JP4909559B2 - 透明導電性基材 - Google Patents
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Description
ここで、S0は基準面の面積、Z0は基準面の高さ、F(X,Y)は座標(X,Y)における指定面の高さを表す。Raを算出するために必要な測定値は、例えばNanopics(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製)等の原子間力顕微鏡を用いて測定することができる。本発明における平均面粗さの数値は、対象となる膜表面の縦4μm×横4μmの任意の範囲における平均面粗さを意味する。
また、本発明の反射防止膜中の亜鉛に対するアルミニウムの含有量(原子%)を適宜調節することにより、上記のITO膜等以外の透明導電膜を用いる場合であっても、優れた透明性及び導電性を発揮する透明導電性基材を得ることができる。
0.2モル/Lのジンクアセチルアセトネートを含むアセチルアセトン溶液を用意した。該溶液中の亜鉛に対してアルミニウムが50原子%になるように、アルミニウムアセチルアセトネートを該溶液に加えて反射防止膜形成液を調製した。
次に、無アルカリガラス(OA−10)のガラス基板(300×300×0.5mm)を用意した。400℃に加熱したコンベアー炉の中にこのガラス基板をベルトコンベアーで投入し、該ガラス基板を400℃に加熱した。霧滴状にした前記反射防止膜形成液を、空気をキャリアガスとしてコンベアー炉の中に吹き込み、ガラス基板の表面に接触させて熱分解させることにより、膜厚46nmのアルミニウム含有酸化亜鉛膜(実施例1)を該ガラス基板上に形成させた。
ガラス基板を加熱する温度を400℃ではなく450℃としたこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、アルミニウム含有酸化亜鉛膜(実施例2)を得た。
ガラス基板を加熱する温度を400℃ではなく500℃としたこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、アルミニウム含有酸化亜鉛膜(比較例1)を得た。
インジウムアセチルアセトナート(In(AcAc)3)をアセチルアセトンにモル濃度で0.2mol/Lになるように溶解して黄色透明溶液を得た。この溶液にSn/In=5質量%となるようにジ−n−ブチルスズジアセテートを加えてITO膜形成液を調製した。
このITO膜形成液を用いてパイロゾル法により、ITO膜形成液の霧化による化学的熱分解量を調整しながら、実施例1の反射防止膜上にITO膜を形成し、透明性導電性基材(実施例3)を得た。
実施例1の反射防止膜の代わりに、実施例2の反射防止膜を用いたこと以外は実施例3と同様の操作を行い、透明導電性基材(実施例4)を得た。
実施例1の反射防止膜の代わりに、比較例1の反射防止膜を用いたこと以外は実施例3と同様の操作を行い、透明導電性基材(比較例2)を得た。
Claims (7)
- 基材、反射防止膜及び透明導電膜が、この順で積層されてなる透明導電性基材であって、前記反射防止膜がアルミニウムの含有率が反射防止膜中の亜鉛に対して150〜300原子%であるアルミニウム含有酸化亜鉛からなり、かつ原子間力顕微鏡による前記反射防止膜の平均面粗さ(Ra)が1.0nm以下であることを特徴とする透明導電性基材。
- 660nmの波長の光を用いて測定した反射防止膜の屈折率が、1.6〜1.9の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の透明導電性基材。
- 原子間力顕微鏡による反射防止膜の平均面粗さ(Ra)が0.6nm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の透明導電性基材。
- 基材が、550nmの波長の光の透過率が90%以上のガラスであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の透明導電性基材。
- 透明導電膜が、スズドープ酸化インジウム膜であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の透明導電性基材。
- ガラス、反射防止膜、透明導電膜、空気層、透明導電膜が、この順で積層されてなるタッチパネルであって、前記反射防止膜がアルミニウムの含有率が反射防止膜中の亜鉛に対して150〜300原子%であるアルミニウム含有酸化亜鉛からなり、かつ原子間力顕微鏡による前記反射防止膜の平均面粗さ(Ra)が1.0nm以下であることを特徴とするタッチパネル。
- ガラス、反射防止膜、透明導電膜、配向膜、液晶、配向膜、透明導電膜、反射防止膜及びガラスが、この順で積層されてなる液晶パネルであって、前記反射防止膜がアルミニウムの含有率が反射防止膜中の亜鉛に対して150〜300原子%であるアルミニウム含有酸化亜鉛からなり、かつ原子間力顕微鏡による前記反射防止膜の平均面粗さ(Ra)が1.0nm以下であることを特徴とする液晶パネル。
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