに貼り付けられている。第１遮蔽部５１１は、蓋部２０ｇ全体を覆っている。第１遮蔽部５１１は、開口部２０ｋと対向した個所が開口して形成され、開口部２０ｋによる絶縁油７の出入りを維持している。

保護膜３ａは、第１遮蔽部５１１の表面に設けられ、絶縁油７に接している。この実施形態において、保護膜３ａは、第１遮蔽部５１１の表面全体（両面）に設けられ、第１遮蔽部５１１を完全に覆っている。保護膜３ａは、第１遮蔽部５１１の上記開口の状態が損なわれないように形成されている。保護膜３ａは、メルカプトシランカップリング剤で形成されているため、第１遮蔽部５１１の鉛と、絶縁油７中に溶出した硫黄成分との反応を抑制（又は防止）することができる。

保護膜３ａは第１遮蔽部５１１（鉛）に対する高い密着性を有し、保護膜３ａの膜厚は１０μｍ以下と薄い。このため、予め保護膜３ａが形成された第１遮蔽部５１１をハウジング２０の内面（蓋部２０ｇ表面）に沿わせて貼り付ける作業を行っても、保護膜３ａが剥離する恐れはない。

メルカプトシランカップリング剤の例としては、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズのＡ−１８９（メルカプトプロピルトリメトキシシラン）を挙げることができる。上記メルカプトシラン系カップリング剤を利用することにより、強固な保護膜３ａを形成することができる。これは、メルカプトシラン系カップリング剤に含まれるメルカプト基が第１遮蔽部５１１の鉛と反応するためであり、反応物により連続性の保護膜が形成されるためである。

第２遮蔽部５１２は、第１遮蔽部５１１上に設けられている。第２遮蔽部５１２は、開口部２０ｋ付近からハウジング２０の外部に出射する恐れのあるＸ線を遮蔽するものである。

保護膜３ｂは、第２遮蔽部５１２の表面に設けられ、絶縁油７に接している。この実施形態において、保護膜３ｂは、第２遮蔽部５１２の表面全体（両面）に設けられ、第２遮蔽部５１２を完全に覆っている。保護膜３ｂは、メルカプトシランカップリング剤で形成されているため、第２遮蔽部５１２の鉛と、絶縁油７中に溶出した硫黄成分との反応を抑制（又は防止）することができる。

保護膜３ｂは第２遮蔽部５１２（鉛）に対する高い密着性を有し、保護膜３ｂの膜厚は１０μｍ以下と薄い。このため、予め保護膜３ｂが形成された第２遮蔽部５１２を第１遮蔽部５１１に貼り付ける作業を行っても、保護膜３ｂが剥離する恐れはない。

Ｘ線遮蔽部５２０は円筒状に形成されている。Ｘ線遮蔽部５２０の一端部は、第１遮蔽部５１１に近接している。このため、Ｘ線遮蔽部５１０及びＸ線遮蔽部５２０間の隙間から出射する恐れのあるＸ線を遮蔽することができる。

Ｘ線遮蔽部５２０は、筒状に形成され、管軸に沿って第１遮蔽部５１１から陽極ターゲット３５（ターゲット層３５ａの表面の延長線上）を越える位置まで延出している。この実施形態において、Ｘ線遮蔽部５２０は、第１遮蔽部５１１からステータコイル９の手前まで延出している。Ｘ線遮蔽部５２０は、必要に応じてハウジング２０に固定されている。ここでは、Ｘ線遮蔽部５２０は、ハウジング本体２０ｅの内壁に形成された突出部に固定されている。なお、上記突出部は、Ｘ線遮蔽部５２０の位置決めにも利用されている。

保護膜３ｃは、Ｘ線遮蔽部５２０の表面に設けられ、絶縁油７に接している。この実施形態において、保護膜３ｃは、Ｘ線遮蔽部５２０の表面全体（両面）に設けられ、Ｘ線遮蔽部５２０を完全に覆っている。保護膜３ｃは、メルカプトシランカップリング剤で形成されているため、Ｘ線遮蔽部５２０の鉛と、絶縁油７中に溶出した硫黄成分との反応を抑制（又は防止）することができる。

保護膜３ｃはＸ線遮蔽部５２０（鉛）に対する高い密着性を有し、保護膜３ｃの膜厚は１０μｍ以下と薄い。このため、予め保護膜３ｃが形成された筒状のＸ線遮蔽部５２０をハウジング本体２０ｅ内に挿入してもよいが、予め保護膜３ｃが形成された鉛部材をハウジング本体２０ｅの内面に沿わせて貼り付ける作業を行い、保護膜３ｃが形成されたＸ線遮蔽部５２０を形成してもよい。保護膜３ｃが剥離する恐れがないためである。

Ｘ線遮蔽部５３０は、筒状に形成され、ハウジング２０の筒部２０ｒ内に設けられている。Ｘ線遮蔽部５３０の一端部は、Ｘ線遮蔽部５２０に近接している。Ｘ線遮蔽部５３０は、必要に応じて筒部２０ｒに固定されている。ここでは、Ｘ線遮蔽部５３０は、筒部２０ｒの内壁に形成された突出部に固定されている。なお、上記突出部は、Ｘ線遮蔽部５３０の位置決めにも利用されている。このため、筒部２０ｒから出射する恐れのあるＸ線を遮蔽することができる。

保護膜３ｄは、Ｘ線遮蔽部５３０の表面に設けられ、絶縁油７に接している。この実施形態において、保護膜３ｄは、Ｘ線遮蔽部５３０の表面全体（両面）に設けられ、Ｘ線遮蔽部５３０を完全に覆っている。保護膜３ｄは、メルカプトシランカップリング剤で形成されているため、Ｘ線遮蔽部５３０の鉛と、絶縁油７中に溶出した硫黄成分との反応を抑制（又は防止）することができる。

保護膜３ｄはＸ線遮蔽部５３０（鉛）に対する高い密着性を有し、保護膜３ｄの膜厚は１０μｍ以下と薄い。このため、予め保護膜３ｄが形成された筒状のＸ線遮蔽部５３０を筒部２０ｒ内に挿入してもよいが、予め保護膜３ｄが形成された鉛部材を筒部２０ｒの内面に沿わせて貼り付ける作業を行い、保護膜３ｄが形成されたＸ線遮蔽部５３０を形成してもよい。保護膜３ｄが剥離する恐れがないためである。

Ｘ線遮蔽部５４０は、枠状に形成され、ハウジング２０のＸ線放射口２０ｏの側縁に設けられている。Ｘ線遮蔽部５４０の一端部は、Ｘ線遮蔽部５２０に近接している。Ｘ線遮蔽部５４０は、必要に応じてＸ線放射口２０ｏの側縁に固定されている。

保護膜３ｅは、Ｘ線遮蔽部５４０の表面に設けられ、絶縁油７に接している。この実施形態において、保護膜３ｅは、Ｘ線遮蔽部５４０の表面全体（両面）に設けられ、Ｘ線遮蔽部５４０を完全に覆っている。保護膜３ｅは、メルカプトシランカップリング剤で形成されているため、Ｘ線遮蔽部５４０の鉛と、絶縁油７中に溶出した硫黄成分との反応を抑制（又は防止）することができる。

保護膜３ｅはＸ線遮蔽部５４０（鉛）に対する高い密着性を有し、保護膜３ｅの膜厚は１０μｍ以下と薄い。このため、予め保護膜３ｅが形成された枠状のＸ線遮蔽部５４０をＸ線放射口２０ｏの側縁に貼り付ける作業を行っても、保護膜３ｅが剥離する恐れはない。

図１及び図５に示すように、Ｘ線管３０とハウジング２０との間に保持部材８、及びゴム部材２ｄ、２ｅが設けられている。Ｘ線管装置１０は、複数のゴム部材２ｄ、２ｅを有している。この実施形態において、Ｘ線管装置１０は、３個のゴム部材２ｄと３個のゴム部材２ｅとを有している。ゴム部材２ｄは等間隔に位置し、ゴム部材２ｅも等間隔に位置している。
保持部材８は、環状に形成され、Ｘ線管３０及びハウジング２０にそれぞれ離間して位置している。保持部材８は、機械的強度の高い樹脂材料で形成されている。

ゴム部材２ｄは、保持部材８に取付けられ、ハウジング２０の内壁に接触している。この実施形態において、ゴム部材２ｄはＸ線遮蔽部５２０に接触している。ゴム部材２ｅは、保持部材８に取付けられ、Ｘ線管３０（真空外囲器３１）の外面に接触している。保持部材８及びゴム部材２ｄ、２ｅは、管軸に直交した方向におけるハウジング２０に対するＸ線管３０の位置ずれを防止している。ゴム部材２ｄ、２ｅは、Ｘ線管３０に生じる振動のハウジング２０への伝達量を軽減する。ゴム部材２ｄ、２ｅは絶縁油７の存在する空間に位置している。ゴム部材２ｄ、２ｅはそれぞれ硫黄加硫ゴムで形成されている。

ステータコイル９は、複数個所でハウジング２０に固定されている。ステータコイル９は、高電圧絶縁部材６に対してＸ線管３０の反対側に位置している。ステータコイル９は、ロータ１４の外面に対向して真空外囲器３１の外側を囲んでいる。

ステータコイル９は、ロータ１４、回転体１２及び陽極ターゲット３５を回転させるものである。ステータコイル９に所定の電流が供給されることでロータ１４に与える磁界を発生するため、陽極ターゲット３５などが所定の速度で回転される。
絶縁油７は、Ｘ線管３０が発生する熱の少なくとも一部を吸収するものである。

Ｘ線管装置１０は、陽極用のリセプタクル３００及び陰極用のリセプタクル４００を有している。リセプタクル３００は、ハウジング２０の筒部２０ｑの内部に位置し、筒部２０ｑに取付けられている。リセプタクル４００は、ハウジング２０の筒部２０ｒの内部に位置し、筒部２０ｒに取付けられている。

リセプタクル３００は、電気絶縁部材としてのハウジング３０１と、高電圧供給端子としての端子３０２とを有している。
ハウジング３０１は、筒部２０ｑ（ハウジング２０）の外側に開口した桶状に形成されている。ハウジング３０１は、ほぼ軸対称なコップ形状であると言うことができる。また、ハウジング３０１のプラグ差込口がハウジング２０の外側に開口していると言うことができる。

ハウジング３０１の開口側の端部において、ハウジング３０１の外面には、環状の突出部が形成されている。ハウジング３０１は、絶縁性の材料として、例えば樹脂で形成されている。端子３０２は、ハウジング３０１の底部に液密に取付けられ、上記底部を貫通している。端子３０２は絶縁被覆配線を介して高電圧供給端子４４と接続されている。

筒部２０ｑの段差部には、雌ねじの加工がなされている。リングナット３１０は、側面に雄ねじの加工がなされている。リングナット３１０は、筒部２０ｑの段差部に締め付けられ、ハウジング３０１を押圧している。

リセプタクル３００及びリセプタクル３００に挿入される図示しないプラグは、非面圧式であり、着脱可能に形成されている。プラグをリセプタクル３００に連結した状態で、プラグから端子３０２に高電圧（例えば、＋７０〜＋８０ｋＶ）が供給される。

リセプタクル４００は、リセプタクル３００と同様に形成されている。
リセプタクル４００は、電気絶縁部材としてのハウジング４０１と、高電圧供給端子としての端子４０２とを有している。

ハウジング４０１は、筒部２０ｒ（ハウジング２０）の外側に開口した桶状に形成されている。ハウジング４０１は、ほぼ軸対称なコップ形状であると言うことができる。また、ハウジング４０１のプラグ差込口がハウジング２０の外側に開口していると言うことができる。

ハウジング４０１の開口側の端部において、ハウジング４０１の外面には、環状の突出部が形成されている。ハウジング４０１は、絶縁性の材料として、例えば樹脂で形成されている。端子４０２は、ハウジング４０１の底部に液密に取付けられ、上記底部を貫通している。端子４０２は絶縁被覆配線を介して高電圧供給端子５４と接続されている。

筒部２０ｒの段差部には、雌ねじの加工がなされている。リングナット４１０は、側面に雄ねじの加工がなされている。リングナット４１０は、筒部２０ｒの段差部に締め付けられ、ハウジング４０１を押圧している。

リセプタクル４００及びリセプタクル４００に挿入される図示しないプラグは、非面圧式であり、着脱可能に形成されている。プラグをリセプタクル４００に連結した状態で、プラグから端子４０２に高電圧（例えば、−７０〜−８０ｋＶ）が供給される。

図６は、図１に示したＸ線管装置１０の一部を拡大して示す他の図であり、筒部２０ｑとリセプタクル３００との間に設けられた被シール部１ｆがゴム部材２ｆでシールされている状態を示す図である。

図１及び図６に示すように、被シール部１ｆは、筒部２０ｑとリセプタクル３００との間に設けられている。被シール部１ｆは、枠状である。ゴム部材２ｆは被シール部１ｆを液密にシールしている。この実施形態において、ゴム部材２ｆはＯリングで形成されている。ゴム部材２ｆは、ハウジング２０外部への絶縁油７の漏れを防止する機能を有している。なお、絶縁油７は、ハウジング３０１と筒部２０ｑとの間の隙間から被シール部１ｆに流出し得る。ゴム部材２ｆは絶縁油７の存在する空間に位置している。ゴム部材２ｆは硫黄加硫ゴムで形成されている。

なお、ゴム部材２ｇは、ゴム部材２ｆと同様に硫黄加硫ゴムで形成されている。ゴム部材２ｇは、筒部２０ｒとリセプタクル４００との間に設けられた被シール部を液密にシールしている。
上記のように本実施形態に係るＸ線管装置が形成されている。

このように構成されたＸ線管装置では、ステータコイル９に所定の電流を印加することでロータ１４が回転し、陽極ターゲット３５が回転する。次に、リセプタクル３００、４００に所定の高電圧を印加する。

リセプタクル３００に印加された高電圧は、高電圧供給端子４４、固定軸１１、軸受け１３及び回転体１２を介して陽極ターゲット３５に供給される。リセプタクル４００に印加された高電圧は、高電圧供給端子５４を介して陰極３６に供給される。

これにより、陰極３６から放出された電子は陽極ターゲット３５のターゲット層３５ａに衝突し、陽極ターゲット３５からＸ線が放射される。Ｘ線は、真空容器３２（又はＸ線透過窓）及びＸ線放射窓２０ｗを通ってハウジング２０の外部へ放射される。

次に、本実施形態に係るＸ線管装置の製造方法について説明する。ここでは、上記保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅの製造方法について説明する。
保護膜を形成する際、メルカプトシランカップリング剤の原液を用意する。原液自体が低粘度の液体だからである。または、メルカプトシランカップリング剤がイソプロピルアルコール等で希釈された混合液を用意してもよい。製造コストを抑制できるためである。上記混合液としては、メルカプトシランカップリング剤が１容量％以上の濃度割合に希釈された液体を用意することが望ましい。１容量％より小さい濃度であると保護膜の厚みにムラが生じ、保護効果のない厚みが薄い個所が形成され易いためである。

次いで、メルカプトシランカップリング剤の原液又は混合液を用いてＸ線遮蔽部（鉛部材）の表面に保護膜を形成する。これにより、保護膜が完成する。上記のように、メルカプトシランカップリング剤の原液及び混合液は低粘度液体であるため、作業性に非常に優れたコーティングを実施することができる。

コーティングを実施する際、Ｘ線遮蔽部（鉛部材）の表面に上記原液又は混合液をはけで塗布する方法を採用したり、上記原液又は混合液にＸ線遮蔽部を浸漬して引き上げる方法を採用したり、上記原液又は混合液をＸ線遮蔽部にかけ流す方法を採用したり、上記原液又は混合液をＸ線遮蔽部にスプレーする方法を採用したりすることができる。

上記のように構成された第１の実施形態に係るＸ線管装置１０及びＸ線管装置１０の製造方法によれば、Ｘ線管装置１０は、Ｘ線管３０と、ハウジング２０と、絶縁油７と、絶縁油７に接する鉛部材と、ゴム部材２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇと、保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅと、を備えている。鉛部材としては、Ｘ線遮蔽部５１０、５２０、５０３、５４０を挙げることができる。

ゴム部材は、硫黄加硫ゴムで形成され、絶縁油７の存在する空間に位置し、絶縁油７に浸り又は接している。ゴム部材から絶縁油７中へ硫黄成分が溶け出すため、上記溶け出した硫黄成分と鉛部材（Ｘ線遮蔽部）とが反応し、鉛部材が腐食し、絶縁油７中に浮遊異物が生成されることが懸念される。

