JP5817327B2 - 酸化物焼結体、その製造方法、それを用いて得られる酸化物透明導電膜及び太陽電池 - Google Patents
酸化物焼結体、その製造方法、それを用いて得られる酸化物透明導電膜及び太陽電池 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5817327B2 JP5817327B2 JP2011179756A JP2011179756A JP5817327B2 JP 5817327 B2 JP5817327 B2 JP 5817327B2 JP 2011179756 A JP2011179756 A JP 2011179756A JP 2011179756 A JP2011179756 A JP 2011179756A JP 5817327 B2 JP5817327 B2 JP 5817327B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide
- phase
- tin
- powder
- conductive film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 117
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 352
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 226
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 207
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 134
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 134
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 106
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 105
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 104
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 103
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 96
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 96
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 60
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 claims description 58
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 55
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 45
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 44
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 42
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 26
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 21
- DVRDHUBQLOKMHZ-UHFFFAOYSA-N chalcopyrite Chemical group [S-2].[S-2].[Fe+2].[Cu+2] DVRDHUBQLOKMHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- WGPCGCOKHWGKJJ-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenezinc Chemical compound [Zn]=S WGPCGCOKHWGKJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 5
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 274
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 148
- 238000000034 method Methods 0.000 description 118
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 83
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 76
- BDAGIHXWWSANSR-NJFSPNSNSA-N hydroxyformaldehyde Chemical compound O[14CH]=O BDAGIHXWWSANSR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 68
- 229910000018 strontium carbonate Inorganic materials 0.000 description 68
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 51
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 49
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 43
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 42
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 40
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 39
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 description 37
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 37
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 35
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 29
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 28
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 26
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 22
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 19
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 18
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 13
- 229910052951 chalcopyrite Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 7
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 4
