JP5789723B2 - 高速金属箔製造用水平電鋳装置及び製造方法 - Google Patents
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Description
幅方向に対して全体的に均一な厚さを有するアノード電極(水平アノード電極)と本発明の一具現例による図3のような曲率アノード電極(但し、分割電極ではない)を用いたことを除いて、同一の設備を用いて母板とアノード電極の間に電解液を供給する条件に設定してシミュレーションした。
電解液供給管として図10の(a)のような構造の電解液供給ノズルと(b)及び(c)のような構造の曲率を有する噴射ノズルを用いて電解液を供給したときの電解液の流動場の安定化程度を分析するために、各ノズルを用いて層流及び乱流流動で電解液を供給した場合をシミュレーションした。
11 母板
15、15’ 電着層が形成された母板
30、130 水平セル
31、31’、131、131’ コンダクトロール
32、132 アノード電極
32a 母板幅方向分割アノード電極
32b 母板進行方向分割アノード電極
33、133 電流供給装置
35、135 電解液供給管
36 ハニカム
37、137 電解液供給ノズル
37a 傾斜型電解液供給ノズル
37b 屈曲型電解液供給ノズル
38 ディスペンサー
40、140 電解液貯蔵槽
41 電解液加熱器
42 電解液ろ過器
43 電解液ポンプ
45、145 電解液回収管
50 金属箔
51 剥離ロール
52 後洗浄装置
53 熱処理装置
54 金属箔切断装置
55 金属箔巻取装置
71 母板切断装置
72 母板巻取装置
100、1100 水平電鋳装置
Claims (24)
- カソード電極として提供される可撓性で伝導性の母板を一方向に連続的に水平供給する母板供給手段と、
前記母板の幅方向のエッジ部と接触して母板を移送させながら母板に電流を供給するコンダクトロール、前記母板の一面又は両面に離隔して設置されたアノード電極、前記母板と前記アノード電極が形成する水平通路に金属イオンを含む電解液を供給する電解液供給装置、及び前記母板の一面又は両面に金属イオンの電解析出のために前記コンダクトロール及び前記アノード電極に電流を供給する電流供給装置を含む水平セルと、
前記母板の一面又は両面に電着された金属箔を前記伝導性母板から分離する剥離手段と、
を含む、水平電鋳装置。 - 前記電解液供給装置は前記母板の一面又は両面に電解液を供給する電解液供給ノズルを含み、前記電解液供給ノズルは母板の進行方向と同一方向、反対方向又は両方向に電解液を供給する、請求項1に記載の水平電鋳装置。
- 前記水平セルは、母板の進行方向に沿って直列に複数設置される、請求項1又は請求項2に記載の水平電鋳装置。
- 前記母板上に電着された金属箔を誘導加熱、雰囲気加熱又は直接加熱によって熱処理する熱処理手段をさらに含む、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の水平電鋳装置。
- 前記剥離手段は、伝導性母板と金属箔とのせん断応力差を付与する複数のローラーである、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の水平電鋳装置。
- 前記アノード電極は、前記母板の幅方向に対して中心部から端に向かって厚さが減少する構造を有する、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の水平電鋳装置。
- 前記水平セルは、母板の幅方向の端に金属イオンの電解析出を防止するためのエッジマスクが設置されている、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の水平電鋳装置。
- 前記アノード電極は、母板の幅方向に複数に分割された分割電極である、請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の水平電鋳装置。
- 前記分割電極は、各電極別に電極のサイズが相違する、請求項8に記載の水平電鋳装置。
- 前記分割電極は、各電極別に相違する大きさの電流が供給される、請求項8又は請求項9に記載の水平電鋳装置。
- 前記アノード電極は、母板の進行方向に複数に分割された分割電極である、請求項1から請求項10のいずれか一項に記載の水平電鋳装置。
- 前記分割電極は、各電極別に電極のサイズが相違する、請求項11に記載の水平電鋳装置。
- 前記分割電極は、各電極別に相違する大きさの電流が供給される、請求項11又は請求項12に記載の水平電鋳装置。
- 前記電解液供給ノズルは、電解液が流動する方向に電解液を供給するように傾斜しているか又は屈曲している、請求項2に記載の水平電鋳装置。
- 前記電解液供給ノズルは、伝導性母板の移動方向に対して順方向及び逆方向に電解液を供給するように少なくとも末端部が分離されている、請求項14に記載の水平電鋳装置。
- 前記末端部は、ドラバル(deLaval)ノズル状の断面を有する、請求項15に記載の水平電鋳装置。
- 請求項1から請求項16のいずれか一項に記載の水平電鋳装置を用いて金属箔を製造する方法であって、
カソード電極として提供され、一方向に水平供給される可撓性で伝導性の母板の表面に金属イオンを含む電解液を供給する電解液供給段階と、
前記母板の一面又は両面に離隔して設置されたアノード電極と前記母板との作用によって前記電解液の金属イオンが前記母板の一面又は両面に電解析出されて前記母板上に電着層が形成される電着段階と、
前記電着層を前記母板から剥離する剥離段階と、
を含む、金属箔の製造方法。 - 前記母板は、一面又は両面に酸化皮膜が形成されている、請求項17に記載の金属箔の製造方法。
- 前記剥離された金属箔を300〜600℃で熱処理する段階をさらに含む、請求項17又は請求項18に記載の金属箔の製造方法。
- 前記電解液は、母板とアノード電極によって形成される水平通路を介して母板の移動方向と同一方向及び反対方向に供給される、請求項17から請求項19のいずれか一項に記載の金属箔の製造方法。
- 前記母板の両面に供給される電解液は相違する、請求項17から請求項20のいずれか一項に記載の金属箔の製造方法。
- 前記剥離段階の前に、第2の電解液供給段階及び第2の電着段階をさらに含む、請求項17から請求項21のいずれか一項に記載の金属箔の製造方法。
- 前記第2の電解液供給段階で供給される電解液は、電解液供給段階の電解液と相違する、請求項22に記載の金属箔の製造方法。
- 前記金属箔は、多層構造の金属箔である、請求項22又は請求項23に記載の金属箔の製造方法。
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US1760028A (en) * | 1924-12-01 | 1930-05-27 | Gen Motors Res Corp | Process of producing metal sheets by electrodeposition |
US2369748A (en) * | 1942-03-30 | 1945-02-20 | John S Nachtman | Method of brightening electroplated coatings |
US2865795A (en) * | 1951-10-30 | 1958-12-23 | Gen Electric | Insulated electrical conductor and method of making the same |
US3468783A (en) * | 1965-03-08 | 1969-09-23 | Republic Steel Corp | Electroplating apparatus |
US3855083A (en) * | 1973-06-13 | 1974-12-17 | United States Steel Corp | Method for the uniform electroplating of sheet and strip |
FR2390517A1 (fr) * | 1977-05-10 | 1978-12-08 | Coppertron Sa | Installation pour l'electro-production de cuivre en feuilles destinees a etre appliquees en particulier sur des materiaux dielectriques |
AU540287B2 (en) * | 1982-02-10 | 1984-11-08 | Nippon Steel Corporation | Continuous electrolytic treatment of metal strip using horizontal electrodes |
US4601794A (en) * | 1983-09-07 | 1986-07-22 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Method and apparatus for continuous electroplating of alloys |
JPS6417890A (en) * | 1987-07-13 | 1989-01-20 | Kawasaki Steel Co | Method for controlling electroplating amount |
JPH01222084A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-05 | Nisshin Steel Co Ltd | 金属箔の連続的製造方法 |
US4948434A (en) | 1988-04-01 | 1990-08-14 | Nkk Corporation | Method for manufacturing Ni-Fe alloy sheet having excellent DC magnetic property and excellent AC magnetic property |
JPH0660433B2 (ja) * | 1989-03-02 | 1994-08-10 | 日本鋼管株式会社 | 亜鉛系合金電気めつき鋼板の製造方法 |
JPH0318168U (ja) * | 1989-06-29 | 1991-02-22 | ||
JPH0673595A (ja) * | 1992-08-26 | 1994-03-15 | Nkk Corp | 連続電気めっき装置 |
DE4430652C2 (de) * | 1994-08-29 | 1997-01-30 | Metallglanz Gmbh | Galvanisches Verfahren und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens sowie dessen Verwendung zum galvanischen oder chemischen Behandeln, insbesondere zum kontinuierlichen Aufbringen metallischer Schichten auf einen Körper |
JPH08236120A (ja) * | 1995-03-01 | 1996-09-13 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 多孔質電解金属箔の製造方法、その電解金属箔を用いた二次電池用電極 |
JPH09272994A (ja) * | 1996-04-05 | 1997-10-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | ファインパターン用電解銅箔 |
CN1189544A (zh) * | 1997-01-30 | 1998-08-05 | 天津市有色金属研究所 | 在导电性多孔网带上进行连续电沉积的方法和设备 |
JP3076565B2 (ja) * | 1998-08-03 | 2000-08-14 | 住友特殊金属株式会社 | 金属箔、金属箔片の製造装置および製造方法 |
KR19990064747A (ko) | 1999-05-06 | 1999-08-05 | 이종구 | Ni-Fe 합금 박판 제조방법 및 그 장치 |
KR100428576B1 (ko) * | 1999-12-24 | 2004-04-28 | 주식회사 포스코 | 스트립의 도금편차를 해소하는 불용성 아노드 |
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US6790763B2 (en) * | 2000-12-04 | 2004-09-14 | Ebara Corporation | Substrate processing method |
JP2003247100A (ja) * | 2002-02-25 | 2003-09-05 | Kobe Steel Ltd | 帯状金属板の連続電気めっき方法 |
JP3753114B2 (ja) * | 2002-08-26 | 2006-03-08 | Jfeスチール株式会社 | 電気めっき用電極及びそれを用いた金属帯の電気めっき方法 |
JP2004277834A (ja) * | 2003-03-17 | 2004-10-07 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Au・Sn合金箔の製造方法 |
JP3935858B2 (ja) * | 2003-04-18 | 2007-06-27 | 新日本製鐵株式会社 | 連続式電気めっき設備のエッジマスク装置 |
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KR101059209B1 (ko) * | 2008-11-03 | 2011-08-24 | 주식회사 포스코 | 수평셀의 도금용액의 유량을 증가시키는 이물질 여과용 스트레이너 |
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