JP5882922B2 - インプリント方法、およびインプリント装置 - Google Patents

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016086190A (ja) * 2012-01-19 2016-05-19 キヤノン株式会社 インプリント方法、およびインプリント装置

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6494185B2 (ja) 2013-06-26 2019-04-03 キヤノン株式会社 インプリント方法および装置
JP6327947B2 (ja) 2013-06-26 2018-05-23 キヤノン株式会社 光硬化性組成物、これを用いた、膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法、硬化物
JP6327948B2 (ja) * 2013-06-26 2018-05-23 キヤノン株式会社 光硬化性組成物、硬化物、これを用いた、膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法
JP6460672B2 (ja) 2013-09-18 2019-01-30 キヤノン株式会社 膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法及び電子部品の製造方法
JP5865332B2 (ja) * 2013-11-01 2016-02-17 キヤノン株式会社 インプリント装置、物品の製造方法、及びインプリント方法
WO2015068215A1 (ja) 2013-11-06 2015-05-14 キヤノン株式会社 インプリント用型のパターンの決定方法、インプリント方法及び装置
JP6420571B2 (ja) * 2014-06-13 2018-11-07 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
TWI664066B (zh) 2014-09-30 2019-07-01 Fujifilm Corporation 多孔質體的製造方法、元件的製造方法、配線結構的製造方法
JP6525567B2 (ja) * 2014-12-02 2019-06-05 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP6250022B2 (ja) * 2015-12-25 2017-12-20 キヤノン株式会社 インプリント装置、物品の製造方法、及びインプリント方法
JP6527474B2 (ja) * 2016-02-05 2019-06-05 東芝メモリ株式会社 インプリント方法
JP6978853B2 (ja) 2017-05-15 2021-12-08 キヤノン株式会社 インプリント装置、及び物品製造方法
JP2018194738A (ja) * 2017-05-19 2018-12-06 キヤノン株式会社 位置計測装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法
JP6852566B2 (ja) * 2017-05-26 2021-03-31 大日本印刷株式会社 パターン形成方法、凹凸構造体の製造方法、レプリカモールドの製造方法、レジストパターン改質装置及びパターン形成システム
KR102369538B1 (ko) * 2017-09-28 2022-03-03 캐논 가부시끼가이샤 성형 장치 및 물품 제조 방법
US10600614B2 (en) * 2017-09-29 2020-03-24 Hitachi High-Technologies Corporation Stage device and charged particle beam device
JP2019161020A (ja) * 2018-03-13 2019-09-19 キヤノン株式会社 モールド、インプリント装置、および物品の製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3700001B2 (ja) * 2002-09-10 2005-09-28 独立行政法人産業技術総合研究所 インプリント方法及び装置
US7090716B2 (en) * 2003-10-02 2006-08-15 Molecular Imprints, Inc. Single phase fluid imprint lithography method
US20060081557A1 (en) * 2004-10-18 2006-04-20 Molecular Imprints, Inc. Low-k dielectric functional imprinting materials
US7377764B2 (en) * 2005-06-13 2008-05-27 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
JP5077110B2 (ja) * 2007-07-23 2012-11-21 旭硝子株式会社 ナノインプリント用モールドおよびその製造方法
EP2364462B1 (en) * 2008-12-04 2015-07-22 ASML Netherlands B.V. Imprint lithography apparatus and method
JP5679850B2 (ja) * 2011-02-07 2015-03-04 キヤノン株式会社 インプリント装置、および、物品の製造方法
JP5882922B2 (ja) * 2012-01-19 2016-03-09 キヤノン株式会社 インプリント方法、およびインプリント装置
JP6304921B2 (ja) * 2012-06-05 2018-04-04 キヤノン株式会社 インプリント方法およびインプリント装置、それを用いた物品の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016086190A (ja) * 2012-01-19 2016-05-19 キヤノン株式会社 インプリント方法、およびインプリント装置

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