JP5808836B2 - 波面を推定する方法 - Google Patents
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Description
(1)ヌルレンズ
ヌルレンズは、予想される波面収差を補償または除去するように特に設計された1組の光学素子を含む。ヌルレンズ技術は、(製造誤差がないという前提で)検査光学素子の波面収差を完全に補償し得るので、レンズレットアレイ上で波面偏差を効果的に打ち消すことができる。しかし、この技術では、正確な測定を行うためには極めて正確なヌルレンズを製作することが必要である。したがって、ヌルレンズの製作コストが途方もなく高額になり得る。さらに、このようなヌルレンズは波面収差を予想し得る特定の検査光学素子に対して設計されるので、形状または特性が異なる検査光学素子によって形成される他の波面にはこの技術を適用し得ないことがある。ヌルレンズ技術の例が、Zmekに付与された米国特許第5,233,174号に記載されている。この特許を参照により本明細書に組み込む。
(2)推定技術
ヌルレンズ技術の代わりに、収差を含む波面を測定する波面推定技術が提案されており、典型的には補正アルゴリズムを用いて収差を補正または補償する。推定技術の一例が、参照文献1:Michael C.Roggemann、Timothy J.Schulz、Chee W.Ngai、およびJason T.Kraft、「Joint processing of Hartmann sensor and conventional image measurements to estimate large aberrations:theory and experimental results」、Appl.Opt.38、2249〜2255(1999)に開示されている。
(3)ステッチング
米国特許出願公開第2009/0284753号には、数学的方法を用いて一連の波面測定値を合わせて「ステッチ」する技術が記載されている。各測定毎に、異なる焦点、波面の傾き、または参照収差をダイナミックレンジ限界開口と合わせて用いる。この技術は、センサのダイナミックレンジを効果的に拡大し得ると言われているが、一連の波面測定を行い、数学的方法を用いて得られた測定値を合わせてステッチすることは計算集約的プロセスであることが、当業者には容易に理解されよう。
ここで、θは複数のパラメータからなるベクトルであり、gは複数の観察値(データ)からなるベクトル、
ここで、
・・・(3)
θの最尤(ML)推定値は、観察データgが与えられると仮定して、式(4)によって定義される。
1.物理的に妥当なパラメータ空間の周囲の領域を、データベクトル値にかかわらず、無視し得るほど小さい(ほぼゼロに等しい)尤度をもたらす面積(パラメータの数、したがって探索の次元数によっては体積または超体積)で埋める。こうすると、ステップ3a(下記)での検査場所に、許容し得る推定値ドメインの外側を、条件検査(ソフトウェアにおける「if/then文」)を用いずに、最大尤度として戻される可能性なしに探査させることができる。(あるいは、実行速度をわずかに犠牲にして、物理的に妥当なパラメータ空間内の場所のみが検査されるように条件文を用いる。)
2.較正データ(または予備知識)のみによって決まる尤度表現におけるすべての項を事前に演算する。
a.被検査パラメータ領域を覆う正方形(立方体または超立方体)の中心として定義される検査場所における尤度または対数尤度を演算し、
b.次の反復の検査領域の中心として、尤度または対数尤度が最大になる(または最小限に抑える場合には、最小になる)場所を選択し、
c.各次元における収縮率(例えば、1/2)によって検査領域のサイズを小さくする。
P:最適化されるパラメータの数
εp:最適化を行う初期探索範囲、p={1,2,...,P}
mp:各パラメータの更新(尤度分布の計算)後の縮小比(縮小率)、p={1,2,...,P}
Np:尤度分布の計算の反復回数(図9ではNp=6)
lp:探索区域の1辺上の尤度分布計算点数、p={1,2,...,P}(図9ではl=4)
導関数不要の最適化方法では、演算時間の大部分が前方モデルの計算に費やされる。したがって、MLEのための全演算時間tMLEは、式(5)によって以下のように推定される。
・・・(5)
ここで、Ntotalは前方モデル計算数の合計であり、tfは1回の前方モデル計算にかかる演算時間である。
ただし(Ntotal=Nmaxl1l2...li...lp)
・・・ (6)
ここで、すべてのlpがlに等しく、すべてのNpがNmaxに等しいと考える。l=4、P=9、Nmax=6、およびtf=10秒の場合、tMLEは式(7)によって計算される。
・・・(7)
この時間(約4369時間)は、ほとんどの応用例で非現実的であり得る。したがって、収縮グリッド探索技術の場合、探査空間の次元が小さいことが好ましい。
ここでk0=0
lg={l1,l2,...,lG}の場合、式(8)は式(9)になる。
各群毎の反復回数がNmaxである場合、式(8)は式(10)になる。
各パラメータ毎の順次最適化では、それぞれの最適化における反復回数はNpになる。式(10)を用いて、Ntotalは式(11)になる。
ここで、
各パラメータにおいてNpおよびlpが一定の場合、式(8)を簡略化することができ、それによって式(13)が得られる。
Ntotal=NmaxPl
・・・(13)
「n」個の並列プロセッサを使用し得る場合、数nCPUを考えることができる。そうすると、式(9)を用いて、各プロセッサ毎の前方モデル計算の合計数は式(14)になる。