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 229910021476 group 6 element Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000012207 quantitative assay Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001257 Nb alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001362 Ta alloys Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000756 V alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003363 ZnMgO Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-N selane Chemical compound [SeH2] SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000058 selane Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- DHEQXMRUPNDRPG-UHFFFAOYSA-N strontium nitrate Chemical compound [Sr+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O DHEQXMRUPNDRPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- -1 chalcopyrite compound Chemical class 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009700 powder processing Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000004549 pulsed laser deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 229910052950 sphalerite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001631 strontium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G19/00—Compounds of tin
- C01G19/006—Compounds containing, besides tin, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/453—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zinc, tin, or bismuth oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. zincates, stannates or bismuthates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/453—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zinc, tin, or bismuth oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. zincates, stannates or bismuthates
- C04B35/457—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zinc, tin, or bismuth oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. zincates, stannates or bismuthates based on tin oxides or stannates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/6261—Milling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62625—Wet mixtures
- C04B35/62635—Mixing details
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62645—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering
- C04B35/62675—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering characterised by the treatment temperature
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62685—Treating the starting powders individually or as mixtures characterised by the order of addition of constituents or additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/64—Burning or sintering processes
- C04B35/645—Pressure sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/08—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022408—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/022425—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022466—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022466—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers
- H01L31/022475—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers composed of indium tin oxide [ITO]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/06—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
- H01L31/072—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type
- H01L31/0749—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type including a AIBIIICVI compound, e.g. CdS/CulnSe2 [CIS] heterojunction solar cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/1884—Manufacture of transparent electrodes, e.g. TCO, ITO
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/30—Three-dimensional structures
- C01P2002/34—Three-dimensional structures perovskite-type (ABO3)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/50—Solid solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/40—Electric properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3205—Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