しかしながら、この実施形態において、Ｘ線遮蔽部の表面に保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅが設けられている。保護膜をＸ線遮蔽部の表面に比較的短時間で設けることができ、また、保護膜が剥離する恐れはない。保護膜は、Ｘ線遮蔽部と絶縁油７中に溶出した硫黄成分との反応を抑制又は防止することができる。

絶縁油７中に硫黄成分が溶け出す硫黄加硫ゴムを使用する場合であっても、保護膜により、硫黄成分と鉛との反応を防止することができる。これにより、絶縁油７に接する（浸る）Ｘ線遮蔽部の腐食を防止することができる。絶縁油７中に鉛を主成分の１つとする浮遊異物が生成されたり、鉛を主成分の１つとする堆積物が金属部材に形成されたりすることを防止できる。このため、Ｘ線画像へのアーチファクトの発生や、利用Ｘ線の透過度の低下を防止することができる。

また、部品数の面において、鉛部材の個数はゴム部材の個数より少ない。本実施形態では相対的に部品数の少ない鉛部材に上記反応を防止する対策を施すことができるため、ゴム部材に上記反応を防止する対策を施す場合に比べて作業効率の向上を図ることができる。

上記のことから、絶縁油７中に置かれる鉛部材の腐食に伴う異物発生を低コストで低減又は防止することができ、長期にわたって高い信頼性を維持することができるＸ線管装置１０及びＸ線管装置１０の製造方法を得ることができる。

次に、第２の実施形態に係るＸ線管装置及びＸ線管装置の製造方法について詳細に説明する。この実施形態において、上述した第１の実施形態と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。図７は、第２の実施形態に係るＸ線管装置を概略的に示す断面図であり、両面（全面）に保護膜が設けられたＸ線遮蔽部がハウジングに取り付けられ、Ｘ線遮蔽部が保護皮膜で被覆されている状態を示す図である。

図７に示すように、本実施形態において、保護膜だけでなく、保護皮膜４も利用している。保護皮膜４は、有機材料で形成され、保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅの表面を被覆している。保護膜が絶縁油７に接する（浸る）ことがないように、保護皮膜４が形成されている。保護皮膜４は、保護膜が形成されたＸ線遮蔽部をハウジング２０内に取り付けられた状態で形成することができる。または、Ｘ線遮蔽部をハウジング２０内に取り付ける前に、保護膜が形成されたＸ線遮蔽部に、予め保護皮膜４を形成することもできる。保護皮膜４の膜厚は２０μｍ以下とした方が好ましい。膜厚が２０μｍを超えると、ハウジング２０内に取付ける際の曲げ変形によって剥離する恐れが高くなるためである。

保護皮膜４に利用する有機材料としては、エポキシシランカップリング剤を挙げることができる。エポキシシランカップリング剤の例としては、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズのエポキシシラン系カップリング剤であるＡ−１８７を挙げることができる。

また、従来のような２液混合型の高粘度塗装液ではなく、１液型で、低粘度の塗装液を使用することにより作業性を改善することができる。例えば、塗装液としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズのエポキシ樹脂コーティング剤であるＭＥ１５１を使用することができる。

ＭＥ１５１はアルコールで稀釈した低粘度液体であるため、保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅの表面にＭＥ１５１をはけで塗布する方法を採用したり、ＭＥ１５１に保護膜が形成されたＸ線遮蔽部を浸漬して引き上げる方法を採用したり、ＭＥ１５１を保護膜にかけ流す方法を採用したり、ＭＥ１５１を保護膜にスプレーする方法を採用したりすることができる。

保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅのみを用いた場合におけるバリア層の機能に比べ、保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅと保護皮膜４とを併用した場合におけるバリア層の機能を高めることができる。また、Ｘ線遮蔽部の表面に、直接、２液混合型のエポキシ樹脂塗装を行う場合に比べて、より密着性の高い保護皮膜４を得ることができる。

上記のように構成された第２の実施形態に係るＸ線管装置１０及びＸ線管装置１０の製造方法によれば、Ｘ線管装置１０は、Ｘ線管３０と、ハウジング２０と、絶縁油７と、絶縁油７に接する鉛部材と、ゴム部材２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇと、保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅと、保護皮膜４と、を備えている。

この実施形態において、Ｘ線遮蔽部の表面に保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ及び保護皮膜４が二重に設けられている。保護膜及び保護皮膜４は、Ｘ線遮蔽部と絶縁油７中に溶出した硫黄成分との反応を一層抑制又は防止することができる。

上記のことから、絶縁油７中に置かれる鉛部材の腐食に伴う異物発生を低コストで低減又は防止することができ、長期にわたって高い信頼性を維持することができるＸ線管装置１０及びＸ線管装置１０の製造方法を得ることができる。

次に、第３の実施形態に係るＸ線管装置及びＸ線管装置の製造方法について詳細に説明する。この実施形態において、上述した第１の実施形態と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。図８は、第３の実施形態に係るＸ線管装置を概略的に示す断面図であり、ハウジングに取り付けられたＸ線遮蔽部の片面（ハウジングに取り付けられる面の反対側の面）に保護膜が設けられている状態を示す図である。

図８に示すように、第１遮蔽部５１１は、接着剤により蓋部２０ｇに貼り付けられている。第２遮蔽部５１２は、接着剤により第１遮蔽部５１１上に直に取り付けられている。第１遮蔽部５１１が蓋部２０ｇに貼り付けられ、第２遮蔽部５１２が第１遮蔽部５１１上に設けられている状態で、第１遮蔽部５１１は保護膜３ａで覆われ、第２遮蔽部５１２は保護膜３ｂで覆われている。

この実施形態において、保護膜３ａ及び保護膜３ｂは、同一材料で同時に形成することができる。保護膜３ａ及び保護膜３ｂは、第１遮蔽部５１１の表面及び第２遮蔽部５１２の表面のうち少なくとも絶縁油７に接する恐れのある領域に設けられていればよい。

Ｘ線遮蔽部５２０は、接着剤によりハウジング本体２０ｅに貼り付けられている。Ｘ線遮蔽部５３０は、接着剤によりハウジング２０の筒部２０ｒに貼り付けられている。図示しないが、Ｘ線遮蔽部５４０は、接着剤によりＸ線放射口２０ｏ（図４）の側縁に貼り付けられている。Ｘ線遮蔽部５２０、Ｘ線遮蔽部５３０及びＸ線遮蔽部５４０がハウジング２０に貼り付けられている状態で、Ｘ線遮蔽部５２０は保護膜３ｃで覆われ、Ｘ線遮蔽部５３０は保護膜３ｄで覆われ、Ｘ線遮蔽部５４０は保護膜３ｅで覆われている。

この実施形態において、保護膜３ｃ、保護膜３ｄ及び保護膜３ｅは、同一材料で同時に形成することができる。保護膜３ｃ、保護膜３ｄ及び保護膜３ｅは、Ｘ線遮蔽部５２０の表面、Ｘ線遮蔽部５３０の表面及びＸ線遮蔽部５４０の表面のうち少なくとも絶縁油７に接する恐れのある領域に設けられていればよい。

上記のように構成された第３の実施形態に係るＸ線管装置１０及びＸ線管装置１０の製造方法によれば、Ｘ線管装置１０は、Ｘ線管３０と、ハウジング２０と、絶縁油７と、絶縁油７に接する鉛部材と、ゴム部材２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇと、保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅと、を備えている。鉛部材としては、Ｘ線遮蔽部５１０、５２０、５０３、５４０を挙げることができる。

この実施形態において、Ｘ線遮蔽部の絶縁油７に面する表面に保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅが設けられている。保護膜は、Ｘ線遮蔽部のうち少なくとも絶縁油７に接する恐れのある領域に設けられているため、Ｘ線遮蔽部と絶縁油７中に溶出した硫黄成分との反応を抑制又は防止することができる。

上記のことから、絶縁油７中に置かれる鉛部材の腐食に伴う異物発生を低コストで低減又は防止することができ、長期にわたって高い信頼性を維持することができるＸ線管装置１０及びＸ線管装置１０の製造方法を得ることができる。

次に、第４の実施形態に係るＸ線管装置及びＸ線管装置の製造方法について詳細に説明する。この実施形態において、上述した第２及び第３の実施形態と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。図９は、第４の実施形態に係るＸ線管装置を概略的に示す断面図であり、ハウジングに取り付けられたＸ線遮蔽部の片面（ハウジングに取り付けられる面の反対側の面）に保護膜が設けられ、保護膜が保護皮膜で被覆されている状態を示す図である。

図９に示すように、本実施形態において、保護膜だけでなく、保護皮膜４も利用している。保護皮膜４は、有機材料で形成され、保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅの表面を被覆している。保護膜が絶縁油７に接する（浸る）ことがないように、保護皮膜４が形成されている。保護皮膜４は、Ｘ線遮蔽部がハウジング２０に取り付けられ、保護膜がＸ線遮蔽部に形成された状態で形成することができる。

上記のように構成された第４の実施形態に係るＸ線管装置１０及びＸ線管装置１０の製造方法によれば、Ｘ線管装置１０は、Ｘ線管３０と、ハウジング２０と、絶縁油７と、絶縁油７に接する鉛部材と、ゴム部材２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇと、保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅと、保護皮膜４と、を備えている。

この実施形態において、Ｘ線遮蔽部の表面に保護膜３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ及び保護皮膜４が二重に設けられている。保護膜及び保護皮膜４は、Ｘ線遮蔽部と絶縁油７中に溶出した硫黄成分との反応を一層抑制又は防止することができる。

上記のことから、絶縁油７中に置かれる鉛部材の腐食に伴う異物発生を低コストで低減又は防止することができ、長期にわたって高い信頼性を維持することができるＸ線管装置１０及びＸ線管装置１０の製造方法を得ることができる。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

例えば、鉛部材やゴム部材は、上述した例に限定されるものではない。絶縁油７に接する各種の鉛部材が上述した対策１、２、３、４の何れかを採ることにより、上述した効果を得ることができる。
本発明の実施形態は、上述したＸ線管装置１０に限定されるものではなく、固定陽極型のＸ線管装置など、各種のＸ線管装置に適用可能である。

２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆ，２ｇ…ゴム部材、３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅ…保護膜、４…保護皮膜、７…絶縁油、１０…Ｘ線管装置、２０…ハウジング、２０ｅ…ハウジング本体、２０ｆ，２０ｇ，２０ｈ…蓋部、２０ｗ…Ｘ線放射窓、２０ｒ，２０ｑ…筒部、３０…Ｘ線管、５１０，５２０，５３０，５４０…Ｘ線遮蔽部、５１１…第１遮蔽部、５１２…第２遮蔽部。

Claims (3)

1. Ｘ線を放射するＸ線管と、
   前記Ｘ線管を収容するハウジングと、
   前記Ｘ線管と前記ハウジングとの間の空間に充填される絶縁油と、
   硫黄加硫ゴムで形成され、前記絶縁油の存在する空間に位置したゴム部材と、
   前記絶縁油の存在する空間に位置した鉛部材と、
   前記鉛部材の表面に設けられ、メルカプトシランカップリング剤で形成され、前記鉛部材と前記ゴム部材から前記絶縁油中に溶出した硫黄成分との反応を抑制する保護膜と、を備えていることを特徴とするＸ線管装置。
2. 有機材料で形成され、前記保護膜の表面を被覆する保護皮膜をさらに備えている請求項１に記載のＸ線管装置。
3. Ｘ線を放射するＸ線管と、前記Ｘ線管を収容するハウジングと、前記Ｘ線管と前記ハウジングとの間の空間に充填される絶縁油と、硫黄加硫ゴムで形成され、前記絶縁油の存在する空間に位置したゴム部材と、前記絶縁油の存在する空間に位置した鉛部材と、前記鉛部材の表面に設けられ、メルカプトシランカップリング剤で形成され、前記鉛部材と前記ゴム部材から前記絶縁油中に溶出した硫黄成分との反応を抑制する保護膜と、を備えたＸ線管装置の製造方法において、
   前記保護膜を形成する際、
   前記メルカプトシランカップリング剤の原液又は前記メルカプトシランカップリング剤が１容量％以上の濃度割合に希釈された混合液を用意し、
   前記原液又は混合液を用いて前記鉛部材の表面に保護膜を形成するＸ線管装置の製造方法。

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