JP5770049B2 - フッ酸含有処理液の再生方法及び再生装置 - Google Patents
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- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 229
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 109
- 238000011282 treatment Methods 0.000 title claims description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 26
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 title claims description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- -1 hexafluorosilicate ions Chemical class 0.000 claims description 36
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 claims description 36
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 35
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 25
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 23
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 21
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 17
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 claims description 13
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 9
- LXPCOISGJFXEJE-UHFFFAOYSA-N oxifentorex Chemical compound C=1C=CC=CC=1C[N+](C)([O-])C(C)CC1=CC=CC=C1 LXPCOISGJFXEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 6
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 6
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 3
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 claims description 2
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 claims description 2
- 238000001739 density measurement Methods 0.000 claims 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 89
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 46
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 37
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 34
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 33
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 25
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 17
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 12
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 10
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 8
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 7
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- 229910017855 NH 4 F Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000003112 potassium compounds Chemical class 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910011255 B2O3 Inorganic materials 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000502 dialysis Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 238000000909 electrodialysis Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- CUPFNGOKRMWUOO-UHFFFAOYSA-N hydron;difluoride Chemical compound F.F CUPFNGOKRMWUOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
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- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Processing Of Solid Wastes (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
Si0 + 2O → SiO2 ・・反応式1;
SiO2 + 6HF → H2SiF6 + 2H2O ・・反応式2;
また、ヘキサフルオロ珪酸を選択的に分離除去した液は、高濃度のフッ酸溶液(「回収酸」)であり、そのまま、または、高濃度のフッ酸またはフッ化水素を添加することで、フッ酸含有処理液に再利用できることを見出した。なお、シリコンウェハのテクスチャー加工に用いられるフッ酸含有処理液は、例えば、1〜5%のフッ酸と40〜50%の硝酸とを含み、特には4〜15%のフッ酸と35〜50%の硝酸とを含む。後述のように不溶解性のカリウム塩を生成させてヘキサフルオロ珪酸を選択的に除去することにより、例えば、0.9〜4.9%のフッ酸と39〜49%の硝酸とを含む回収処理液、特には3.9〜14.2%のフッ酸と34.5〜49%の硝酸とを含む回収処理液が得られる。フッ酸の回収率は、例えば85〜99%、特には90〜98%であり、硝酸の回収率は、例えば85〜99%、特には90〜98%である。
SiO2 + 6HF → H2SiF6 (強酸) + 2H2O・・反応式3;
B2O3 + 8HF → 2HBF4 (強酸) + 3H2O・・反応式4;
K2O + 2HF → 2KF + H2O・・反応式5;
2KF + H2SiF6 → K2SiF6 (不溶性) + 2HF・・反応式6;
また、このような廃酸中のヘキサフルオロ珪酸とテトラフルオロ硼酸並びにヘキサフルオロ珪酸カリウムを、選択的に分離除去した後の清澄液は、高濃度のフッ酸溶液(「回収酸」)であり、そのまま、または、高濃度のフッ酸またはフッ化水素を添加することで、フッ酸含有処理液に再利用できることを見出した。なお、硝子基板の薄板化加工に用いられるフッ酸含有処理液は、例えば、3〜5%のフッ酸と5〜20%の塩酸とを含み、特には5〜10%のフッ酸と10〜30%の塩酸とを含む。後述のように不溶解性のカリウム塩を生成させてヘキサフルオロ珪酸を選択的に除去することにより、例えば、2.7〜4.9%のフッ酸と4.9〜19.3%の塩酸とを含む回収処理液、特には4.9〜9.6%のフッ酸と9.5〜29%の塩酸とを含む回収処理液が得られる。この場合も、フッ酸の回収率は、例えば85〜99%、特には90〜98%である。
SiO2 + 6HF → H2SiF6 + 2H2O・・反応式7;
H2SiF6 + 2NH4F → (NH4)2SiF6 + 2HF・・反応式8;
また、この廃酸中のヘキサフルオロ珪酸アンモニウムを選択的に分離除去した後の液は回収酸として再利用できることを見出した。なお、バッファードエッチング加工に用いられるフッ酸含有処理液は、例えば、1〜5%のフッ酸と20〜30%のフッ化アンモニウムとを含み、特には4〜10%のフッ酸と30〜38%のフッ化アンモニウムとを含む。後述のように不溶解性のカリウム塩を生成させてヘキサフルオロ珪酸アンモニウムを選択的に除去することにより、例えば、0.9〜4.8%のフッ酸と19〜29%のフッ化アンモニウムとを含む回収処理液、特には3.9〜9.8%のフッ酸と29〜37%のフッ化アンモニウムとを含む回収処理液が得られる。フッ酸の回収率は、例えば85〜99%、特には90〜98%であり、フッ化アンモニウムの回収率は、例えば90〜99%、特には95〜99%である。
H2SiF6 + 2K+ → K2SiF6 (不溶性) + 2H+・・反応式9;
HBF4 + K+ → KBF4 (不溶性) + H+・・反応式10;
(NH4)2SiF6 + 2K+ → K2SiF6 (不溶性) + 2NH4 +・・反応式11。
H2SiF6 + 2KCl → K2SiF6 (不溶性) + 2HCl・・反応式12;
H2SiF6 + 2KF → K2SiF6 (不溶性) + 2HF・・反応式13;
H2SiF6 + 2KOH → K2SiF6 (不溶性) + 2H2O・・反応式14;
H2SiF6 + K2CO3 → K2SiF6 (不溶性) + H2O + CO2↑・・反応式15。
3 静置沈降分離タンク 4 カリウム塩スラッジ液貯蔵タンク
5 上澄液貯蔵タンク 6 上澄液循環精密濾過装置
7 カリウムイオン原液溶解貯蔵タンク 8 カリウムイオン薬剤計量投入口
9 カリウム塩スラッジ濾過装置 10 カリウム塩沈殿貯蔵槽
11 廃酸&回収酸及び再生処理液(回収酸濃度調整液)の濃度測定装置
12 カリウムイオン溶解用純水
13 フッ酸系高濃度単酸(HF等) 14 非フッ酸系高濃度単酸(HCl&HNO3等)
15 再生済み処理液(濃度調整済み回収酸)貯槽(加工設備側設置タンク等転用)
Claims (4)
- シリコン基板、ガラス基板またはその他の珪素含有材料を処理するフッ酸含有処理液を再生する方法において、
使用後のフッ酸含有処理液中に溶解しているヘキサフルオロ珪酸イオン、テトラフルオロ硼酸イオン、またはその他の不溶性カリウム塩を形成するイオン種の濃度を測定する工程と、
測定された濃度から求められる理論計算量に基づきカリウムイオン供給種を添加して、不溶性カリウム塩を析出させる工程と、
析出後の縣濁液を不溶性カリウム塩からなる固形物と清澄なフッ酸含有液とに分離する固液分離工程と、
得られた清澄なフッ酸含有液におけるフッ酸、硝酸、塩酸、フッ化アンモニウム、またはその他の活性種の濃度を測定する工程と、
この濃度測定結果に基づきフッ酸、硝酸、塩酸、フッ化アンモニウム、またはその他の活性種を追加する工程とを含み、
フッ酸含有処理液が、多結晶型シリコンウェハにテクスチャー加工を行うための処理液であってフッ酸とともに硝酸を活性種として含み、
不溶性カリウム塩を形成するイオン種として、ヘキサフルオロ珪酸の濃度が測定され、カリウムイオン供給種として、水酸化カリウム、硝酸カリウムまたはその他の、処理液に含まれるイオン種のみを生成するカリウム塩が用いられ、
得られた清澄なフッ酸含有液におけるフッ酸及び硝酸の濃度が測定されて、この濃度測定結果に基づきフッ酸及び硝酸を追加することを特徴とするフッ酸含有処理液の再生方法。 - シリコン基板、ガラス基板またはその他の珪素含有材料を処理するフッ酸含有処理液を再生する方法において、
使用後のフッ酸含有処理液中に溶解しているヘキサフルオロ珪酸イオン、テトラフルオロ硼酸イオン、またはその他の不溶性カリウム塩を形成するイオン種の濃度を測定する工程と、
測定された濃度から求められる理論計算量に基づきカリウムイオン供給種を添加して、不溶性カリウム塩を析出させる工程と、
析出後の縣濁液を不溶性カリウム塩からなる固形物と清澄なフッ酸含有液とに分離する固液分離工程と、
得られた清澄なフッ酸含有液におけるフッ酸、硝酸、塩酸、フッ化アンモニウム、またはその他の活性種の濃度を測定する工程と、
この濃度測定結果に基づきフッ酸、硝酸、塩酸、フッ化アンモニウム、またはその他の活性種を追加する工程とを含み、
フッ酸含有処理液が、フラットパネルディスプレイ用またはその他の硝子基板を薄板化するための処理液であってフッ酸とともに塩酸を活性種として含み、
不溶性カリウム塩を形成するイオン種として、ヘキサフルオロ珪酸の濃度が測定され、カリウムイオン供給種として、塩化カリウム、水酸化カリウムまたはその他の、処理液に含まれるイオン種のみを生成するカリウム塩が用いられ、
得られた清澄なフッ酸含有液におけるフッ酸及び塩酸の濃度が測定されて、この濃度測定結果に基づきフッ酸の追加、及び、塩酸濃度の調整が行われることを特徴とするフッ酸含有処理液の再生方法。 - シリコン基板、ガラス基板またはその他の珪素含有材料を処理するフッ酸含有処理液を再生する方法において、
使用後のフッ酸含有処理液中に溶解しているヘキサフルオロ珪酸イオン、テトラフルオロ硼酸イオン、またはその他の不溶性カリウム塩を形成するイオン種の濃度を測定する工程と、
測定された濃度から求められる理論計算量に基づきカリウムイオン供給種を添加して、不溶性カリウム塩を析出させる工程と、
析出後の縣濁液を不溶性カリウム塩からなる固形物と清澄なフッ酸含有液とに分離する固液分離工程と、
得られた清澄なフッ酸含有液におけるフッ酸、硝酸、塩酸、フッ化アンモニウム、またはその他の活性種の濃度を測定する工程と、
この濃度測定結果に基づきフッ酸、硝酸、塩酸、フッ化アンモニウム、またはその他の活性種を追加する工程とを含み、
フッ酸含有処理液が、バッファードエッチング加工のための処理液であってフッ化アンモニウムを活性種として含み、
不溶性カリウム塩を形成するイオン種として、ヘキサフルオロ珪酸アンモニウムの濃度が測定され、カリウムイオン供給種として、水酸化カリウムまたはその他の、処理液に含まれるイオン種のみを生成するカリウム塩が用いられ、
得られた清澄なフッ酸含有液におけるフッ酸及びフッ化アンモニウムの濃度が測定されて、この濃度測定結果に基づきフッ酸及びフッ化アンモニウムを追加することを特徴とするフッ酸含有処理液の再生方法。 - カリウムイオン供給種を添加するにあたり、カリウムイオンの添加量は理論添加量の90〜97%とすることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のフッ酸含有処理液の再生方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011185795A JP5770049B2 (ja) | 2011-08-29 | 2011-08-29 | フッ酸含有処理液の再生方法及び再生装置 |
| TW101131140A TWI542554B (zh) | 2011-08-29 | 2012-08-28 | And a regenerating apparatus for containing hydrofluoric acid treatment liquid |
| CN201210313938.XA CN102965114B (zh) | 2011-08-29 | 2012-08-29 | 含氢氟酸处理液的再生方法和再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011185795A JP5770049B2 (ja) | 2011-08-29 | 2011-08-29 | フッ酸含有処理液の再生方法及び再生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013046888A JP2013046888A (ja) | 2013-03-07 |
| JP5770049B2 true JP5770049B2 (ja) | 2015-08-26 |
Family
ID=47795551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011185795A Active JP5770049B2 (ja) | 2011-08-29 | 2011-08-29 | フッ酸含有処理液の再生方法及び再生装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5770049B2 (ja) |
| CN (1) | CN102965114B (ja) |
| TW (1) | TWI542554B (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5941028B2 (ja) * | 2012-11-15 | 2016-06-29 | オー・ジー株式会社 | Si含有フッ酸系廃液からSiを除去する方法及びSi含有フッ酸系混酸廃液からフッ酸を回収する方法 |
| WO2014181552A1 (ja) * | 2013-05-10 | 2014-11-13 | パナソニック株式会社 | ガラス研磨液の再生方法とガラス研磨装置 |
| CN105228965B (zh) * | 2013-05-10 | 2018-01-05 | 松下电器产业株式会社 | 玻璃研磨液的再生方法和玻璃研磨装置 |
| CN104341111A (zh) * | 2013-07-26 | 2015-02-11 | 睿志达光电(深圳)有限公司 | 玻璃蚀刻液再生方法及玻璃蚀刻方法 |
| CN104730201B (zh) * | 2015-03-04 | 2017-01-18 | 南昌航空大学 | 一种钛合金酸洗液中氢氟酸含量的测量方法 |
| JP6728731B2 (ja) * | 2016-02-04 | 2020-07-22 | 三菱ケミカル株式会社 | フッ化水素酸と硝酸の回収方法 |
| JP6269709B2 (ja) | 2016-03-28 | 2018-01-31 | 株式会社Sumco | 清浄度評価方法、洗浄条件決定方法、およびシリコンウェーハの製造方法 |
| JP6095837B1 (ja) | 2016-04-01 | 2017-03-15 | 佐々木化学薬品株式会社 | アルカリ金属塩含有成型体およびそれを用いた酸性水溶液の再生処理方法 |
| CN106904838A (zh) * | 2017-03-14 | 2017-06-30 | 凯盛科技股份有限公司 | 一种蚀刻酸液回收利用方法 |
| CN107540234B (zh) * | 2017-09-26 | 2020-07-21 | 衢州市鼎盛化工科技有限公司 | 一种玻璃减薄系统无废酸无玻璃渣排放的方法 |
| CN108919844A (zh) * | 2018-05-15 | 2018-11-30 | 电子科技大学 | 一种化学反应速率实时溶液浓度自动控制系统 |
| CN109030711A (zh) * | 2018-06-28 | 2018-12-18 | 四川龙蟒钛业股份有限公司 | 一种黄磷渣中硅的测定方法 |
| JP7107332B2 (ja) * | 2020-06-02 | 2022-07-27 | 栗田工業株式会社 | 分離膜の洗浄方法 |
| TWI782757B (zh) * | 2021-10-18 | 2022-11-01 | 綠升國際股份有限公司 | 以廢氫氟酸液為原料製備電子級無機酸的方法 |
| CN115121207A (zh) * | 2022-07-19 | 2022-09-30 | 安徽诚志显示玻璃有限公司 | 一种循环利用高浓度废酸的装置与方法 |
| CN115959642B (zh) * | 2022-10-29 | 2024-12-31 | 宜宾天原科创设计有限公司 | 氯化钛白粉副产盐酸的利用方法 |
| CN118343416A (zh) * | 2023-01-05 | 2024-07-16 | 长鑫存储技术有限公司 | 化学品回收系统及回收方法 |
| CN117888117B (zh) * | 2023-12-21 | 2026-03-06 | 华能(泰安)光电科技有限公司 | 一种光纤预制棒酸洗液循环方法以及酸洗系统 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07232915A (ja) * | 1992-07-21 | 1995-09-05 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 廃水中のフッ素回収方法 |
| JP3677164B2 (ja) * | 1999-02-19 | 2005-07-27 | 松下電器産業株式会社 | ガラス洗浄用溶液の再生方法と再生装置、および珪酸塩ガラスの洗浄方法と洗浄装置 |
| JP3912157B2 (ja) * | 2002-03-26 | 2007-05-09 | 栗田工業株式会社 | フッ化アンモニウム含有排水の処理方法 |
| JP4277491B2 (ja) * | 2002-08-29 | 2009-06-10 | 栗田工業株式会社 | フッ素水溶液又はフッ酸水溶液の循環利用システム及びその循環利用方法 |
| JP4363494B2 (ja) * | 2007-04-18 | 2009-11-11 | 滋 木谷 | 酸洗用水溶液およびその製造方法ならびに資源回収方法 |
| WO2010004925A1 (ja) * | 2008-07-09 | 2010-01-14 | Kiya Shigeru | けい素、チタンおよびふっ素の回収方法 |
| JP5085574B2 (ja) * | 2009-01-13 | 2012-11-28 | 株式会社アルファテック | フッ素含有廃液の除害装置及び除害方法 |
| KR101619380B1 (ko) * | 2009-05-14 | 2016-05-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 식각액 조성물 및 이를 이용한 어레이 기판의 제조방법 |
| JP5421088B2 (ja) * | 2009-12-15 | 2014-02-19 | 森田化学工業株式会社 | 廃液から有価物と塩酸を製造する方法 |
-
2011
- 2011-08-29 JP JP2011185795A patent/JP5770049B2/ja active Active
-
2012
- 2012-08-28 TW TW101131140A patent/TWI542554B/zh active
- 2012-08-29 CN CN201210313938.XA patent/CN102965114B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2013046888A (ja) | 2013-03-07 |
| CN102965114B (zh) | 2015-02-11 |
| TWI542554B (zh) | 2016-07-21 |
| TW201318979A (zh) | 2013-05-16 |
| CN102965114A (zh) | 2013-03-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140325 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150226 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150317 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150508 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150526 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150624 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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