- C04B2235/3213—Strontium oxides or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3286—Gallium oxides, gallates, indium oxides, indates, thallium oxides, thallates or oxide forming salts thereof, e.g. zinc gallate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3293—Tin oxides, stannates or oxide forming salts thereof, e.g. indium tin oxide [ITO]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5409—Particle size related information expressed by specific surface values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5445—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof submicron sized, i.e. from 0,1 to 1 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
- C04B2235/604—Pressing at temperatures other than sintering temperatures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/656—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
- C04B2235/6562—Heating rate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/656—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
- C04B2235/6565—Cooling rate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/658—Atmosphere during thermal treatment
- C04B2235/6583—Oxygen containing atmosphere, e.g. with changing oxygen pressures
- C04B2235/6585—Oxygen containing atmosphere, e.g. with changing oxygen pressures at an oxygen percentage above that of air
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/658—Atmosphere during thermal treatment
- C04B2235/6586—Processes characterised by the flow of gas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
- C04B2235/768—Perovskite structure ABO3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/77—Density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/78—Grain sizes and shapes, product microstructures, e.g. acicular grains, equiaxed grains, platelet-structures
- C04B2235/786—Micrometer sized grains, i.e. from 1 to 100 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/80—Phases present in the sintered or melt-cast ceramic products other than the main phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
- C04B2235/963—Surface properties, e.g. surface roughness
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/541—CuInSe2 material PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Description
(1)主としてインジウムと、錫、ストロンチウム及び酸素から構成される酸化物焼結体であって、実質的にビックスバイト型酸化物相及びペロブスカイト型酸化物相の結晶相から構成されるか、又は実質的にビックスバイト型酸化物相の結晶相のみから構成され、酸化物焼結体中の錫及びストロンチウムの含有量が、原子比で
Sn/(In+Sn+Sr)=0.01〜0.11
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
であることを特徴とする酸化物焼結体。
(2)酸化物焼結体が、ビックスバイト型酸化物相及びペロブスカイト型酸化物相の結晶相から構成され、その両相に錫とストロンチウムが含まれ、かつ酸化物焼結体中に酸化錫相と酸化ストロンチウム相が存在しないことを特徴とする、上述の(1)に記載の酸化物焼結体。
(3)ストロンチウムがペロブスカイト型酸化物相にすべて含まれていることを特徴とする、上述の(1)または(2)に記載の酸化物焼結体。
(4)ペロブスカイト型酸化物相の平均粒径が5μm以下であることを特徴とする、上述の(1)乃至(3)いずれかに記載の酸化物焼結体。
(5)ストロンチウム源となる粉末の全量と、原子比でSn/(Sn+Sr)=0.4〜0.6の錫量となる量の錫源となる粉末とを予備混合し、800〜1200℃で仮焼した後に、平均粒径が0.5μm以下となるように調整し、次いで最終組成が金属元素の原子比で表して、
Sn/(In+Sn+Sr)=0.01〜0.11
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
となるように酸化インジウム粉末及び酸化錫粉末を追加して混合し、得られた混合粉末を成形、焼成することを特徴とする上述の(1)乃至(4)いずれかに記載の酸化物焼結体の製造方法。
(6)上述の(1)乃至(4)いずれかに記載の酸化物焼結体からなることを特徴とするスパッタリングターゲット。
(7)上述の(6)に記載のスパッタリングターゲットを用いてスパッタリングすることを特徴とする、酸化物透明導電膜の製造方法。
(8)上述の(7)に記載の方法により得られることを特徴とする酸化物透明導電膜。
(9)基板上に、少なくとも酸化物透明導電膜および光電変換層を積層した太陽電池において、前記酸化物透明導電膜が、主としてインジウム、錫、ストロンチウム及び酸素から構成され、かつ結晶質のビックスバイト型酸化インジウム相から実質的に構成され、酸化物透明導電膜中の錫及びストロンチウムの含有量が、原子比で
Sn/(In+Sn+Sr)=0.01〜0.11
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
であることを特徴とする太陽電池。
(10)酸化物透明導電膜中の錫及びストロンチウムの含有量が、原子比で
Sn/(In+Sn+Sr)=0.03〜0.08
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
である、(9)に記載の太陽電池。
(11)酸化物透明導電膜中の錫及びストロンチウムの含有量が、原子比で
Sn/(In+Sn+Sr)=0.03〜0.08
