JP4855964B2 - Ito燒結体、itoスパッタリングターゲット及びその製造方法 - Google Patents
Ito燒結体、itoスパッタリングターゲット及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4855964B2 JP4855964B2 JP2007030272A JP2007030272A JP4855964B2 JP 4855964 B2 JP4855964 B2 JP 4855964B2 JP 2007030272 A JP2007030272 A JP 2007030272A JP 2007030272 A JP2007030272 A JP 2007030272A JP 4855964 B2 JP4855964 B2 JP 4855964B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sintered body
- ito
- oxide
- sputtering target
- tin oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
(比較例1)
(比較例2)
(比較例3)
Claims (3)
- 酸化スズと酸化インジウムとを含むITO燒結体において、
酸化スズを8〜12重量%、並びにMg、Ca、Zr及びHfのうちの少なくとも1種の元素の酸化物を0.001〜0.1重量%含み、残部が酸化インジウムであり、曲げ強度が240MPa以上であり、かつ表面抵抗が0.22mΩ以下であることを特徴とするITO燒結体。 - 請求項1記載のITO燒結体からなることを特徴とするITOスパッタリングターゲット。
- 請求項2記載のITOスパッタリングターゲットの製造方法であって、
酸化インジウム粉末、酸化スズ粉末、並びにMg、Ca、Zr及びHfのうちの少なくとも1種の元素の酸化物粉末を、酸化スズ8〜12重量%、Mg、Ca、Zr及びHfのうちの少なくとも1種の元素の酸化物0.001〜0.1重量%、並びに酸化インジウム残部の割合で配合し、この配合したものに分散剤、バインダー及び水を加えて混練した後、乾燥造粒し、この造粒粉を静水圧プレスし、次いで大気中で焼成することを特徴とするITOスパッタリングターゲットの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007030272A JP4855964B2 (ja) | 2007-02-09 | 2007-02-09 | Ito燒結体、itoスパッタリングターゲット及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007030272A JP4855964B2 (ja) | 2007-02-09 | 2007-02-09 | Ito燒結体、itoスパッタリングターゲット及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011109394A Division JP5277284B2 (ja) | 2011-05-16 | 2011-05-16 | Ito焼結体、itoスパッタリングターゲット及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008195554A JP2008195554A (ja) | 2008-08-28 |
JP4855964B2 true JP4855964B2 (ja) | 2012-01-18 |
Family
ID=39754849
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007030272A Active JP4855964B2 (ja) | 2007-02-09 | 2007-02-09 | Ito燒結体、itoスパッタリングターゲット及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4855964B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6133531B1 (ja) * | 2016-03-14 | 2017-05-24 | Jx金属株式会社 | 酸化物焼結体 |
WO2017158928A1 (ja) * | 2016-03-14 | 2017-09-21 | Jx金属株式会社 | 酸化物焼結体 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8277694B2 (en) * | 2007-07-13 | 2012-10-02 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Sintered compact of composite oxide, amorphous film of composite oxide, process for producing said film, crystalline film of composite oxide and process for producing said film |
TWI461365B (zh) * | 2007-10-03 | 2014-11-21 | Mitsui Mining & Smelting Co | 氧化銦系靶 |
CN105439541B (zh) | 2009-10-06 | 2018-09-14 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 氧化铟烧结体、氧化铟透明导电膜以及该透明导电膜的制造方法 |
KR101298897B1 (ko) * | 2010-06-25 | 2013-08-21 | 주식회사 유아이디 | 터치 패널의 코팅 유리용 ito 타겟 |
JP5817327B2 (ja) * | 2010-09-29 | 2015-11-18 | 東ソー株式会社 | 酸化物焼結体、その製造方法、それを用いて得られる酸化物透明導電膜及び太陽電池 |
JP6229366B2 (ja) * | 2012-08-08 | 2017-11-15 | 東ソー株式会社 | 複合酸化物焼結体及び酸化物透明導電膜 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0570942A (ja) * | 1991-09-11 | 1993-03-23 | Mitsubishi Materials Corp | スパツタリングによる透明導電性薄膜形成用高密度焼結ターゲツト材 |
JP3827334B2 (ja) * | 1993-08-11 | 2006-09-27 | 東ソー株式会社 | Ito焼結体及びスパッタリングターゲット |
JP3632524B2 (ja) * | 1999-09-24 | 2005-03-23 | 東ソー株式会社 | Mg含有ITOスパッタリングターゲットおよびMg含有ITO蒸着材の製造方法 |
JP4918737B2 (ja) * | 2001-03-23 | 2012-04-18 | 東ソー株式会社 | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット |
JP4904645B2 (ja) * | 2001-08-10 | 2012-03-28 | 東ソー株式会社 | Mg含有ITOスパッタリングターゲットの製造方法 |
JP4028269B2 (ja) * | 2002-03-19 | 2007-12-26 | 日鉱金属株式会社 | 高抵抗透明導電性膜用スパッタリングターゲット |
JP4234483B2 (ja) * | 2003-04-21 | 2009-03-04 | 日鉱金属株式会社 | Itoスパッタリングターゲット及びその製造方法並びにito透明導電膜 |
KR100787635B1 (ko) * | 2007-01-22 | 2007-12-21 | 삼성코닝 주식회사 | 산화인듐주석 타겟, 이의 제조 방법 및 이로부터 제조된산화인듐주석 투명 전극 |
-
2007
- 2007-02-09 JP JP2007030272A patent/JP4855964B2/ja active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6133531B1 (ja) * | 2016-03-14 | 2017-05-24 | Jx金属株式会社 | 酸化物焼結体 |
WO2017158928A1 (ja) * | 2016-03-14 | 2017-09-21 | Jx金属株式会社 | 酸化物焼結体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008195554A (ja) | 2008-08-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4855964B2 (ja) | Ito燒結体、itoスパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
KR101344633B1 (ko) | ZnO 증착재 및 그것에 의해 형성된 ZnO 막 | |
JP5024226B2 (ja) | 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、半導体薄膜 | |
JP5376117B2 (ja) | ZnOスパッタリングターゲットとその製造方法 | |
KR101590429B1 (ko) | 복합 산화물 소결체, 복합 산화물 소결체의 제조방법, 스퍼터링 타겟 및 박막의 제조방법 | |
JP2009249187A (ja) | 酸化亜鉛焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、電極 | |
JP2007031786A (ja) | スパッタリングターゲット、その製造方法及び透明導電膜 | |
KR20180093140A (ko) | Ito 스퍼터링 타겟 및 그 제조 방법 그리고 ito 투명 도전막 및 ito 투명 도전막의 제조 방법 | |
JP6024545B2 (ja) | 酸化亜鉛系焼結体とその製造方法およびスパッタリングターゲット | |
JP5277284B2 (ja) | Ito焼結体、itoスパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
JP5727130B2 (ja) | 複合酸化物焼結体及びその用途 | |
JP2008260660A (ja) | 高濃度酸化スズito焼結体の製造方法 | |
JP4508079B2 (ja) | スパッタリングターゲットの製造方法 | |
JP5376116B2 (ja) | ZnO蒸着材とその製造方法 | |
JP4196805B2 (ja) | 酸化インジウム系ターゲットおよびその製造方法 | |
JP4702126B2 (ja) | 酸化亜鉛系透明導電膜及びそれを用いた液晶ディスプレイ並びに酸化亜鉛系スパッタリングターゲット | |
JPH0570942A (ja) | スパツタリングによる透明導電性薄膜形成用高密度焼結ターゲツト材 | |
JP6067028B2 (ja) | 酸化亜鉛系スパッタリングターゲットの製造方法 | |
KR102164172B1 (ko) | Izo 타깃 및 그 제조 방법 | |
JP3632781B2 (ja) | 酸化物焼結体 | |
JP2009173469A (ja) | 高濃度酸化錫ito焼結体およびその製造方法 | |
JP2007231381A (ja) | Itoスパッタリングターゲットおよびその製造方法 | |
JP7203088B2 (ja) | 酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電膜 | |
JP5468984B2 (ja) | 非鉛圧電セラミックス用焼結助剤、非鉛圧電セラミックスおよびその製造方法 | |
JP2013010992A (ja) | スパッタリングターゲット |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100119 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20101109 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110311 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110315 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110516 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111018 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111027 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141104 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4855964 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |