JP5828626B2 - インプリント方法 - Google Patents

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11137680B2 (en) 2017-09-28 2021-10-05 Canon Kabushiki Kaisha Shaping apparatus and article manufacturing method
US11747722B2 (en) 2019-02-14 2023-09-05 Canon Kabushiki Kaisha Imprint method, imprint apparatus, and method of manufacturing article

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6018405B2 (ja) * 2012-04-25 2016-11-02 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
JP5994488B2 (ja) * 2012-08-29 2016-09-21 大日本印刷株式会社 インプリント方法およびそれを実施するためのインプリント装置
JP6094257B2 (ja) * 2013-02-25 2017-03-15 大日本印刷株式会社 インプリント装置およびインプリント転写体の製造方法
JP5865340B2 (ja) * 2013-12-10 2016-02-17 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP6320183B2 (ja) * 2014-06-10 2018-05-09 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品製造方法
JP6420571B2 (ja) * 2014-06-13 2018-11-07 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP6628491B2 (ja) * 2015-04-13 2020-01-08 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
JP6723139B2 (ja) * 2015-11-06 2020-07-15 キヤノン株式会社 液体供給装置、インプリント装置および物品製造方法
US10350631B2 (en) 2015-11-06 2019-07-16 Canon Kabushiki Kaisha Liquid discharge apparatus, imprint apparatus, and method of manufacturing article
JP6643135B2 (ja) * 2016-02-17 2020-02-12 キヤノン株式会社 リソグラフィ装置および物品製造方法
JP6402769B2 (ja) * 2016-11-07 2018-10-10 大日本印刷株式会社 インプリント装置およびインプリント転写体の製造方法
JP6978853B2 (ja) * 2017-05-15 2021-12-08 キヤノン株式会社 インプリント装置、及び物品製造方法
JP2018194738A (ja) * 2017-05-19 2018-12-06 キヤノン株式会社 位置計測装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法
JP7041483B2 (ja) * 2017-09-22 2022-03-24 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置、および物品の製造方法
JP7262930B2 (ja) * 2018-04-26 2023-04-24 キヤノン株式会社 型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置、成形方法、および物品の製造方法
JP7581033B2 (ja) * 2020-12-11 2024-11-12 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、物品の製造方法、およびコンピュータプログラム
US12353127B2 (en) 2021-04-14 2025-07-08 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus, imprint method and article manufacturing method

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001358056A (ja) * 2000-06-15 2001-12-26 Canon Inc 露光装置
TW591653B (en) * 2000-08-08 2004-06-11 Koninkl Philips Electronics Nv Method of manufacturing an optically scannable information carrier
US6954255B2 (en) * 2001-06-15 2005-10-11 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus
US7019819B2 (en) * 2002-11-13 2006-03-28 Molecular Imprints, Inc. Chucking system for modulating shapes of substrates
US6852259B2 (en) * 2002-09-18 2005-02-08 Owens Corning Fiberglas Technology, Inc. Moldable preform with B-stage thermoset polymer powder binder
US8211214B2 (en) * 2003-10-02 2012-07-03 Molecular Imprints, Inc. Single phase fluid imprint lithography method
US7090716B2 (en) * 2003-10-02 2006-08-15 Molecular Imprints, Inc. Single phase fluid imprint lithography method
JP4393244B2 (ja) * 2004-03-29 2010-01-06 キヤノン株式会社 インプリント装置
US20060138689A1 (en) * 2004-12-29 2006-06-29 Endrud John N Apparatus and method for compression molding a chair mat
US7951316B2 (en) * 2005-04-05 2011-05-31 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Process for pipe seal manufacture
US7316554B2 (en) * 2005-09-21 2008-01-08 Molecular Imprints, Inc. System to control an atmosphere between a body and a substrate
US7670530B2 (en) * 2006-01-20 2010-03-02 Molecular Imprints, Inc. Patterning substrates employing multiple chucks
JP4185941B2 (ja) * 2006-04-04 2008-11-26 キヤノン株式会社 ナノインプリント方法及びナノインプリント装置
JP4819577B2 (ja) * 2006-05-31 2011-11-24 キヤノン株式会社 パターン転写方法およびパターン転写装置
US8144309B2 (en) * 2007-09-05 2012-03-27 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
JP5065880B2 (ja) * 2007-12-27 2012-11-07 株式会社日立産機システム 微細構造転写装置および微細構造転写方法
US8187515B2 (en) * 2008-04-01 2012-05-29 Molecular Imprints, Inc. Large area roll-to-roll imprint lithography
JP5121549B2 (ja) * 2008-04-21 2013-01-16 株式会社東芝 ナノインプリント方法
JP5235506B2 (ja) * 2008-06-02 2013-07-10 キヤノン株式会社 パターン転写装置及びデバイス製造方法
WO2009153925A1 (ja) * 2008-06-17 2009-12-23 株式会社ニコン ナノインプリント方法及び装置
EP2138896B1 (en) * 2008-06-25 2014-08-13 Obducat AB Nano imprinting method and apparatus
JP5371349B2 (ja) * 2008-09-19 2013-12-18 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品の製造方法
JP5268524B2 (ja) * 2008-09-26 2013-08-21 キヤノン株式会社 加工装置
US20100096764A1 (en) * 2008-10-20 2010-04-22 Molecular Imprints, Inc. Gas Environment for Imprint Lithography
JP5495767B2 (ja) * 2009-12-21 2014-05-21 キヤノン株式会社 インプリント装置及び方法、並びに物品の製造方法
US8691134B2 (en) * 2010-01-28 2014-04-08 Molecular Imprints, Inc. Roll-to-roll imprint lithography and purging system
JP5754965B2 (ja) * 2011-02-07 2015-07-29 キヤノン株式会社 インプリント装置、および、物品の製造方法
JP2013098497A (ja) * 2011-11-04 2013-05-20 Canon Inc インプリント装置及び物品の製造方法
US9616614B2 (en) * 2012-02-22 2017-04-11 Canon Nanotechnologies, Inc. Large area imprint lithography

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11137680B2 (en) 2017-09-28 2021-10-05 Canon Kabushiki Kaisha Shaping apparatus and article manufacturing method
US11747722B2 (en) 2019-02-14 2023-09-05 Canon Kabushiki Kaisha Imprint method, imprint apparatus, and method of manufacturing article

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