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0008〜0.004
である、(9)または(10)に記載の太陽電池。
(12)光電変換層がシリコン系半導体である(9)乃至(11)いずれかに記載の太陽電池。
(13)光電変換層が、化合物半導体である(9)乃至(11)いずれかに記載の太陽電池。
(14)化合物半導体がp型閃亜鉛鉱型関連構造を有する化合物半導体である、(13)に記載の太陽電池。
(15)p型閃亜鉛鉱型関連構造を有する化合物半導体がp型カルコパイライト型構造を有する化合物半導体であり、当該化合物半導体上にn型バッファ層が積層され、そのn型バッファ層上に前記酸化物透明導電膜が積層されている、(14)に記載の太陽電池。
(16)n型バッファ層が酸化亜鉛を主成分とする酸化物透明膜である、(15)に記載の太陽電池。
(17)酸化物透明導電膜が、スパッタリング法で成膜されたものである、(9)乃至(16)いずれかに記載の太陽電池。
(18)主としてインジウム、錫、ストロンチウム及び酸素から構成され、かつ結晶質のビックスバイト型酸化インジウム相から実質的に構成され、錫及びストロンチウムの含有量が、原子比で
Sn/(In+Sn+Sr)=0.01〜0.11
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
であることを特徴とする、太陽電池用酸化物透明導電膜。
Sn/(In+Sn+Sr)=0.01〜0.11
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
である。
A=(a+b+c)/((a/7.18)+(b/6.95)+(c/4.7))
酸化物焼結体の焼結密度B(g/cm3)は、JIS−R1634−1998に準拠してアルキメデス法で測定した
相対密度(%)は、算術的に求めた理論密度A(g/cm3)に対する焼結密度B(g/cm3)の相対値として、下式により求めた。
相対密度(%)=B/A×100
また、本発明の酸化物焼結体は、錫とストロンチウムが、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に含まれており、酸化錫相と酸化ストロンチウム相が存在しないことが好ましい。酸化錫相や酸化ストロンチウム相が酸化物焼結体中に含まれていると、これらは高抵抗、あるいは絶縁性物質であるため、スパッタリング中の異常放電の原因となってしまう。そのため、錫及びストロンチウムは、酸化物焼結体中で酸化錫相や酸化ストロンチウム相として存在するのではなく、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相にすべて含まれていることが好ましい。
Sn/(In+Sn+Sr)=0.01〜0.11
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
である。
Sn/(In+Sn+Sr)=0.01〜0.11
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
である。
Sn/(In+Sn+Sr)=0.03〜0.08
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
であることが好ましく、より高い変換効率を得ることができ、
Sn/(In+Sn+Sr)=0.03〜0.08
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0008〜0.004
であることがより一層好ましく、より一層高い変換効率を得ることができる。
Sn/(In+Sn+Sr)=0.01〜0.11
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
の組成を有する酸化物焼結体からなるターゲットを用いてスパッタリングを行えばよい。このようにして得られる膜は、結晶質のビックスバイト型酸化インジウム相から実質的に構成される。
(組成)
ICP発光分析法により定量した。
(焼結密度)
酸化物焼結体の焼結密度は、JIS−R1634−1998に準拠してアルキメデス法で測定した。
(平均粒径)
酸化物焼結体中のペロブスカイト型構造を有する粒子の平均粒径は、前述のようにして求めた。ただし、走査電子顕微鏡を用いて観察写真を得、平均粒径は各粒子500個から求めた。
(X線回折試験)
酸化物焼結体の結晶相は、X線回折試験で同定した。測定条件は以下の通りである。
・X線源 :CuKα
・パワー :40kV、40mA
・走査速度 :1°/分
得られた回折パターンを解析し、1)ビックスバイト型酸化物相、2)ペロブスカイト型酸化物相、及び3)酸化錫相や酸化ストロンチウム相等の1)2)以外の他の結晶相、とに分類し、1)、2)、3)の結晶相のそれぞれにおいて同定された場合は「○」、同定されなかった場合は「×」とした。
(放電特性)
下記スパッタリング条件下で1時間当たりに生じた異常放電回数を算出した。
スパッタリング条件
・装置 :DCマグネトロンスパッタリング装置(アルバック社製)
・磁界強度 :1000Gauss(ターゲット直上、水平成分)
・基板温度 :室温(約25℃)
・到達真空度 :5×10−5Pa
・スパッタリングガス :アルゴン+酸素
(酸素量=酸素/(アルゴン+酸素)=0.005)
・スパッタリングガス圧:0.5Pa
・DCパワー :200W
・スパッタリング時間 :30時間。
(透過率)
基板を含めた光透過率を分光光度計U−4100(日立製作所社製)で波長240nmから2600nmの範囲を測定した。膜自体の透過率は、下式により定義した。
(抵抗率)
薄膜の抵抗率は、HL5500(日本バイオ・ラッド ラボラトリーズ社製)を用いて測定した。
(信頼性)
薄膜試料を温度85℃、相対湿度85%の環境に連続的に1000時間まで曝し、抵抗率の変化を観察した。このとき、試験前後の抵抗率をそれぞれA、Bとしたときに、(B−A)/Aの値を%単位で求めて信頼性の指標とした。通常、この値は試験時間とともに変化する傾向にあり、値が0に近いほど特性が安定しているため、信頼性が優れていることを示している。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムはビックスバイト型酸化物相として存在することを確認した。
このような酸化物焼結体を4インチφサイズに加工し、ターゲットのスパッタリング面となる面は、平面研削盤とダイヤモンド砥石を用い、砥石の番手を変えることにより、中心線平均粗さを調整し、ターゲットを作製した。
(スパッタリング成膜条件)
・装置 :DCマグネトロンスパッタ装置
・磁界強度 :1000Gauss(ターゲット直上、水平成分)
・基板温度 :室温(約25℃)
・到達真空度 :5×10−5Pa
・スパッタリングガス :アルゴン+酸素
(酸素量=酸素/(アルゴン+酸素)で実施例に記載)
・スパッタリングガス圧:0.5Pa
・DCパワー :200W
・膜厚 :150nm
・使用基板 :無アルカリガラス(コーニング社製#1737ガラス)
厚さ0.7mm
(成膜後の処理条件)
基板上に成膜した試料を200℃で1時間、熱処理を行った。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムはビックスバイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムはビックスバイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムはビックスバイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1400℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1350℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :10時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1600℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1600℃
