JP6016252B2 - フィルム、ドープ組成物及びその製造方法 - Google Patents
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Description
けん化工程:KOHの水溶液(KOH濃度は2.0mol/L,温度は55℃)に120秒間浸漬する
第1洗浄工程:純水で15秒間洗浄する
中和工程:H2SO4aq(H2SO4濃度は0.05mol/L,温度は30℃)に20秒間浸漬する
第2洗浄工程:純水で120秒間洗浄する
乾燥工程:100℃の環境下に60秒間置く
けん化工程:KOHの水溶液(KOH濃度は1.5mol/L,温度は55℃)に120秒間浸漬する
第1洗浄工程:純水で15秒間洗浄する
中和工程:H2SO4aq(H2SO4濃度は0.1mol/L,温度は30℃)に20秒間浸漬する
第2洗浄工程:純水で120秒間洗浄する
乾燥工程:120℃の環境下に60秒間置く
けん化工程:KOHの水溶液(KOH濃度は1.1mol/L,温度は35℃)に120秒間浸漬する
第1洗浄工程:純水で15秒間洗浄する
中和工程:H2SO4aq(H2SO4濃度は0.1mol/L,温度は30℃)に20秒間浸漬する
第2洗浄工程:純水で120秒間洗浄する
乾燥工程:120℃の環境下に60秒間置く
〔固形分A〕
トリアセチルセルロース(TAC) 100.0質量部
スクロースベンゾエート 7.5質量部
スクロースアセテートイソブチレート 2.5質量部
紫外線吸収剤 チヌビン(登録商標)928(BASFジャパン(株)製) 2.0質量部
〔固形分B〕
トリアセチルセルロース(TAC) 100.0質量部
ポリエステル可塑剤 25.0質量部
紫外線吸収剤 チヌビン(登録商標)928(BASFジャパン(株)製) 2.0質量部
〔固形分C〕
アクリルポリマー 100.0質量部
〔溶媒〕
メチレンクロライド 330.0質量部
メタノール 64.0質量部
ブタノール 3.0質量部
A:20%未満
B:20%以上30%未満
C:30%以上40%未満
D:40%以上
10a フィルム面
12 フィルム本体
13 表層
14 微粒子
15 突起
20 偏光板
30 溶液製膜設備
31 ドープ調整装置
41 第1ドープ
42 第2ドープ
Claims (6)
- 微粒子を含む高さ30nm以上の突起が、ポリマーからなるフィルム面に面積1mm2あたり104個以上106個以下の範囲内で形成されており、
前記フィルム面をけん化処理した後の前記突起が、前記フィルム面に面積1mm 2 あたり15000個以上10 6 個以下の範囲内で形成されており、
前記ポリマーはセルロースアシレートであり、
前記微粒子はシリカであり、
前記微粒子は日本アエロジル株式会社製のNX90Sであることを特徴とするフィルム。 - けん化処理した後の前記フィルム面に偏光膜が接着されて用いられることを特徴とする請求項1記載のフィルム。
- ポリマーと、
前記ポリマーを溶解する溶媒と、
2次粒子の状態で分散する微粒子とを含み、
前記微粒子の総数に対する2次粒子径が0.7μm以上の前記微粒子の含有割合は少なくとも30%であり、
前記ポリマーは、セルロースアシレートであり、
前記微粒子はシリカであり、
前記微粒子は日本アエロジル株式会社製のNX90Sであることを特徴とするドープ組成物。 - ポリマーと溶媒とを混合して加熱と攪拌との少なくともいずれか一方により、前記ポリマーを前記溶媒に溶解して原料ドープをつくる原料ドープ調製工程と、
前記ポリマー及び前記溶媒と同一の成分であるポリマー及び溶媒と微粒子とを混合し攪拌して液体状の混合物を得る混合物調製工程と、
前記混合物中で前記微粒子を2次粒子として分散させて、0.7μm以上の2次粒子径の前記微粒子の、前記微粒子の総数に対する含有割合が少なくとも30%である微粒子分散液を得る微粒子分散工程と、
前記原料ドープと前記微粒子分散液とを混合してドープ組成物を得る混合工程とを有し、
前記ポリマーは、セルロースアシレートであり、
前記微粒子はシリカであり、
前記微粒子は日本アエロジル株式会社製のNX90Sであることを特徴とするドープ組成物の製造方法。 - 前記微粒子分散工程は、前記混合物に超音波を与えることにより、前記混合物中で前記微粒子を2次粒子として分散させることを特徴とする請求項4記載のドープ組成物の製造方法。
- 前記微粒子分散工程では、ボールミルを用いることにより、前記混合物中で前記微粒子を2次粒子として分散させることを特徴とする請求項4記載のドープ組成物の製造方法。
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