式(14)は、各プロセッサ毎の前方モデル計算数が減少し得ることを示している。例えば、9個のパラメータ(すなわちP=9)は3つの群に分けられ、各群は3つのパラメータを有する。
したがって、並列処理を用いる収縮グリッド探索アルゴリズムは、探索空間の次元が小さい場合には効率的な探索方法となり得る。例えば、この最適化方法において、4つのパラメータを以下のように最適化し得る。
表1:図18の所定の面2609において定義され、対象とする面または表面まで前方伝播されるゼルニケ多項式
ここで、gはパラメータデータであり、mはベクトルMの指数であり、
その結果、ML推定値は以下のように記述し得る。
図14に示すパラメータ推定プロセスでは、ML推定値は反復的に計算される。そのために、平均値データ
表2:所定の面における収差を含む波面のゼルニケ係数
(1)下記の式(20)によって定義される単純な2次関数を、例えば最小二乗法を用いて、コスト関数の離散サンプルに対してフィッティングする。
f(x,y)=a1x2+a2y2+a3xy+a4x+a5y+a6
・・・(20)
(2)この2次関数の最小値が存在する場所を見つけ、この最小値が生じる場所を、収縮グリッド探索の次の反復のための新たな中心として用いる。この方法によって、グローバル最小値に向かって収束するように改善されることが示された。
Claims (4)
- ゼルニケ多項式で偏差が表される波面を最尤推定法を用いることによって推定する方法であって、
レンズレットアレイおよび検出器を含む波面センサを用いることによって得られるデータを準備する工程と、
ゼルニケ多項式の互いに異なる2つのゼルニケ係数により前記検出器上の強度分布をコスト関数として求め、前記2つのゼルニケ係数をそれぞれ座標軸とする座標面において当該コスト関数を表したコスト関数分布を生成する工程と、
前記座標軸に対する前記コスト関数分布の対称性を調べるための区域を選択する工程と、
前記区域において前記コスト関数分布の前記座標軸に対する対称性を調べる工程と、
同時に最適化すべきゼルニケ多項式の係数の組合せとして、前記対称性を調べた結果に基づいて、前記座標軸に対して非対称なゼルニケ係数の組み合わせを選択する工程と、
前記コスト関数の最小値を探索することによって前記組合せに従うゼルニケ多項式の係数について最大尤度最適化を実行する工程と、を含むことを特徴とする方法。 - 2次関数に対してコスト関数面をフィッティングして、前記組合せに従うゼルニケ係数の前記最適化を改善するフィッティングプロセスをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記データは、前記レンズレットアレイの前に配置される波面補正レンズを用いて、前記波面の収差を前記波面センサのダイナミックレンジに入るまで低減することによって得られることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記座標軸に対する対称性を調べる工程は、
前記2つのゼルニケ係数の一方を一定値として、他方のゼルニケ係数を変化させた際の前記コスト関する分布を2次関数でフィッティングし、前記2次関数からコスト関数が最小値となる前記他方のゼルニケ係数の値を求めることを、前記一方の互いに異なる複数の値の各々について行い、
前記一方の互いに異なる複数の値の各々について求められたコスト関数が最小値となる前記他方のゼルニケ係数の値の一致度から対称性を求める工程を含み、
前記座標軸に対して非対称なゼルニケ係数の組み合わせを選択する工程は、前記複数のゼルニケ係数が一致しない前記2つのゼルニケ係数の組み合わせを選択する工程を含む、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
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Families Citing this family (30)
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JP6029429B2 (ja) * | 2012-11-19 | 2016-11-24 | キヤノン株式会社 | 波面収差測定方法、波面収差測定装置、及び光学系の製造方法 |
CN103278247B (zh) * | 2013-05-06 | 2015-07-08 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种用于点源哈特曼波前探测器的背景噪声特征估计方法 |
WO2014198678A1 (en) * | 2013-06-10 | 2014-12-18 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Method for determining wave-front aberration data of a to-be-tested optical system |
CN103616802B (zh) * | 2013-11-23 | 2015-04-15 | 华中科技大学 | 一种光刻机投影物镜波像差的测量方法 |
JP2017150816A (ja) * | 2014-07-03 | 2017-08-31 | 三菱電機株式会社 | 波面計測装置及び波面計測方法 |
JP6359378B2 (ja) * | 2014-08-08 | 2018-07-18 | 株式会社Screenホールディングス | 光学特性取得装置、位置測定装置、光学特性取得方法および位置測定方法 |
JP2016057172A (ja) * | 2014-09-10 | 2016-04-21 | キヤノン株式会社 | 波面演算装置、撮像システムおよび波面演算プログラム |
JP6391550B2 (ja) * | 2015-11-13 | 2018-09-19 | 三菱電機株式会社 | 波面センサ及び波面処理方法 |
CN105785609B (zh) * | 2016-04-28 | 2023-04-07 | 长春理工大学 | 基于透射式液晶空间光调制器波前校正的方法及装置 |
CN106097255B (zh) * | 2016-05-26 | 2019-02-26 | 中国科学院光电技术研究所 | 用于点源哈特曼波前探测器的背景噪声特征估计方法 |
US11484195B2 (en) * | 2016-10-17 | 2022-11-01 | EyeQue Inc. | Automated personal vision tracker |
US11484196B2 (en) * | 2016-10-17 | 2022-11-01 | EyeQue Inc. | Method and apparatus for refraction and vision measurement |
US10588507B2 (en) * | 2016-10-17 | 2020-03-17 | EyeQue Inc. | Optical method to assess the refractive properties of an optical system |
US10572570B2 (en) * | 2016-11-14 | 2020-02-25 | Blackberry Limited | Determining a load status of a platform using a likelihood ratio test |
IL251636B (en) * | 2017-04-06 | 2018-02-28 | Yoav Berlatzky | A system and method for a coherent camera |
CN108151888B (zh) * | 2017-11-22 | 2019-09-27 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种用于扫描哈特曼检测装置的误差解耦的方法 |
US10408705B1 (en) * | 2017-12-21 | 2019-09-10 | Lawrence Livermore National Security, Llc | System and method for focal-plane angular-spatial illuminator/detector (fasid) design for improved graded index lenses |
CN108398245A (zh) * | 2018-05-28 | 2018-08-14 | 南昌大学 | 一种同心发散光源的检测方法与装置 |
TWI834759B (zh) * | 2018-11-15 | 2024-03-11 | 美商愛奎有限公司 | 自動化個人視覺追蹤器的系統及其方法 |
CN109520712B (zh) * | 2018-12-03 | 2021-08-17 | 江苏慧光电子科技有限公司 | 光学检测方法、系统及光学器件制造系统 |
EP3924711A4 (en) | 2019-03-05 | 2022-12-07 | Gaston Daniel Baudat | SYSTEM AND METHOD FOR WAVEFRONT MEASUREMENT WITH MODIFIED IMAGES |
CN110160751B (zh) * | 2019-05-16 | 2021-02-26 | 浙江大学 | 一种基于相位恢复的宽频段波前误差检测装置及检测方法 |
CN110375964B (zh) * | 2019-07-18 | 2021-01-01 | 浙江大学 | 一种基于扩展奈波尔-泽尼克模式优化相位恢复的波前误差检测装置及检测方法 |
CN110320011B (zh) * | 2019-08-06 | 2024-04-19 | 清华大学深圳研究生院 | 一种透射波前检测系统和方法 |
JP7386672B2 (ja) * | 2019-11-15 | 2023-11-27 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置及び位相パターンの調整方法 |
Family Cites Families (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4309602A (en) * | 1979-11-01 | 1982-01-05 | Eikonix Corportation | Wavefront sensing by phase retrieval |
JPS58156908A (ja) * | 1982-03-13 | 1983-09-19 | Canon Inc | 合焦状態検出光学系 |
JPH0656449B2 (ja) * | 1983-01-10 | 1994-07-27 | キヤノン株式会社 | 自動焦点装置を備えたカメラ |
US5072104A (en) * | 1990-06-04 | 1991-12-10 | Litton Systems, Inc. | Achromatic null lens |
JP2857273B2 (ja) * | 1991-12-24 | 1999-02-17 | 科学技術振興事業団 | 収差補正法及び収差補正装置 |
US5233174A (en) | 1992-03-11 | 1993-08-03 | Hughes Danbury Optical Systems, Inc. | Wavefront sensor having a lenslet array as a null corrector |
JPH09257643A (ja) | 1996-03-25 | 1997-10-03 | Topcon Corp | レンズメーター |
US20010041884A1 (en) * | 1996-11-25 | 2001-11-15 | Frey Rudolph W. | Method for determining and correcting vision |
EP1081650B1 (en) * | 1999-09-02 | 2007-02-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Progressive Display of Target Objects |
JP4549468B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2010-09-22 | 株式会社トプコン | レンズメータ |
US7455407B2 (en) | 2000-02-11 | 2008-11-25 | Amo Wavefront Sciences, Llc | System and method of measuring and mapping three dimensional structures |
JP2002250622A (ja) | 2000-12-18 | 2002-09-06 | Olympus Optical Co Ltd | 光学素子及びその型の形状測定方法及び装置 |
JP2002181663A (ja) | 2000-12-18 | 2002-06-26 | Nikon Corp | 波面収差推定方法、波面収差推定装置、及び波面収差推定手順を記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体、並びに結像光学系の製造方法及び結像光学系 |
KR100449711B1 (ko) * | 2001-12-21 | 2004-09-22 | 삼성전자주식회사 | 오목면과 홀로그램을 가지는 비구면 측정장치 및 방법 |
AU2003219740A1 (en) * | 2002-02-11 | 2003-09-04 | Visx, Inc. | Determining relative positional and rotational offsets |
JP4352458B2 (ja) | 2002-03-01 | 2009-10-28 | 株式会社ニコン | 投影光学系の調整方法、予測方法、評価方法、調整方法、露光方法及び露光装置、露光装置の製造方法、プログラム並びにデバイス製造方法 |
AU2003240945A1 (en) * | 2002-05-31 | 2003-12-19 | Wavefront Sciences, Inc. | Methhod and system for sensing and analyzing a wavefront of an optically transmissive system |
US7078665B2 (en) * | 2002-07-09 | 2006-07-18 | Wavefront Sciences, Inc. | System and method of wavefront sensing for determining a location of focal spot |
US7414712B2 (en) * | 2003-02-13 | 2008-08-19 | University Of Rochester | Large dynamic range Shack-Hartmann wavefront sensor |
JP2004253673A (ja) | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Nikon Corp | 予測方法、評価方法、調整方法、露光方法、デバイス製造方法、並びにプログラム |
CA2521845C (en) * | 2003-04-09 | 2012-05-29 | Visx Incorporated | Wavefront calibration analyzer and methods |
US7381934B2 (en) * | 2006-01-11 | 2008-06-03 | Xinetics, Inc. | Closed loop compensation system and method for a deformable mirror |
US7445335B2 (en) * | 2006-01-20 | 2008-11-04 | Clarity Medical Systems, Inc. | Sequential wavefront sensor |
US7616330B2 (en) * | 2006-04-07 | 2009-11-10 | AMO Wavefront Sciences, LLP | Geometric measurement system and method of measuring a geometric characteristic of an object |
US7639369B2 (en) * | 2006-04-13 | 2009-12-29 | Mette Owner-Petersen | Multi-object wavefront sensor with spatial filtering |
US8025425B2 (en) * | 2007-06-06 | 2011-09-27 | Trex Enterprises Corp | Beaconless adaptive optics system |
US7832864B2 (en) * | 2007-06-15 | 2010-11-16 | The Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona | Inverse optical design |
US8118429B2 (en) * | 2007-10-29 | 2012-02-21 | Amo Wavefront Sciences, Llc. | Systems and methods of phase diversity wavefront sensing |
JP2008135745A (ja) | 2007-11-22 | 2008-06-12 | Nikon Corp | 波面収差測定機及び投影露光装置 |
US8570485B2 (en) * | 2008-06-03 | 2013-10-29 | Asml Netherlands B.V. | Lens heating compensation systems and methods |
JP5608892B2 (ja) * | 2008-07-25 | 2014-10-22 | 東海光学株式会社 | レンズ評価方法 |
US8248684B2 (en) * | 2008-08-26 | 2012-08-21 | Ricoh Co., Ltd. | Control of adaptive optics based on post-processing metrics |
EP2177943A1 (en) * | 2008-10-16 | 2010-04-21 | Essilor International (Compagnie Générale D'Optique) | Optical system determination according to advanced criteria |
DE102008053827A1 (de) * | 2008-10-30 | 2010-05-12 | Technolas Perfect Vision Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Bereitstellen einer Laserschussdatei |
EP2207118A1 (en) * | 2008-12-31 | 2010-07-14 | Essilor International (Compagnie Générale D'Optique) | Method for calculating a system, for example an optical system |
US8201943B2 (en) * | 2009-01-15 | 2012-06-19 | Physical Sciences, Inc. | Adaptive optics line scanning ophthalmoscope |
GB2468911A (en) * | 2009-03-27 | 2010-09-29 | Light Blue Optics Ltd | Aberration correction methods using wavefront sensing hologram patches and mapping of phase aberration corrections |
JP5544765B2 (ja) | 2009-06-12 | 2014-07-09 | 株式会社ニコン | 波面形状測定装置及び波面形状測定方法 |
CN102918445B (zh) * | 2009-10-07 | 2015-11-25 | 依视路国际集团(光学总公司) | 光学函数确定方法 |
ES2737857T3 (es) * | 2010-07-16 | 2020-01-16 | Zeiss Carl Vision Inc | Lente progresiva con optimización de frente de onda |
WO2012021311A2 (en) * | 2010-08-08 | 2012-02-16 | Kla-Tencor Corporation | Dynamic wavefront control of a frequency converted laser system |
US9091614B2 (en) * | 2011-05-20 | 2015-07-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Wavefront optical measuring apparatus |
NL2008957A (en) * | 2011-07-08 | 2013-01-09 | Asml Netherlands Bv | Methods and systems for pattern design with tailored response to wavefront aberration. |
US9182289B2 (en) * | 2011-10-14 | 2015-11-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for estimating wavefront parameters |
-
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