・保持時間 :10時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、及び純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末を原料粉末とし、乾式ボールミルで所定量となるように混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相に起因する回折ピークは検出されなかった。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、及び純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末を原料粉末とし、乾式ボールミルで所定量となるように混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相に起因する回折ピークは検出されなかった。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、及び純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末を原料粉末とし、乾式ボールミルで所定量となるように混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相に起因する回折ピークは検出されなかった。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相に起因する回折ピークは検出されなかった。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相に起因する回折ピークは検出されなかった。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相に起因する回折ピークは検出されなかった。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相に起因する回折ピークは検出されなかった。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相に起因する回折ピークは検出されなかった。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1500℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。Sr:In=1:2の原子比となるように酸化インジウム粉末と炭酸ストロンチウム粉末を乾式ボールミルで混合し、大気中、1200℃で3時間仮焼した。得られた粉末の結晶相はSrIn2O4であり、平均粒径2.1μmであった。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を、PVA水溶液(PVA添加量は固形分換算で粉末量に対して0.5重量%)を添加した湿式ボールミルで混合した。乾燥した後、3.0ton/cm2でCIP成形した。なお、平均粒径は1.8μmであった。得られた成形体を、大気中、昇温速度60℃/時間、600℃で10時間保持することで添加したPVAを脱脂した。この脱脂体を純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :800℃までを200℃/時間、800〜1550℃までを400
℃/時間
・焼結温度 :1550℃
・保持時間 :8時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とSrIn2O4に相当するスピネル型酸化物相に起因する回折ピークが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムはインジウムと化合物を形成し、スピネル型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。Sr:In=1:2の原子比となるように酸化インジウム粉末と炭酸ストロンチウム粉末を乾式ボールミルで混合し、大気中、1200℃で3時間仮焼した。得られた粉末の結晶相はSrIn2O4であり、平均粒径2.1μmであった。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を、PVA水溶液(PVA添加量は固形分換算で粉末量に対して0.5重量%)を添加した湿式ボールミルで混合した。乾燥した後、3.0ton/cm2でCIP成形した。なお、平均粒径は1.8μmであった。得られた成形体を、大気中、昇温速度60℃/時間、600℃で10時間保持することで添加したPVAを脱脂した。この脱脂体を純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :800℃までを200℃/時間、800〜1550℃までを400
℃/時間
・焼結温度 :1550℃
・保持時間 :8時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相、SrIn2O4に相当するスピネル型酸化物相に起因する回折ピークが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムはインジウム、錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相、スピネル型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
酸化物焼結体の作製
純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化インジウム粉末、純度99.99%、平均粒径0.5μmの酸化錫粉末及び純度99.9%、平均粒径1μmの炭酸ストロンチウム粉末を原料粉末とした。酸化錫粉末と炭酸ストロンチウム粉末を、錫元素とストロンチウム元素の原子比が同量(Sn/(Sn+Sr)=0.5)となるように乾式ボールミルで混合し、大気中、1000℃で2時間仮焼した後、乾式ボールミルで処理し、平均粒径0.2μmとした。得られた粉末に最終組成となるように酸化インジウム粉末と酸化錫粉末を乾式ボールミルで混合した。平均粒径は0.2μmであった。得られた粉末を直径150mmの金型を用いて、0.3ton/cm2で金型成形し、次いで3.0ton/cm2でCIP成形し、純酸素雰囲気焼結炉内に設置して、以下の条件で焼結した。
(焼成条件)
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1300℃
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
得られた焼結体を粉砕し、X線回折試験により実施例1と同様に生成相を同定したところ、ビックスバイト型酸化物相とペロブスカイト型酸化物相に起因する回折ピークのみが観察され、酸化錫相と酸化ストロンチウム相に起因する回折ピークは検出されなかった。さらに、SEM、EPMAによる分析を行い、ストロンチウムは錫と化合物を形成し、ペロブスカイト型酸化物相として存在することを確認した。
実施例1と同様の方法により、ターゲットを作製し、得られたスパッタリングターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法により実施例1と同様の条件で成膜した後、後処理を行って酸化物透明導電膜を得た。
実施例19−28、比較例19−28
(太陽電池の作製と評価方法)
裏面金属電極(2)として、Mo電極(600nm)を形成した市販のMo電極付ガラス基板(基板(1)はソーダライムガラス基板(1mm))の裏面金属電極層(2)の上に、市販のCuIn0.8Ga0.2Se2(CIGS)ターゲットを用いたRFマグネトロンスパッタリング法により、CIGS層(1500nm)のp型カルコパイライト型構造を有する化合物半導体を形成した(光電変換層(3))。このときの基板温度は500℃とした。その上にバッファ層(4)として、RFマグネトロンスパッタリング法によりZn0.8Mg0.2O(100nm)のn型バッファ層を形成した。このときの基板温度は200℃とした。
透明導電膜(5)は、焼結密度99%以上のスパッタリングターゲットを用いたマグネトロンスパッタリング法により成膜した。その特性を表1に示す。
酸化インジウム粉末:純度99.99%、平均粒径0.5μm
酸化錫粉末:純度99.99%、平均粒径0.5μm
炭酸ストロンチウム粉末:純度99.9%、平均粒径1μm
