JP5902611B2 - フレキシブルプリント回路板のための液体カバーレイ - Google Patents
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Description
本発明は、フレキシブル回路基板などのメタルクラッド積層材料のための保護カバーレイコーティングとして使用するための硬化性組成物に用いる材料に関する。特に、本発明は、ポリアミドイミド樹脂を含む硬化性液体カバーレイ組成物、及びコーティングされた電子部品の形成における該液体カバーレイ組成物の使用に関する。
エレクトロニクス産業に現在使用されている典型的なカバーレイは、典型的にはポリイミド型ドライフィルム又はホイルとして入手できるのみであり、そしてシート又はロールとして供給される。これらの材料の使用は、人件費、(廃棄物を含む)材料消費及びエネルギー時間支出について費用が高い。特に、これらのドライフィルムシート又はロールが、パネルの選択された領域のみで使用されるためのものであるならば、それらは、時間及びコストの大きいプロセスを用いて適用されるしかない。ドライシート又はロールの形態のカバーレイを、選択された領域に適用するためには、複数のプロセス工程が必要になるであろう。例えば:
1.レーザーカッター又はカットプロッターの使用により、シート又はロールからそれらの領域を切り出す工程。
2.接着剤側から保護層を手動で剥がす工程。ホイルは、普通はエポキシ又はアクリル接着剤を用いて提供されている。接着剤のないポリイミドホイルは、個別の接着剤(これもロール中に供給され、そしてポリイミドホイルと同じ方法で調製される必要がある。)を必要とする。
3.実現できる最高の精度(>0.8mm)で手動操作によりポリイミドホイル(及び、分ける場合には接着剤)をパネル上へ配置する工程。
4.はんだ付け工具を用いて手動プロセスでポリイミドホイルを固定する工程。
・フィルムの手動配置のために制限された精度(最低0.8mm)。
・Z軸に対する寸法の課題。
・手動実装及び圧縮プロセスによるホイル不安定性。
・選択的メタライゼーションプロセスのみに適合すること。アクリル接着剤がにじみ、それ故にプラスマ・デスミア*が追加の処理工程として必要とされる。
・機械加工、掘削及び経路指定とともに、スミア及び塵を含む技術的な課題が生まれる。
・各プロセスサイクルは、非常に時間を消費する。
*「スミア」及び「デスミア」の一般的な説明は、下記参考文献において見ることができる:
“A Comprehensive Guide to the Design and Manufacture of Printed Circuit Board Assemblies - Volume 2, William Macleod Ross, Electrochemical Publications, page 232”
・典型的なスクリーン印刷されたソルダーマスクと似ているレオロジー及びチキソトロピー(高−低せん断速度構造体と対応する低−高せん断速度構造体)(図1参照)
・資本支出を伴わずに既存のプリント装置(スクリーン、スプレー、カーテンコート、ローラーコート、パッド印刷、グラビア、フレキソ、オフセット、インクジェット及びスピンコーティング)を用いる処理
・最低4時間のスクリーン開放時間
・最大150℃(積層段階まで)での硬化
・積層温度(典型的には、180℃で70分間又は220℃で40分間)に必ず耐えること
・接着の問題のない二重コーティング、GT0〜GT1のギッターシュニットクロスハッチ(gitterschnit X−hatch)
・PIホイルの最終品質が必ず合格するか、又は上回ること
・100KV/mmの誘電強度IPC TM650 2.5.6A最低値
・分離抵抗IPC TM650 2.5.9L
・1メガオームの表面抵抗IPC TM650 2.5.17L最低値
・1%の水揚げ最大値
・はんだ槽耐性IPC TM650 2.4.13(2秒間で最低260℃)
・テープ試験後に剥がれることなく他の最終仕上げ(ニッケル−金及びスズ化学物質)の全てに適合すること
・全基板(PI、FR4など)上で25μm膜厚における50/50μmトラック及びギャップの解像度
・25μmコーティングの1オンスの銅の上部において最低10μmのカバーレイ
・UL94V−0の格付けの可燃性
・下記溶液:IPA、MEK、ジクロロメタン中の含浸(1時間)に対する耐性
・Z軸熱膨張率(CTE)(Tgを下回ると15ppm、80ppm>Tg)
A=供給された通りである
L=96時間、20℃、65%相対湿度での貯蔵後
本発明は、スクリーン印刷(ステンシルを用いる)、分配、又は任意の他の手段(それにより液体カバーレイが堆積させられることができる。)などの単一操作でカバーレイを提供するために使用されることができる液体ポリアミドイミドカバーレイ組成物を提供する。液体カバーレイ組成物は、例えば、硬化性インク組成物でよい。典型的には、カバーレイ組成物は、硬化性成分、レベリング助剤、硬化剤及び充填剤を含む。有利には、本発明のカバーレイ組成物は、硬化性成分として、熱解離性イソシアネート保護基で保護された末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドを含む。例えば、本発明の一実施形態では、カバーレイ組成物は、所望により二官能価又は多官能価エポキシ樹脂を使用して、非プロトン性溶媒中のカプロアミド変性されたポリアミドイミド、レベリング助剤、触媒、充填剤(単数又は複数)を含む。有利には、カバーレイは、硬化前の優秀な粘度安定性、並びに際立った耐はんだ性、クロスハッチ(X−hatch)接着性、鉛筆硬度、耐溶媒性及び/又は硬化後の柔軟性を示す。
本発明は、フレキシブル又はリジッド−フレキシブルプリント回路基板に使用するためのカバーレイ組成物に関する。本明細書で使用されるときの用語「カバーレイ」とは、電気的クロスオーバ及び機械的ハンドリングからプリント回路基板を保護するための、FPC又は他の電子部品の上面におけるプリント回路基板上の保護コーティング(例えば、ソルダーマスクとして機能してよい)をいう。用語「フレキシブルプリント回路基板に使用するための」は、従来通りに、「フレキシブルプリント回路基板に使用するために適切である」として解釈される。そして当業者であれば、そのカバーレイが、特に、リジッド−フレキシブルプリント回路基板、ディスプレイ、光起電装置又は膜スイッチなどの他のフレキシブル電子部品を含む他の電子部品に用いるのに適することを理解するであろう。一実施形態では、その組成物は、フレキシブルプリント回路基板上のカバーレイとして使用するために特に適する。
[BL]−C(O)−([A]−[B])n−OH
(I)
{式中、([A]−[B])nは、nが少なくとも4(例えば、少なくとも10)であるポリアミドイミド単位であり;そして[BL]は、熱解離できる保護基である。}
を有する。一実施形態では、[BL]は、−N(R1)−C(O)R2{式中、R1はH及びC1〜C6アルキルから選択され、そしてR2はC1〜C6アルキルであるか;又はR1、R2及びそれらが結合するアミド基は、所望により1つ以上のC1〜C4アルキル基で置換されている5〜8員ラクタム環を共に形成する。}である。さらに別の実施形態では、[BL]は、−N(R1)−C(O)R2{式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、C1〜C6アルキルから選択されるか;又はR1、R2及びそれらが結合するアミド基は、所望により1つ以上のC1〜C4アルキル基で置換されている5〜8員ラクタム環を共に形成する。}である。さらなる実施形態では、R1、R2並びにそれらが結合する窒素原子及びカルボニル基は、所望により1つ以上のメチル基で置換されている5〜8員ラクタム環を共に形成する。
OCN−[X]−NCO
(II)
(式中、[X]は芳香族結合基である。}
の化合物である。芳香族結合基は、所望により、C1−6アルキル、ハロゲン化C1−6アルキル、C1−6アルコキシ、ハロゲン化C1−6アルコキシ、ハロ及びヒドロキシルから選択される1つ以上の基で置換されている。別の実施形態では、芳香族結合基は非置換である。本発明の一態様では、[X]は、少なくとも1つのアリール環、例えば、2つのアリール環を含む。一実施形態では、[X]は、二価のアリール基である。一実施形態では、[X]は少なくとも1つのフェニル環を含む。一実施形態では、[X]はジフェニルメタンである。一実施形態では、−[X]−は、−Ar1−Z−Ar2−{式中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立して、所望によりハロ、C1〜C4アルキル、ハロC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、ハロC1〜C4アルコキシ、OH、オキソ又はカルボキシC1〜C4アルキルから選択される1つ以上の基で置換されているアリールから選択され;そしてZは、炭素−炭素結合、C1〜C6分岐鎖若しくは直鎖アルキル又は−C(O)−から選択される。}である。適切なジイソシアネートとしては、ジフェニルメタンジイソシアネート及び3,3’−ジメチル−4,4’−ビフェニルジイソシアネートが挙げられる。1つ以上の異なるジイソシアネートの混合物は、本発明の組成物に用いるイミドを調製するために使用されることができる。
のラクタム環を形成する。一実施形態では、1つを除く全てのRaはHであり、そして残りのRaは、C1〜C4アルキル、例えばメチル、エチル又はn−プロピル、特にメチルである。別の実施形態では、各RaはHである。一実施形態では、mは、3〜5、例えば3又は4、特に3である。
・より短い製造時間
・効率的な材料消費−可能な全領域又は部分的印刷による大幅なコスト削減
・最低約5〜10μmから所望の厚さまでの異なる厚さの塗装
・より薄い構成が、より高い柔軟性、空間及び質量の節約を意味すること
・減少したマン・アワーを通じて分かる更なるコスト削減
・著しく減少したエネルギーコスト
・向上したプロセス安定性による向上したFPY(第一回合格率)
FPYは、首尾よく製造された一連のパネルの百分率(例えば、100個のパネルが製造されなければならず、90個のパネルが認定検査(Q−inspection)に合格するならば、FPYは90%である。)である。向上したプロセス安定性は、より高いFPY及びそれによる節約につながる。
・既存のラミネーションサイクルに組み込まれることができる、乾燥前(タック−ドライ)条件及び最終硬化(ポスト−ベーク)の両方に関する幅広いプロセス・ウィンドウ
・厳しいトラック形状及び高い銅高の更に良好な被覆率
・削減された環境影響(供給者によるホイルの製造から使用まで)
・材料数が減り、必要な空間が減ることに応じた簡便なロジスティック及び在庫管理
・健康及び安全規格(例えばRoHS)に対する製品適合、変異原性又は発癌性材料の不使用
本樹脂1
攪拌器に取り付けた1Lフラスコに525gのN−メチルピロリドンを充填した。>99%の純度を有する153gのジフェニルメタンジイソシアネートを加えた。次に、>99%の無水物含有率を有する122gのトリメリト酸無水物及び8gのε−カプロラクタムを反応器に加えた。次に、反応器を全還流して、緩やかに75℃に加熱し、75℃になると直ぐに、加熱を止めて、温度を90℃にして発熱させた。二酸化炭素の発生が終わり、イミド含有率が>95%になると直ぐに、温度を125℃へ上げて、粘度が15℃で2500〜3500mPa・sへ上昇するまで保持した。この粘度に達すると直ぐに、温度を90℃へ下げて、50ミクロンフィルターを介して生成物を放出した。
攪拌器に取り付けた1Lフラスコに525gのN−メチルピロリドンを充填した。>99%の純度を有する153gのジフェニルメタンジイソシアネートを反応器に加え、次に、>99%の無水物含有率を有する122gのトリメリト酸無水物及び25gのε−カプロラクタムを加えた。次に、反応器を全還流して、緩やかに75℃に加熱し、75℃になると直ぐに、加熱を止めて、温度を90℃にして発熱させた。二酸化炭素の発生が終わり、イミド含有率が>95%になると直ぐに、この時点で、温度を125℃へ上げて、粘度が15℃で2000〜3000mPa・sへ上昇するまで保持した。この粘度に達すると直ぐに、温度を90℃へ下げて、50ミクロンフィルターを介して生成物を放出した。
攪拌器に取り付けた1Lフラスコに525gのN−メチルピロリドンを充填した。>99%の純度を有する153gのジフェニルメタンジイソシアネートを反応器に加え、次に、>99%の無水物含有率を有する122gのトリメリト酸無水物を加えた。次に、反応器を全還流して、緩やかに75℃に加熱し、75℃になると直ぐに、加熱を止めて、温度を90℃にして発熱させた。二酸化炭素の発生が終わり、イミド含有率が>95%になると直ぐに、温度を125℃へ上げて、粘度が15℃で2500〜3500mPa・sへ上昇するまで保持した。この粘度に達すると直ぐに、温度を90℃へ下げて、50ミクロンフィルターを介して生成物を放出した。
1. 樹脂(単数又は複数)を容器中へ測り取る。
2. ポットが触れると温かくなるまで、フラットブレードを用いてディスパーマット上で混合する(約3分)。
3. DICY及び2MZ−アジンをフォームブラストに測り取る。
4. 平滑に見えるまで再混合する(粉末塊がなくなる、約2分)。
5. Viatalc VT10に測り取り、湿潤するまで手で攪拌する。
6. ディスパーマット上で混合する(約1分)。
7. Aerosil R974シリカ中に測り取り、全ての粉末が湿潤するまで手で攪拌する。
8. 平滑になるまでディスパーマット上で混合する(約3分)
9. グラインドゲージ(仕様 ≦5μm)上で分散体を確認する。
2 DIC欧州社
3 ユニヴァー(Univar)社
4 サミュエル・バナー社
5 ヒュブロン・スペシャリティ(Hubron Speciality)社
6 ランズダウン・ケミカルズ(Lansdowne Chemicals)PLC
7 ヴィアトン・インダストリーズ(Viaton Industries)社
8 エヴォニック・デグサ(Evonik Degussa)社
使用メッシュ:43T/cmポリエステルブロック
10mmスクリーン・スナップ・オフ高
65/70ショア・スキージの使用
150℃のベーク前に室温で10分間に亘って垂直にされたパネル
ラマール・グループ(Lamar Group)社製の1オンスの両側が平らな銅クラッドFR4パネル
ジュニファー(Juniper)社製の0.5オンスの片側銅ポリイミドIPCB25A型フレキシブルラミネート
耐はんだ性
必要な装置:
・Alpha 857 flux
・はんだ槽(260℃)
・タイマー
方法:
・Alpha 857 fluxで各パネルを可塑化させる。
・次に、パネルをはんだ中に漬けて、10秒タイマーを開始させる。
・タイマーが鳴ったときに、パネルを引き出して、水を用いて冷却する。
・試験後に、フィルムは、はがれ、水泡形成、クラッキング又は剥離を示すべきではない。
必要な装置:
・試験用パネル
・Sheenミニグロス101N 60°グロスメーター
・計算機
方法:
・グロスメーターを用いて各パネルの5つの領域を測定して、平均を取る。
必要な装置:
・約2mmの間隔で6個のパラレルブレードから成るギッターシュニットクロスハッチカッター
・テープ−感圧テープ3Mスコッチテープ600(登録商標)又はその代替品(例えば、セロテープ(登録商標))
方法:
・所定の切削工具を用いて、ある領域を(90°の角度で)クロスハッチする。
・全て25mm長の切削片を形成する。
・顕著な圧力を掛けて、コーティング材料を切断する。
・ソフトブラシを用いてクロスハッチされた領域を軽くブラシ掛けして、コーティング材料の任意の粒子を除去する。
・ハンドローラー又は消しゴムを用いて、クロスハッチされた領域の表面を横切るように、感圧テープ(12.5mm幅×50mm長)の一片をしっかり圧着する。
・パターンとほぼ垂直に手で力を掛けることによりテープを急速に除去する。
・引き出された単体を含むテープの未使用片を各試験に使用するべきである。
・コーティング材料粒子の兆候についてテープを目視で評価する。
・剥き出しの材料の表面からのコーティングの分離、破砕又は層間剥離について評価する。例えば、切削片からの微細な移動は無視するものとする。
・表(1)に示された通り、GT0〜GT5の数評価系を用いて、接着度を評価して、記録する。
・必要な装置:
・Sheen鉛筆硬度トロリー720
・H〜9H規格の鉛筆
・鉛筆削り
・研磨紙
方法:
鉛筆削りを用いて、鉛筆を微細になるまで削る。鉛筆点を粗紙に対して90°で保ち、手を回して動かしながら、鉛筆の端が直径1.5mmの平らな端になるまで鉛筆点を磨り減らす。
コーティングされたパネルを堅い水準の水平面に置く。最も硬い硬度の鉛筆で開始するので、空中にホイールを備える硬い平坦面上に硬度トロリーを置く。鉛筆を穴に入れ、鉛筆が表面に達するまで鉛筆を動かし続け、ねじを静かに締めて、所定の位置に鉛筆を固定する。トロリーを裏返して、平坦面(トロリーホイール及び鉛筆芯)上の試験パネル面に芯を接触させる。十分に均一な力を前方(ただし、後方ではない)に及ぼして、トロリーを約20mm動かす。
各ゲージ又は切削片についてトラックを検査して、それらが確認されるならば、より軟らかい鉛筆で上記を繰り返し、そのフィルムが得られた最低の鉛筆を記録する。合格は≧6Hである。
必要な装置:
・ジクロロメタンのポット
・タイマー
方法:
各パネルの一片をジクロロメタンのポット中に入れて、1時間タイマーを開始して、この時間後にパネルを取り出して、検査する。フィルムは、外れた兆候を示してはならない。
必要な装置:
・メガネ×10
・タイマー
方法:
・銅/ポリイミド基板のインク側を半分に折って、3Kgの重荷を用いて約1分間に亘って折られた領域に圧力を掛ける。
・開いて平らにして、10回に亘って折り目を評価する。
・任意の亀裂を失敗として記録する。
下記表の硬化条件を150℃でX分間、次に180℃でY分として示す。
15℃で3ヶ月間に亘る本インク1〜14+比較インク1〜7の粘度安定性:
一例として、液体ポリアミドイミドカバーレイが、フレキシブル多層PCBの製造のために使用されることができる。このプロセスを説明するために、これらの製品の製造における従来のドライフィルム法の使用(図3)対液体ポリアミドイミドの使用(図4)の差を示す図面部分を参照されたい。
使用メッシュ:43T/cmポリエステルブロック1
10mmスクリーン・スナップ・オフ高
65/70ショア・スキージの使用
ホールド:室温で約10分間に亘って垂直にされたパネル
ベーク:次に、高温(例えば約150℃)で約60分間に亘ってパネルをオーブンベークして、パネルをタックドライ2させ、次に高温(例えば約180℃)で約70分間に亘って積層工程を行なって、パネルを十分に硬化させる。
注:
1必要なドライフィルム厚に応じて、他のスクリーンを使用できる。
2他の「タックドライ」条件が全塗布法について可能であり;時間は、ウェットフィルム重量及びオーブンの種類に応じて決まるであろう。
Claims (36)
- 熱解離性イソシアネート保護基で保護された末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドを含む、フレキシブルプリント回路基板のための熱硬化性カバーレイ組成物であって、該組成物は25℃で液体であり、該イソシアネート保護基は、50℃以上の温度で熱的に解離でき、かつ該ポリアミドイミドは、ジイソシアネート:該イソシアネート保護基のモル比が約10:0.1〜10:1未満である反応混合物から調製される、組成物。
- 熱解離性イソシアネート保護基で保護された末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドは、(i)末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドと(ii)脂肪族アミドの反応生成物である、請求項1に記載の組成物。
- 脂肪族アミドは、所望により1つ以上のC1〜C4アルキル基で置換されている5〜8員ラクタムである、請求項2に記載の組成物。
- 熱解離性イソシアネート保護基で保護された末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドは、式(I):
[BL]−C(O)−([A]−[B])n−OH
(I)
{式中、([A]−[B])nは、nが少なくとも4であるポリアミドイミド単位であり;そして[BL]は、熱解離性イソシアネート保護基である。}
を有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の組成物。 - [BL]は、−N(R1)−C(O)R2{式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、C1〜C6アルキルから選択されるか;又はR1、R2及びそれらが結合するアミド基は、所望により1つ以上のC1〜C4アルキル基で置換されている5〜8員ラクタム環を共に形成する。}である、請求項4に記載の組成物。
- R1、R2並びにそれらが結合する窒素原子及びカルボニル基は、所望により1つ以上のメチル基で置換されている5〜8員ラクタム環を共に形成する、請求項5に記載の組成物。
- 5〜8員ラクタム(環)はε−カプロラクタムである、請求項3又は6に記載の組成物。
- 熱解離性イソシアネート保護基は、100℃〜250℃の温度で解離する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の組成物。
- 熱解離性イソシアネート保護基は、140℃〜200℃の温度で解離する、請求項8に記載の組成物。
- 末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドは、ジイソシアネートとカルボン酸官能基含有カルボン酸無水物の反応生成物である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の組成物。
- 多官能価エポキシ樹脂をさらに含む、請求項1〜10のいずれか1項に記載の組成物。
- レベリング助剤、硬化剤、安定化剤及び/又は充填剤をさらに含む、請求項1〜11のいずれか1項に記載の組成物。
- 非プロトン性溶媒をさらに含む、請求項1〜12のいずれか1項に記載の組成物。
- 25℃で30Pa・s未満の粘度を有する、請求項1〜13のいずれか1項に記載の組成物。
- 25℃で20Pa・s未満の粘度を有する、請求項14に記載の組成物。
- 少なくとも20質量%の固形分を有する、請求項1〜15のいずれか1項に記載の組成物。
- (a)請求項1〜16のいずれか1項に記載の熱硬化性カバーレイ組成物のコーティングを電子部品上へ適用する工程、及び(b)該組成物を硬化させる工程を含む、コーティングされた電子部品の製造方法。
- 前記組成物は、工程(b)において150℃以上の温度へ加熱される、請求項17に記載の方法。
- スクリーン印刷により前記組成物を適用する、請求項17又は18に記載の方法。
- 電子部品はフレキシブルプリント回路基板である、請求項17〜19のいずれか1項に記載の方法。
- ポリアミドイミドを含む硬化カバーレイコーティングを含むフレキシブルプリント回路基板であって、該ポリアミドイミドは、ジイソシアネート:イソシアネート保護基のモル比が約10:0.1〜10:1未満である反応混合物から調製される、フレキシブルプリント回路基板。
- 熱解離性イソシアネート保護基で保護された末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドを含む第一の成分;並びにさらなる熱硬化化合物及び/又は硬化剤を含む第二の成分を含む、請求項1〜16のいずれか1項に記載の熱硬化性カバーレイ組成物の製造に用いる二容器型製剤であって、該ポリアミドイミドは、ジイソシアネート:該イソシアネート保護基のモル比が約10:0.1〜10:1未満である反応混合物から調製される、二容器型製剤。
- さらなる熱硬化化合物は多官能価エポキシ樹脂である、請求項22に記載の二容器型製剤。
- a. 熱解離性イソシアネート保護基で保護された末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドを提供する工程であって、該イソシアネート保護基は、50℃以上の温度で熱的に解離でき、かつ該ポリアミドイミドは、ジイソシアネート:該イソシアネート保護基のモル比が約10:0.1〜10:1未満である反応混合物から調製される工程;並びに
b. 熱解離性イソシアネート保護基で保護された末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドに充填剤、硬化剤、安定化剤、レベリング助剤及びさらなる熱硬化性化合物の1つ以上を合わせる工程
を含む、25℃で液体であるフレキシブルプリント回路基板のための熱硬化性カバーレイ組成物の製造方法。 - さらなる熱硬化化合物は多官能価エポキシ樹脂である、請求項24に記載の方法。
- (i)末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドと(ii)熱解離性イソシアネート保護剤を反応させることにより、前記熱解離性イソシアネート保護基で保護された前記末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドを調製する工程をさらに含み、かつ以下の工程:
該末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドと該熱解離性イソシアネート保護剤とを緩やかに75℃の温度に加熱する工程;
温度が75℃になると直ぐに、加熱を止めて、温度を90℃にして発熱させる工程;
二酸化炭素の発生が終わり、イミド含有率が>95%になると直ぐに、温度を125℃へ上げて、粘度が15℃で2000〜3500mPa・sへ上昇するまで該温度を保持する工程;
該粘度に達すると直ぐに、温度を90℃へ下げる工程;及び
該熱解離性イソシアネート保護基で保護された該末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドを放出する工程;
を含む、請求項24又は25に記載の方法。 - ジイソシアネートとカルボン酸官能基含有カルボン酸無水物を反応させることにより、前記末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドを調製する工程をさらに含む、請求項26に記載の方法。
- ジイソシアネートとカルボン酸官能基含有カルボン酸無水物は、10:8〜10:12のジイソシアネート:カルボン酸官能基含有カルボン酸無水物のモル比で反応させられる、請求項27に記載の方法。
- ジイソシアネートとカルボン酸官能基含有カルボン酸無水物は、熱解離性イソシアネート保護剤の存在下で反応させられ、そしてジイソシアネート:イソシアネート保護剤のモル比は、約10:0.1〜10:1未満である、請求項27又は28に記載の方法。
- 請求項26〜29のいずれか1項に記載の方法に従う、請求項1〜16のいずれか1項に記載の組成物の製造方法。
- ポリアミドイミドを含むフレキシブルプリント回路基板のための熱硬化性カバーレイ組成物であって、該組成物は25℃で液体であり、該ポリアミドイミドは、ジイソシアネート:イソシアネート保護基のモル比が約10:0.1〜10:1未満である反応混合物から調製され、そして該組成物は、15℃で3ヶ月間の保存後に、25℃で35Pa・s未満の粘度を有する、組成物。
- 15℃で3ヶ月間の保存後に、25℃での粘度増加は3.5倍以下である、請求項31に記載の組成物。
- 請求項1〜16のいずれか1項に記載の組成物である、請求項31又は32に記載の組成物。
- フレキシブル又はリジッド−フレキシブルプリント回路基板、ディスプレイ、光起電装置又は膜スイッチの製造において、完全に又は部分的に結像されたカバーレイを形成するための液体ポリアミドイミドの使用であって、該ポリアミドイミドは、ジイソシアネート:イソシアネート保護基のモル比が約10:0.1〜10:1未満である反応混合物から調製される、使用。
- 液体ポリアミドイミドは、スクリーン印刷、ロールコーティング、浸漬塗装、カーテンコーティング、スプレーコーティング、スピンコーティング、インクジェット、グラビアコーティング、オフセットコーティング、フレキソコーティング、分配、パッド印刷、ブラッシング、流し塗り又はエアロゾル堆積を用いることにより適用される、請求項34に記載の使用。
- 液体ポリアミドイミドは、請求項1〜10のいずれか1項に記載の熱解離性イソシアネート保護基で保護された末端イソシアネート基を有するポリアミドイミドである、請求項34又は35に記載の使用。
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