JP5986981B2 - 光透過性導電性フィルム及びそれを有する静電容量型タッチパネル - Google Patents
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Description
項1.
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層(B)の厚さが20nm未満であり、かつ
前記光透過性導電層(B)に隣接する前記光透過性支持層(A)側の面の平均表面粗さRaが0.1〜1nmであることを特徴とする、
光透過性導電性フィルム。
項2.
少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、酸化インジウムを含む、項1に記載の光透過性導電性フィルム。
項3.
さらに、
(C)光透過性下地層
を含有し、かつ
少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が少なくとも前記光透過性下地層(C)を介して前記光透過性支持層(A)の面に配置されている、
項1又は2に記載の光透過性導電性フィルム。
項4.
少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性下地層(C)に隣接して配置されている、項3に記載の光透過性導電性フィルム。
項5.
少なくとも一方の前記光透過性下地層(C)が、ポリシラザン、アクリルシリカハイブリッド、及びSiOx(X=1〜2)からなる群より選択される1種を含む、請求項3又は4に記載の光透過性導電性フィルム。
項6.
少なくとも一方の前記光透過性下地層(C)が、SiOx(X=1〜2)を含む、項3又は4に記載の光透過性導電性フィルム。
項7.
さらに、
(D)ハードコート層を含有し、かつ
少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、少なくとも前記ハードコート層(D)を介して前記光透過性支持層(A)の面に配置されている、
項1又は2に記載の光透過性導電性フィルム。
項8.
さらに、
(D)ハードコート層を含有し、かつ
少なくとも一方の前記光透過性下地層(C)が、少なくとも前記ハードコート層(D)を介して前記光透過性支持層(A)の面に配置されている、
項3〜6のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項9.
少なくとも一方の前記光透過性下地層(C)が、前記ハードコート層(D)に隣接して配置されている、項8に記載の光透過性導電性フィルム。
項10.
項1〜9のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムを含む、静電容量型タッチパネル。
項11.
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層(B)の厚さが20nm未満であり、かつ
前記光透過性導電層(B)に隣接する前記光透過性支持層(A)側の面の平均表面粗さRaが0.1〜1nmであることを特徴とする、
光透過性導電性フィルムの製造方法であって、
平均表面粗さRaが0.1〜1nmである前記面に前記光透過性導電層(B)を配置する工程を含む方法。
本発明の光透過性導電性フィルムは、
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層(B)の厚さが20nm未満であり、かつ
前記光透過性導電層(B)に隣接する前記光透過性支持層(A)側の面の平均表面粗さRaが0.1〜1nmであることを特徴とする、
光透過性導電性フィルムである。
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層(A)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
光透過性導電層(B)は、光透過性支持層(A)の一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに、光透過性下地層(C)を含有し、かつ少なくとも一方の光透過性導電層(B)が少なくとも光透過性下地層(C)を介して光透過性支持層(A)の面に配置されていてもよい。
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに、ハードコート層(D)を含有し、かつ少なくとも一方の光透過性導電層(B)が、少なくともハードコート層(D)を介して光透過性支持層(A)の面に配置されていてもよい。
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、光透過性導電層(B)に加えて、光透過性下地層(C)、ハードコート層(D)及びそれらと異なる少なくとも1種のその他の層(E)からなる群より選択される少なくとも1種の層がさらに配置されていてもよい。
本発明の光透過性導電性フィルムは、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。抵抗膜方式タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率(シート抵抗)が250〜1,000Ω/sq程度は必要であるとされる。これに対して静電容量型タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率が低いほうが有利である。本発明の光透過性導電性フィルムは、抵抗率が低減されており、これにより、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、2で説明する通りである。
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
(1)保護層
(2)本発明の光透過性導電性フィルム(Y軸方向)
(3)絶縁層
(4)本発明の光透過性導電性フィルム(X軸方向)
(5)ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記(1)〜(5)、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層(B)の厚さが20nm未満であり、かつ
前記光透過性導電層(B)に隣接する前記光透過性支持層(A)側の面の平均表面粗さRaが0.1〜1nmであることを特徴とする、
光透過性導電性フィルムの製造方法であって、
平均表面粗さRaが0.1〜1nmである前記面に前記光透過性導電層(B)を配置する工程を含む方法である。
光透過性支持層として、PETを用いた。PET表面上に、アクリルシリカハイブリッド(荒川化学社、コンポセランAC601)の溶液を塗布及び乾燥することにより光透過性下地層を得た。層の厚さは23nm、屈折率(n)は1.48であった。得られた光透過性下地層の平均表面粗さRaを走査型プローブ顕微鏡(株式会社島津製作所、SPM−9700)によって測定したところ、0.7nmであった。
表面抵抗は、表面抵抗計(MITSUBISHI CHEMICAL ANALYTECH社製、商品名:Loresta−EP)を用いて、4端子法により測定した。
膜厚は、大塚電子FE3000で計測した。
全光線透過率は、ヘーズメーター(日本電色社製、商品名:NDH−2000)を用いてJIS−K−7105に基づいて測定した。
反りは10cm角に切りだした光透過性導電性フィルムを用い、次のようにして評価した。水平面の上に、光透過性導電性フィルムを凸面が下側を向く方向に置いた。続いて、光透過性導電性フィルムの四つの角の前記水平面からの高さをそれぞれ測り、それらの平均値をとり、さらにこの平均値を辺の長さ(10cm)で除した値を%で表した値を反りの定量値とした。反りを、次の評価基準で評価した。
(評価基準)
○(良):反りが5%未満
×(悪):反りが5%以上
光透過性導電性フィルムの光透過性層上に、3mm幅のストライプ状にレジストをパターニングし、ITOエッチング液(関東化学性ITO-06N)に、1分間浸漬して、ITO膜のエッチングを行った。フォトレジストを剥離して水洗乾燥し、パターン見え評価用サンプルを得た。
◎(優):パターンのある部分とパターンのない部分の判別が困難である。
実施例1の光透過性下地層をポリシラザン(AZマテリアル社、NAX120)に変えた以外は、実施例1と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。得られた光透過性導電性フィルムの性能を表1に示す。
光透過性支持層として、PETを用いた。PET表面上に、湿式法(ゾル−ゲル法)により光透過性下地層としてSiO2層を積層した。具体的には次のように行った。テトラエトキシシランをイソプロピルアルコール中で加水分解し塗布溶液を作製した。これをPET表面上に、塗布、及び乾燥し、及び更に熱処理してSiO2層とした。
光透過性支持層として、PETを用い、Siターゲットをカソードに設置し、酸素を導入した反応性スパッタリングにより、SiO2層を光透過性下地層として設けた。
光透過性支持層として、PETを用いた。メチルメタクリレート、多官能アクリレート、ジルコニアコロイド、MEK溶媒に混合分散し、紫外線硬化性ハードコート剤を調整した。このハードコート剤をグラビアロールコーターで塗布し、メタルハライドランプで紫外線を照射することで硬化し、ハードコート層を光透過性支持層上に積層した。ハードコート層の厚さは1.7μm、屈折率(n)は1.60であった。
実施例5の荒川化学コンポセランAG AC601をポリシラザン(AZマテリアル社、NAX120)に変えた以外は、実施例5と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。得られた光透過性導電性フィルムの性能を表1に示す。
実施例5と同様にPET上にハードコート層を設け、ハードコート層上に実施例3と同様にゾル-ゲル法により光透過性下地層としてSiO2層を積層し、及び実施例3と同様にITO膜を成膜して光透過性導電性フィルムを得た。
実施例5と同様にPET上にハードコート層を設けた。実施例4と同様にスパッタ法でSiO2層を積層し、及びITO膜を成膜して光透過性導電性フィルムを得た。得られた光透過性導電性フィルムの性能を表1に示す。
実施例7と同様に作製したハードコート層付きPETを、フィルムロールツーロールで連続的に処理可能な複数のカソードを装備したスパッタ装置にセットし、上記ハードコート層付きPETフィルムを走行させながら、Siターゲットをカソードに設置し酸素を導入した反応性スパッタリングにより連続的にSiO2層、SiOx層を積層した。この時のSiOx層のRaを走査型プローブ顕微鏡(株式会社島津製作所、SPM−9700)によって測定したところ、0.6nmであった。
実施例9の光透過性下地層の積層順をSiOx層、次いでSiO2層とした以外は実施例9と同様に光透過性導電性フィルムを得た。得られた光透過性導電性フィルムの性能を表1に示す。
スパッタに窒素ガスを導入して下地層をSiO2、SiOxNyの順で積層した以外は実施例2と同様にして光透過性導電性フィルムを作製した。このようにして得られた光透過性導電性フィルムの性能を表1に示す。表中の「Ra」はSiO2層のRaを示している。
下地層をSiOx、SiO2、SiOxの順で積層した以外は実施例2と同様に光透過性導電性フィルムを作製した。このようにして得られた光透過性導電性フィルムの性能を表1に示す。表中の「Ra」は光透過性下地層の最上層のRaを示している。
光透過性支持層の両面において実施例12と同様にハードコート層、光透過性下地層及び光透過性導電層を順次積層化し、両面に光透過性導電層を有する光透過性導電性フィルムを作製した。このようにして得られた光透過性導電性フィルムの性能を表1に示す。
コロイダルシリカ(日揮触媒化成カタロイド)分散液を塗布乾燥し、SiO2層を作製することにより光透過性下地層を積層した以外は、実施例1と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。光透過性下地層の膜厚は30nm、Raは1.2nmであった。
このようにして得られた光透過性導電性フィルムの性能を表1に示す。
ITOの膜厚を23nmとし、下地層の材料を変えた以外は実施例2と同様にして光透過性導電性フィルムを全6種作成した。このようにして得られた光透過性フィルムの性能を表1に示す。表中の「Ra」は下地層の最上層のRaを示している。なお、表中の下地層の欄に複数の材料が記載されている場合は、左側に記載される材料が右側に記載される材料の下層側に配置されるような順番でそれぞれの材料からなる層を積層して下地層を得たことを示している。
実施例9と同様にして光透過性フィルムを得た。スパッタの条件を調整することによりRa0.5nmの下地層を得た。得られた光透過性導電性フィルムのエッチング性を含めた諸性能を表2に示す。
比較例2
実施例9と同様にして光透過性フィルムを得た。スパッタの条件を調整することによりRa0.4nmの下地層を得た。得られた光透過性導電性フィルムのエッチング性を含めた諸性能を表2に示す。
実施例9と同様にして光透過性フィルムを得た。スパッタの条件を調整することによりRa0.9nmの下地層を得た。得られた光透過性導電性フィルムのエッチング性を含めた諸性能を表2に示す。
11 光透過性支持層(A)
12 光透過性導電層(B)
13 光透過性下地層(C)
14 ハードコート層(D)
Claims (1)
- (A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層(B)の厚さが20nm未満であり、かつ
前記光透過性導電層(B)に隣接する前記光透過性支持層(A)側の面の平均表面粗さRaが0.1〜1nmであり、
さらに、(D)ハードコート層を含有し、かつ少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、少なくとも前記ハードコート層(D)を介して前記光透過性支持層(A)の面に配置され、ハードコート層(D)の一層あたりの厚さは0.1〜10μmであることを特徴とする、
光透過性導電性フィルム。
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