原料粉末の平均粒径は、COULTER LS130(COULTER ELECTRONICS社製)を用い、蒸留水中、液体モジュールで測定した。測定値は体積基準である。
・昇温速度 :50℃/時間
・焼結温度 :1600℃:実施例19〜21、26、比較例19、23、27
1500℃:実施例22〜25、27、28、比較例20〜22、24〜26、28
・保持時間 :5時間
・焼結雰囲気:昇温時の室温から降温時の100℃まで純酸素ガスを炉内に導入
・降温速度 :100℃/時間
このようにして得られた複合酸化物焼結体を4インチφサイズに加工し、ターゲットのスパッタリング面となる面は、平面研削盤とダイヤモンド砥石を用い、砥石の番手を変えることにより、中心線平均粗さを調整し、ターゲットを作製した。
(スパッタリング成膜条件)
・装置 :DCマグネトロンスパッタ装置
・磁界強度 :1000Gauss(ターゲット直上、水平成分)
・基板温度 :室温(約25℃)
・到達真空度 :5×10−5Pa
・スパッタリングガス :アルゴン+酸素
(酸素/(アルゴン+酸素)で実施例に記載)
・スパッタリングガス圧:0.5Pa
・DCパワー :200W
・膜厚 :150nm
(成膜後の処理条件)
基板上に成膜した試料を200℃で1時間、熱処理を行った。
酸化物透明導電膜の特性は、前述のスパッタリング成膜条件で、厚さ0.7mmの無アルカリガラス(コーニング社製#1737ガラス)を基板として直接成膜し、前述の成膜後の処理を施して評価した。結果を表3に記載する。
ICP発光分光分析装置(セイコーインスツルメンツ社製)を用いて、ICP発光分光分析法により定量を行った。
測定条件は以下の通りである。
・X線源 :CuKα
・パワー :40kV、40mA
・走査速度 :1°/分。
基板を含めた光透過率を、分光光度計U−4100(日立製作所社製)を用いて波長240nmから2600nmの範囲で測定した。膜自体の透過率は下式により定義し、その値を表1に記載した。
((基板を含めた透過率)/(基板のみの透過率))×100 (%)
なお、波長400nmから800nmの透過率の平均値を可視光領域の透過率、波長800nmから1200nmの透過率の平均値を赤外領域の透過率とした。
薄膜試料を温度85℃、相対湿度85%の環境に連続的に曝し、抵抗率の変化を観察した。このとき、試験前後の抵抗率をそれぞれA、Bとしたときに、(B−A)/Aの値を%単位で求めて耐久性の指標とした。通常、この値は試験時間とともに増加傾向にあり、値が小さいほど耐熱耐湿性が優れていることを示している。
薄膜の抵抗率は、HL5500(日本バイオ・ラッド ラボラトリーズ社製)を用いて測定した。
2:裏面金属電極
3:光電変換層(p型カルコパイライト型構造を有する化合物半導体)
4:バッファ層
5:透明導電膜
6:表面金属電極
Claims (17)
- 主としてインジウムと、錫、ストロンチウム及び酸素から構成される酸化物焼結体であって、実質的にビックスバイト型酸化物相及びペロブスカイト型酸化物相の結晶相から構成されるか、又は実質的にビックスバイト型酸化物相の結晶相のみから構成され、酸化物焼結体中の錫及びストロンチウムの含有量が、原子比で
Sn/(In+Sn+Sr)=0.01〜0.11
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
であり、相対密度が97%以上であることを特徴とする酸化物焼結体。 - 酸化物焼結体が、ビックスバイト型酸化物相及びペロブスカイト型酸化物相の結晶相から構成され、その両相に錫とストロンチウムが含まれ、かつ酸化物焼結体中に酸化錫相と酸化ストロンチウム相が存在しないことを特徴とする、請求項1に記載の酸化物焼結体。
- ストロンチウムがペロブスカイト型酸化物相にすべて含まれていることを特徴とする、請求項1または2に記載の酸化物焼結体。
- ペロブスカイト型酸化物相の平均粒径が5μm以下であることを特徴とする、請求項1乃至3いずれかに記載の酸化物焼結体。
- ストロンチウム源となる粉末の全量と、原子比でSn/(Sn+Sr)=0.4〜0.6の錫量となる量の錫源となる粉末とを予備混合し、800〜1200℃で仮焼した後に、平均粒径が0.5μm以下となるように調整し、次いで最終組成が金属元素の原子比で表して、
Sn/(In+Sn+Sr)=0.01〜0.11
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
となるように酸化インジウム粉末及び酸化錫粉末を追加して混合し、得られた混合粉末を成形、1350℃以上1650℃未満で焼成することを特徴とする請求項1乃至4いずれかに記載の酸化物焼結体の製造方法。 - 請求項1乃至4いずれかに記載の酸化物焼結体からなることを特徴とするスパッタリングターゲット。
- 請求項6に記載のスパッタリングターゲットを用いてスパッタリングすることを特徴とする、酸化物透明導電膜の製造方法。
- 基板上に、少なくとも酸化物透明導電膜および光電変換層を積層した太陽電池において、前記酸化物透明導電膜が、主としてインジウム、錫、ストロンチウム及び酸素から構成され、かつ結晶質のビックスバイト型酸化インジウム相から実質的に構成され、酸化物透明導電膜中の錫及びストロンチウムの含有量が、原子比で
Sn/(In+Sn+Sr)=0.01〜0.11
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
であることを特徴とする太陽電池。 - 酸化物透明導電膜中の錫及びストロンチウムの含有量が、原子比で
Sn/(In+Sn+Sr)=0.03〜0.08
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
である、請求項8に記載の太陽電池。 - 酸化物透明導電膜中の錫及びストロンチウムの含有量が、原子比で
Sn/(In+Sn+Sr)=0.03〜0.08
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0008〜0.004
である、請求項8または9に記載の太陽電池。 - 光電変換層がシリコン系半導体である、請求項8乃至10いずれかに記載の太陽電池。
- 光電変換層が化合物半導体である、請求項8乃至10いずれかに記載の太陽電池。
- 化合物半導体がp型閃亜鉛鉱型関連構造を有する化合物半導体である、請求項12に記載の太陽電池。
- p型閃亜鉛鉱型関連構造を有する化合物半導体がp型カルコパイライト型構造を有する化合物半導体であり、当該化合物半導体上にn型バッファ層が積層され、そのn型バッファ層上に前記酸化物透明導電膜が積層されている、請求項13に記載の太陽電池。
- n型バッファ層が酸化亜鉛を主成分とする酸化物透明膜である、請求項14に記載の太陽電池。
- 酸化物透明導電膜が、スパッタリング法で成膜されたものである、請求項8乃至15いずれかに記載の太陽電池。
- 主としてインジウム、錫、ストロンチウム及び酸素から構成され、かつ結晶質のビックスバイト型酸化インジウム相から実質的に構成され、錫及びストロンチウムの含有量が、原子比で
Sn/(In+Sn+Sr)=0.01〜0.11
Sr/(In+Sn+Sr)=0.0005〜0.004
であることを特徴とする、太陽電池用酸化物透明導電膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011179756A JP5817327B2 (ja) | 2010-09-29 | 2011-08-19 | 酸化物焼結体、その製造方法、それを用いて得られる酸化物透明導電膜及び太陽電池 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010218535 | 2010-09-29 | ||
JP2010218535 | 2010-09-29 | ||
JP2010273490 | 2010-12-08 | ||
JP2010273490 | 2010-12-08 | ||
JP2011179756A JP5817327B2 (ja) | 2010-09-29 | 2011-08-19 | 酸化物焼結体、その製造方法、それを用いて得られる酸化物透明導電膜及び太陽電池 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012136415A JP2012136415A (ja) | 2012-07-19 |
