JP5829211B2 - 円板ワーク、特に、成形ウエハの変形を測定するための方法および装置 - Google Patents
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Description
本発明および本発明に基づく課題は、成形ウエハに関して記載するが、半導体技術分野に限定されない。
最近、半導体産業では、化合物ウエハや成形ウエハとして知られるもの、即ち、人為的に作製され組み立てられたウエハが好まれる傾向があり、ウエハは、各チップをウエハ形状に組み立てることにより作製され、チップは、プラスチック材封止用化合物により再び接着されて、円板状構造となる。この種類の成形ウエハのみならず、シリコン等の従来の薄型ウエハも、前に実施した熱加工および機械加工を条件とする円形構造を有し、更には、これらの円板ワークが平面にならず撓み変形するように、軸方向への撓みをもたらす。
本発明の背景となる思想は、ワークと取付ユニットとの間の初期の偏心を除去した後に定義した高さ位置での反りを測定できる点にある。
好適な実施形態において、偏心は、本来、その後の位置修正を可能にするものとして知られるプリアライナを使用して測定される。
更に別の好適な実施形態において、内側領域は、外側領域の10〜30%の直径を有する。
更に別の好適な実施形態において、複数の測定点のそれぞれの偏差は、関連する回転角およびツール識別子と共に、表に記録される。
更に別の好適な実施形態において、複数の支持ピンのそれぞれは、複数の真空吸入要素のうちの関連する1つによって囲まれている。本発明の実施形態を、図面に示し、以下の説明で詳細に記載する。
図1a〜図1cは、円板ワーク、特に、成形ウエハの変形を測定するための本発明による装置の第1の実施形態の図1fの線A−A’に沿った概略断面図である。
図1a〜1cによる装置は、更に、付着ユニット3a、3b、3cが位置する搬送ユニット1を備えている。付着ユニットは、受信ユニット5、5a、15a〜15cが案内される搬送ユニット1の凹部2の周りに配置されている。図1fに示すように、付着ユニット3a、3b、3cは、三角対称に配置される3本の保持支柱を備えている。取付ユニット5、5a、15a〜15cが対応するz方向の低位置に移動した場合、成形ウエハ3は、付着ユニット3a、3b、3cの保持支柱に付着することができる。
図1a〜1cに示さないが、搬送ユニット1は、共通ベース100を介して、取付ユニット5、5a、15a〜15cに接続されている(図1d〜1f参照)。
この偏心δを測定するため、取付ユニット5、5a、15a〜15cがz軸周りに回転する際、この偏心δを既知の方法により光学的に測定できるように構成され、かつプリアライナ25として知られる装置が提供される。
更に、図1bを参照すれば、成形ウエハ3の第2の取付位置は、中心軸M、M’が一致する位置、換言すれば、偏心δが実質的にゼロになる位置として示されている。第2の取付位置は、付着ユニット3a、3b、3cの保持支柱上の成形ウエハ3の一時的な付着と、以下に説明する受けユニット5、5a、15a〜15cの対応する再配置とによって、実現される。
図1dおよび図1eは、典型的な物理成形ウエハ3を含む偏差WRの変形領域を示す。
更に図1fに示すように、成形ウエハ3は2つの実質的な切欠A1、A2を有しており、切欠より、取付ユニット5、5a、15a〜15cと、成形ウエハ3の下面Uのレーザー光Lの焦点SPとを視認することができる。
図1gに示すように、成形ウエハ3は、所定の高さ位置Z0と比較して示されるP1〜P8の全ての点で下方に変形し、キャップ状に形成されている。
方法ステップ(図示せず)において、図1cに示すように、装置の較正は、理想的なウエハ3を用いて実行される。較正のため、支持ピン11a、11b、11cは、特に、理想的な成形ウエハの下面Uが所定の高さ位置Z0に正確に配置されるように調整することができる。
続いて、ステップS3において、取付ユニット5、5a、15a〜15cは、偏心δがx方向に生じる角度位置φへと回転する。
図3に示す第2の実施形態において、第1の実施形態の接触要素15a〜15cに代えて、複数の支持ピン11’a〜11’fおよび3つの真空吸入要素20’a、20’b、20’cを備えた接触要素ユニット15dが設けられている。本実施形態において、支持ピン11’a〜11’fは真空吸入要素により案内されないが、独立して設けられており、2つの支持ピンが、真空吸入要素両側の側面にそれぞれ配置されている。
本発明は、好適な実施形態に基づいて説明しているが、それらに限定されず、さまざまな方法により変更することができる。
上記の実施例は、成形ウエハの変形の測定に関するが、本発明は、この実施例に限定されず、あらゆる円板ワークにも適用できる。
Claims (16)
- 成形ウェハの変形を測定するための方法であって、
第1の取付位置で、取付ユニットに前記成形ウェハの内側領域を取り付けるステップと、
前記第1の取付位置で、前記取付ユニットの中心軸からの前記成形ウェハの中心軸の偏心を測定するステップと、
前記取付ユニットを付着ユニットより下方に移動させることで、前記付着ユニットに前記成形ウェハを付着するステップと、
前記取付ユニットを水平方向に移動させることで、測定した偏心に基づいて、前記偏心がゼロとなる第2の位置で、前記取付ユニットに前記成形ウェハの内側領域を再度取り付けるステップと、
前記取付ユニットを付着ユニットより上方に移動させることで、前記取付ユニットを所定の高さ位置に移動するステップと、
前記取付ユニットまたは固定高さ検出器ユニットを適切な回転角だけ回転させることにより、前記固定高さ検出器ユニットを用いて、変形に相当する所定の高さ位置からの前記成形ウェハの非取付外側領域における複数の測定点の偏差をそれぞれ測定するステップとを備え、
前記成形ウェハの内側領域の取り付けは、複数の支持ピンおよび複数の真空吸入要素を用いて達成され、
前記複数の支持ピンのうちの1つの支持ピンはそれぞれ、前記複数の真空吸入要素のうちの関連する1つによってそれぞれ囲まれ、
前記真空吸入要素は、関連する前記支持ピンを囲むリップシールを含み、
前記成形ウェハが前記取付ユニットに取り付けられた状態で、前記成形ウェハは、前記複数の支持ピンと前記リップシールとにより支持されている方法。 - 請求項1に記載の方法において、
複数の測定点は、円周線に沿って配置される方法。 - 請求項1又は2に記載の方法において、
前記固定高さ検出器ユニットは、レーザーマイクロメーターを含む方法。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法において、
前記取付ユニットは、付着前の回転および付着後の横方向の調整によって前記第2の取付位置に移動する方法。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の方において、
前記内側領域は、前記成形ウェハの10〜30%の直径を有する方法。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法において、
測定の較正は、標準ツールを用いて変形無しで行われる方法。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法において、
複数の測定点の偏差はそれぞれ、関連する回転角及びツール識別子と共に、表中に記録される方法。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法において、
前記回転角は、ツールマークに対して選択される方法。 - 請求項1〜8の方法に用いられる装置であって、
前記取付ユニットの中心軸から前記成形ウェハの中心軸の偏心を測定し、前記取付ユニットのために適切な調整信号を生成する測定ユニットを備える装置。 - 請求項9に記載の装置において、
前記支持ピンは、高さ調整可能である装置。 - 請求項9又は10に記載の装置において、
前記取付ユニットは、搬送ユニットの凹部を通って案内され、前記付着ユニットは、前記凹部の周りに設けられている装置。 - 請求項11に記載の装置において、
前記付着ユニットは、複数の保持支柱を備えている装置。 - 請求項11又は12に記載の装置において、
前記固定高さ検出器ユニットは、前記搬送ユニットに配置されている装置。 - 請求項9〜13のいずれか一項に記載の装置において、
前記測定ユニットは、搬送ユニットに配置されている装置。 - 請求項9〜14のいずれか一項に記載の装置において、
前記測定ユニットは、プリアライナを備えている装置。 - 請求項9〜15のいずれか一項に記載の装置において、
前記固定高さ検出器ユニットは、ワークに対して放射状に調整可能である装置。
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