JP5817327B2 true JP5817327B2 (ja) | 2015-11-18 |
Family
ID=45893009
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011179756A Active JP5817327B2 (ja) | 2010-09-29 | 2011-08-19 | 酸化物焼結体、その製造方法、それを用いて得られる酸化物透明導電膜及び太陽電池 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9399815B2 (ja) |
EP (1) | EP2623478B1 (ja) |
JP (1) | JP5817327B2 (ja) |
KR (1) | KR101841314B1 (ja) |
CN (1) | CN103237773B (ja) |
MY (1) | MY162939A (ja) |
TW (1) | TWI520924B (ja) |
WO (1) | WO2012043570A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104781211B (zh) * | 2012-11-19 | 2017-04-19 | 东曹株式会社 | 氧化物烧结体、使用其的溅射靶及氧化物膜 |
JP6261988B2 (ja) | 2013-01-16 | 2018-01-17 | 日東電工株式会社 | 透明導電フィルムおよびその製造方法 |
JP6261987B2 (ja) * | 2013-01-16 | 2018-01-17 | 日東電工株式会社 | 透明導電フィルムおよびその製造方法 |
US9136408B2 (en) | 2013-11-26 | 2015-09-15 | Hunt Energy Enterprises, Llc | Perovskite and other solar cell materials |
CN103819177B (zh) * | 2013-12-11 | 2015-09-09 | 广西晶联光电材料有限责任公司 | 一种ITiO靶材的制备方法 |
US20160343554A1 (en) * | 2013-12-27 | 2016-11-24 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Oxide sintered body, method for producing same and sputtering target |
JP6358329B2 (ja) * | 2014-04-17 | 2018-07-18 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化物焼結体、スパッタリング用ターゲット、及びそれを用いて得られる酸化物半導体薄膜 |
KR101856726B1 (ko) * | 2014-12-08 | 2018-05-10 | 주식회사 엘지화학 | 유무기 하이브리드 페로브스카이트 화합물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 태양전지 |
JP2017014551A (ja) * | 2015-06-29 | 2017-01-19 | Tdk株式会社 | スパッタリングターゲット |
JP6308191B2 (ja) * | 2015-09-16 | 2018-04-11 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタターゲット、ならびに半導体デバイスの製造方法 |
JP6326560B1 (ja) * | 2016-10-04 | 2018-05-16 | 出光興産株式会社 | 酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット |
CN108539020A (zh) * | 2018-02-13 | 2018-09-14 | 全球能源互联网研究院有限公司 | 一种分离双结式钙钛矿太阳能电池及其制备方法 |
KR102253914B1 (ko) * | 2019-10-14 | 2021-05-20 | 가천대학교 산학협력단 | 금속산화물 타겟의 제조 방법, 및 이를 이용하여 제조된 다중 유전 박막 |
CN111943650B (zh) * | 2020-07-22 | 2022-11-29 | 长沙壹纳光电材料有限公司 | 一种用于活化等离子沉积技术的iwo靶材及其制备方法 |
CN113295002B (zh) * | 2021-05-24 | 2022-12-09 | 河北恒博新材料科技股份有限公司 | 一种igzo旋转靶烧结时的装炉方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0978236A (ja) | 1995-09-14 | 1997-03-25 | Fuji Electric Co Ltd | 酸化インジウム・すず透明導電膜の成膜方法 |
JPH09219530A (ja) | 1996-02-08 | 1997-08-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | カルコパイライト構造半導体薄膜太陽電池及びその製造方法 |
JP2001007365A (ja) * | 1999-06-22 | 2001-01-12 | Tdk Corp | 太陽電池 |
JP2002030429A (ja) * | 2000-07-18 | 2002-01-31 | Tosoh Corp | Itoスパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
JP4424889B2 (ja) | 2001-06-26 | 2010-03-03 | 三井金属鉱業株式会社 | 高抵抗透明導電膜用スパッタリングターゲット及び高抵抗透明導電膜の製造方法 |
TWI254080B (en) * | 2002-03-27 | 2006-05-01 | Sumitomo Metal Mining Co | Transparent conductive thin film, process for producing the same, sintered target for producing the same, and transparent, electroconductive substrate for display panel, and organic electroluminescence device |
JP2004026554A (ja) * | 2002-06-25 | 2004-01-29 | Nippon Soda Co Ltd | 透明導電膜形成液及びそれを用いた透明導電膜付基体の製法 |
CN1809932A (zh) * | 2003-12-05 | 2006-07-26 | 松下电器产业株式会社 | 复合半导体膜、太阳能电池及其制备方法 |
JP4683525B2 (ja) * | 2004-04-07 | 2011-05-18 | 日本曹達株式会社 | 透明導電膜、及び透明導電膜形成材料 |
JP4826066B2 (ja) * | 2004-04-27 | 2011-11-30 | 住友金属鉱山株式会社 | 非晶質の透明導電性薄膜およびその製造方法、並びに、該非晶質の透明導電性薄膜を得るためのスパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
TWI478347B (zh) | 2007-02-09 | 2015-03-21 | Idemitsu Kosan Co | A thin film transistor, a thin film transistor substrate, and an image display device, and an image display device, and a semiconductor device |
JP4855964B2 (ja) | 2007-02-09 | 2012-01-18 | 株式会社アルバック | Ito燒結体、itoスパッタリングターゲット及びその製造方法 |
KR20090127357A (ko) * | 2007-03-30 | 2009-12-10 | 미츠이 긴조쿠 고교 가부시키가이샤 | 산화인듐계 투명 도전막의 제조 방법 |
WO2009044896A1 (ja) * | 2007-10-03 | 2009-04-09 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | 酸化インジウム系透明導電膜の製造方法 |
WO2009044890A1 (ja) | 2007-10-03 | 2009-04-09 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | 酸化インジウム系ターゲット |
EP2250664A4 (en) * | 2008-01-28 | 2013-07-17 | Amit Goyal | HIGH-SURFACE FLEXIBLE ELECTRONIC DEVICES BASED ON SEMICONDUCTORS, OF TEXTURE [100] OR [110] AND ALIGNED |
WO2009096931A1 (en) * | 2008-01-28 | 2009-08-06 | Amit Goyal | Semiconductor-based large-area flexible electronic devices |
CN106653822A (zh) * | 2008-03-06 | 2017-05-10 | 阿米特·戈亚尔 | 在{110}<100>取向的衬底上的基于半导体的大面积的柔性电子器件 |
JP2010030824A (ja) | 2008-07-28 | 2010-02-12 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 金属相含有酸化インジウム焼結体及びその製造方法 |
JPWO2010047063A1 (ja) | 2008-10-23 | 2012-03-22 | 出光興産株式会社 | 高純度結晶質酸化インジウム半導体膜を有する薄膜トランジスタ、及びその製造方法 |
EP2553370B1 (de) * | 2010-03-26 | 2019-05-15 | Linde Aktiengesellschaft | Vorrichtung zur tieftemperaturzerlegung von luft |
-
2011
- 2011-08-19 JP JP2011179756A patent/JP5817327B2/ja active Active
- 2011-09-27 CN CN201180057433.5A patent/CN103237773B/zh active Active
- 2011-09-27 KR KR1020137010296A patent/KR101841314B1/ko active IP Right Grant
- 2011-09-27 US US13/876,278 patent/US9399815B2/en active Active
- 2011-09-27 EP EP11829123.6A patent/EP2623478B1/en active Active
- 2011-09-27 WO PCT/JP2011/072091 patent/WO2012043570A1/ja active Application Filing
- 2011-09-27 MY MYPI2013700494A patent/MY162939A/en unknown
- 2011-09-29 TW TW100135305A patent/TWI520924B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
MY162939A (en) | 2017-07-31 |
TWI520924B (zh) | 2016-02-11 |
TW201228986A (en) | 2012-07-16 |
KR20130113458A (ko) | 2013-10-15 |
CN103237773B (zh) | 2014-07-30 |
WO2012043570A1 (ja) | 2012-04-05 |
US20130276879A1 (en) | 2013-10-24 |
EP2623478A1 (en) | 2013-08-07 |
EP2623478B1 (en) | 2018-11-07 |
US9399815B2 (en) | 2016-07-26 |
CN103237773A (zh) | 2013-08-07 |
EP2623478A4 (en) | 2014-03-26 |
KR101841314B1 (ko) | 2018-05-04 |
JP2012136415A (ja) | 2012-07-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5817327B2 (ja) | 酸化物焼結体、その製造方法、それを用いて得られる酸化物透明導電膜及び太陽電池 | |
JP4231967B2 (ja) | 酸化物焼結体、その製造方法、透明導電膜、およびそれを用いて得られる太陽電池 | |
KR101759700B1 (ko) | 산화물 증착재와 투명 도전막 및 태양전지 | |
CN102791475B (zh) | 层合体及其制造方法以及使用其的功能元件 | |
KR101789347B1 (ko) | 투명 도전막 | |
KR20150097478A (ko) | 산화아연계 투명 도전막 | |
TWI455333B (zh) | 太陽能電池 | |
KR101805548B1 (ko) | 산화물 증착재와 증착 박막 및 태양전지 | |
TWI687547B (zh) | 氧化物透明導電膜、光電變換元件以及光電變化元件的製造方法 | |
KR20130100292A (ko) | 투명 도전막의 제조 방법 및 박막 태양 전지의 제조 방법 | |
KR20140001838A (ko) | 투명 도전막 적층체 및 그 제조 방법, 그리고 박막 태양 전지 및 그 제조 방법 | |
JP6357757B2 (ja) | 酸化物焼結体、それを用いたスパッタリングターゲット及び酸化物膜 | |
JP2012134434A (ja) | 太陽電池用透明電極膜およびそれを用いた太陽電池 | |
JP2011063866A (ja) | 複合酸化物焼結体、酸化物透明導電膜、及びその製造方法 | |
CN105308206A (zh) | 透明导电膜层叠体及其制造方法、以及薄膜太阳能电池及其制造方法 | |
US20120125425A1 (en) | Compound semiconductor solar cell and method of manufacturing the same | |
TW201517284A (zh) | 光發電元件 | |
JP2015160760A (ja) | 酸化物焼結体及び酸化物透明導電膜 | |
JP2012195501A (ja) | 薄膜光電変換素子および太陽電池 | |
JP2010238893A (ja) | (Zn,Ga,Al)O系透明電極層を構成層とする太陽電池および前記(Zn,Ga,Al)O系透明電極層の形成に用いられるZnO−Ga2O3−Al系スパッタリングターゲット | |
JP2012151393A (ja) | 太陽電池モジュール | |
JP2011222687A (ja) | 太陽電池 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140723 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150219 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150317 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150415 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150901 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150914 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5817327 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |