JP5769894B2 - シクロペンチル基およびジフルオロメチレンオキシ連結基を含有する液晶化合物およびその製造方法と応用 - Google Patents

シクロペンチル基およびジフルオロメチレンオキシ連結基を含有する液晶化合物およびその製造方法と応用 Download PDF

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Description

本発明は液晶化合物および応用分野に属し、シクロペンチル基およびジフルオロメチレンオキシ連結基を含有する液晶化合物およびその製造方法と応用に関する。
現在、液晶化合物の応用範囲はますます広く展開されており、種々なタイプのディスプレイ、電気光学素子、センサなどに応用可能である。上記の表示分野に用いられる液晶化合物の種類は非常に多く、そのうち、ネマチック液晶における応用が最も広範である。ネマチック液晶は、既にパッシブTN、STNマトリクスディスプレイ、およびTFTアクティブマトリクスを有するシステムに応用されている。
薄膜トランジスタ技術(TFT−LCD)の応用分野に関しては、近年市場が非常に巨大化し、技術も徐々に成熟しつつあり、表示技術に対する人々の要求、特に、速い応答、駆動電圧の低減により消費電力の低減を実現するなどの面における要求もますます高まっている。液晶材料は液晶ディスプレイの重要な光電子材料の1つとして、液晶ディスプレイの性能の改善に重要な働きをする。
液晶材料としては、良好な化学的・熱的安定性と、電界および電磁放射に対する安定性とを有する必要がある。薄膜トランジスタ技術(TFT−LCD)用液晶材料としては、上述の安定性を有する必要があるだけでなく、広いネマチック相温度範囲、適切な複屈折率異方性、非常に高い抵抗率、良好な耐紫外線性能、高い電荷保持率、および低い蒸気圧などの性能も有していなければならない。
例えば液晶テレビのような動画の表示応用に関しては、高品質の表示を実現し表示画面の残像およびテーリングを除去するために、液晶に速い応答速度が求められるので、液晶が低い回転粘度γを有することが求められる。また、設備のエネルギー消費を低減するために、液晶の駆動電圧が出来る限り低いことが望まれるため、液晶の誘電異方性Δεを高めることは混合液晶にとって重要な意味を持つ。
多くの研究から、液晶分子に1つのジフルオロメチレンオキシ連結基(−CFO−)を導入すると、液晶の回転粘度γが若干低下しるということが明らかになっている。また、ジフルオロメチレンオキシ架橋(−CFO−)の双極子モーメントの寄与により、末端基のフッ素原子の双極子モーメントもある程度高くなることで、液晶分子の誘電異方性Δεも若干増加する。ドイツのメルク社および日本のチッソ社により、異なる置換基を有するジフルオロメチレンオキシ連結基(−CFO−)を有する液晶化合物が既に開示されている(特許文献1〜3等)。しかしながら、−CFO−基の導入は液晶の透明点を大幅に低減させうる。液晶混合物を調製する際には、粘度のさらに高い高透明点の化合物を加えて−CFO−基による透明点の低下のバランスをとることで、液晶混合物の応答速度が向上する余地を制限している。
中国特許出願公開第1717468A号明細書 中国特許出願公開第101143808A号明細書 中国特許出願公開第101157862A号明細書
本発明は、シクロペンチル基およびジフルオロメチレンオキシ連結基を含有する液晶化合物およびその製造方法と応用を提供することを目的とする。
本発明により提供されるシクロペンチル基およびジフルオロメチレンオキシ連結基を含有する液晶化合物の構造式は式Iで表される。
前記式Iにおいて、Aは1,4−シクロヘキシレン、1,4−フェニレン、およびフッ素化1,4−フェニレンの中から選ばれる少なくとも1種であり、Bは、1,4−フェニレンおよびフッ素化1,4−フェニレンの中から選ばれる少なくとも1種であり、Lは−CHおよびOの中から選ばれる少なくとも1種であり、かつ(L)に最大1つのOを含有し、mは0〜6の整数であり、oは0、1または2であり、pは0または1であり、X、X、X3、およびXはいずれもHおよびFの中から選ばれるいずれか1種であり、YはH、F、Cl、−CF、−CHF、−OCFおよび−OCHFの中から選ばれるいずれか1種である。
具体的には、mは、0〜5の整数、0〜4の整数、0〜3の整数、0〜2の整数、0、1、2、3、4、5、6、1〜6の整数、2〜5の整数、3〜4の整数、1〜5の整数、1〜4の整数、1〜3の整数、2〜6の整数、2〜5の整数、または2〜4の整数である。
前記式Iで示される化合物は、式IIで示される化合物である。
前記式IIにおいて、A、B、およびpの定義は前記定義と同じであり、oは1または2であり、−(F)はFまたはHを表し、
前記式IIで示される化合物は具体的には、式II1〜式II13の中から選ばれるいずれか1種である。
本発明により提供される前記式Iで示される化合物を製造する方法は、下記の方法1〜方法6のいずれか1種である。
ここで、前記方法1は、前記式Iにおいてシクロペンチル基と互いに連結される
が1,4−シクロヘキシレンであって、oが1または2でありかつmが0であるときの式Iの化合物を製造する方法であって、
1)シクロペンチル臭化トリフェニルホスホニウム塩とt−ブトキシドカリウムを均一に混合して反応させ、反応終了後にイリド試薬が得られ、得られたイリド試薬を含有する化合物の反応系を1,4−シクロヘキサンジオンモノエチレンアセタールまたは4,4’−ビスシクロヘキサンジオンモノエチレンアセタールとオレフィン化反応させて、
または
が得られるステップと;
2)前記ステップ1)で得られた
または
をラネーニッケル触媒の作用下で水素と水素化反応を行って、反応終了後に
または
が得られるステップと、
3)前記ステップ2)で得られた
または
をpH値1〜6の条件下で保護基を除去する反応を行って、反応終了後に
または
が得られるステップと;
4)前記ステップ3)で得られた
または
をグリニャール試薬
と均一に混合して付加反応を行って、反応終了後、脱水して
または
が得られるステップと;
5)前記ステップ4)で得られた
または
をラネーニッケル触媒の作用下で水素と水素化反応を行って、反応終了後に
が得られるステップと;
6)前記ステップ5)で得られた
をブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンと反応させて、反応終了後に
が得られるステップと;
7)前記ステップ6)で得られた
と、
を炭酸塩と反応させて、反応終了後に、前記シクロペンチル基と互いに連結される
が1,4−シクロヘキシレンであり、oは1または2でありかつmが0であるときの式Iの化合物が得られるステップと;を含み、
前記方法2は、前記式Iにおいて、
が1,4−フェニレンおよびフッ素化1,4−フェニレンのうちの少なくとも1種であり、oが1または2でありかつmが0であるときの式Iの化合物を製造する方法であって、
1)
をブチルリチウムと均一に混合して反応させ、反応終了後に
を得てから、さらに得られた

と均一に混合して反応させ、得られた生成物をp−トルエンスルホン酸の触媒作用下で脱水して
が得られるステップと;
2)ステップ1)で得られた

、炭酸塩、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウムと均一に混合して還流反応を行って、反応終了後に
が得られるステップと;
3)ステップ2)で得られた
をラネーニッケル触媒の作用下で水素と水素化反応を行って、反応終了後に
が得られるステップと;
4)前記ステップ3)で得られた
をブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンと反応させて、反応終了後に
が得られるステップと;
5)前記ステップ4)で得られた
および炭酸塩を反応させて、反応終了後に、前記
が1,4−フェニレンおよびフッ素化1,4−フェニレンのうちの少なくとも1種であり、oが1または2でありかつmが0であるときの式Iの化合物が得られるステップと;を含み、
前記方法3は、前記式Iにおいて、mは1〜6の整数で、oは1および2で、(L)と互いに連結される
がシクロヘキサンである、式Iで表される化合物を製造する方法であって、
1)
をt−ブトキシドカリウムと均一に混合して反応させ、反応終了後にイリド試薬が得られ、得られたイリド試薬を含有する化合物の反応系を
とオレフィン化反応させて、
が得られるステップと;
2)前記ステップ1)で得られた
をラネーニッケル触媒の作用下で水素と水素化反応を行って、反応終了後に
が得られるステップと;
3)前記ステップ2)で得られた
をブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンと反応させて、反応終了後に
が得られるステップと;
4)前記ステップ3)で得られた

および炭酸塩と反応させて、反応終了後に、前記mが1〜6の整数であり、oが1または2であり、(L)と互いに連結される
がシクロヘキサンである、式Iで表される化合物が得られるステップと;を含み、
前記方法4は、前記式Iにおいて、mが1〜6の整数であり、oが0〜2の整数であり、(L)と互いに連結される
が1,4−フェニレンおよびフッ素化1,4−フェニレンのうちの少なくとも1種である、式Iで示される化合物の製造方法であって、
1)
および
を水素化ナトリウムと均一に混合して反応させて、反応終了後に
が得られるステップと;
2)前記ステップ1)で得られた
をブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンと均一に混合して反応させて、反応終了後に
が得られるステップと;
3)前記ステップ2)で得られた
および炭酸塩を均一に混合して反応させて、反応終了後に、前記mが1〜6の整数であり、oが0〜2の整数であり、(L)と互いに連結される
が1,4−フェニレンおよびフッ素化1,4−フェニレンのうちの少なくとも1種である、式Iで示される化合物が得られるステップと;を含み、
前記方法5は、前記式Iにおいて、mが2〜6の整数であり、(L)と互いに接続される
が1,4−フェニレンおよびフッ素化1,4−フェニレンの中から選ばれる少なくとも1種であり、oが0〜2の整数であり、かつLが−CHである、式Iで示される化合物を製造する方法であって、
1)
をt−ブトキシドカリウムと均一に混合して反応させ、反応終了後にイリド試薬
が得られ、得られたイリド試薬
を含有する反応系を
と均一に混合して反応させて、反応終了後に
が得られるステップと;
2)ステップ1)で得られた
をラネーニッケル触媒の作用下で水素と水素化反応を行って、反応終了後に
が得られるステップと;
3)ステップ2)で得られた
をブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンと反応させて、反応終了後に
が得られるステップと;
4)前記ステップ3)で得られた

および炭酸塩と反応させて、反応終了後に、前記mが2〜6の整数であり、(L)と互いに連結される
が1,4−フェニレンおよびフッ素化1,4−フェニレンの中から選ばれる少なくとも1種であり、oは0〜2の整数であり、かつLは−CHである、式Iで示される化合物が
得られるステップと;を含み、
前記方法6は、前記式Iにおいて、mが1であり、(L)と互いに連結される
が1,4−フェニレンおよびフッ素化1,4−フェニレンの中から選ばれる少なくとも1種であり、oが0〜2の整数でありかつLは−CHである、式Iで示される化合物を製造する方法であって、
1)
および、t−ブトキシドカリウムを均一に混合して反応させて、反応終了後に
が得られるステップと;
2)前記ステップ1)で得られた
をラネーニッケル触媒の作用下で水素と水素化反応を行って、反応終了後に
が得られるステップと;
3)ステップ2)で得られた
をブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンと反応させて、反応終了後に
が得られるステップと;
4)前記ステップ3)で得られた

および炭酸塩と反応させて、反応終了後に、前記mが1であり、(L)と互いに連結される
が1,4−フェニレンおよびフッ素化1,4−フェニレンの中から選ばれる少なくとも1種であり、oが0〜2の整数でありかつLが−CHである、式Iで示される化合物が得られるステップと;を含み、
上記方法において、前記
o、p、L、m、X、X、X、XおよびYの定義はいずれも上記と同じであり、前記ZおよびZはいずれも臭素およびヨウ素の中から選ばれる少なくとも1種であり、Wはいずれも0〜4の整数から選ばれ、Rはいずれも0〜4の整数から選ばれ、かつW+R=m−1である。
前記方法1のステップ1)において、前記シクロペンチル臭化トリフェニルホスホニウム塩、t−ブトキシドカリウム、1,4−シクロヘキサンジオンモノエチレンアセタール
または4,4’−ビスシクロヘキサンジオンモノエチレンアセタールの投入モル比は1〜2:1〜2:1、具体的には1.2:1.2:1であり、前記シクロペンチル臭化トリフェニルホスホニウム塩をt−ブトキシドカリウムと均一に混合して反応させるステップにおいて、温度は−15〜10℃、具体的には−10℃であり、時間は0.5〜2時間、具体的には1時間であり、前記オレフィン化反応ステップにおいて、温度は−15〜10℃、具体的には0℃であり、時間は1〜10時間、具体的には3時間である。
前記方法1のステップ2)において、前記ステップ1)で得られた
または
と前記ラネーニッケル触媒の重量比は100:5〜35、具体的には100:20であり、前記水素化反応ステップにおいて、温度は0〜100℃、具体的には30℃であり、時間は1〜10時間、具体的には6時間である。
前記方法1のステップ3)において、保護基を除去する反応ステップにおいて、温度は0〜110℃、具体的には30℃であり、時間は5〜35時間、具体的には20時間である。
前記方法1のステップ4)において、前記ステップ3)で得られた
または
とグリニャール試薬
の投入モル比は1:0.9〜1.2、具体的には1:1であり、前記付加反応ステップにおいて、温度は0〜70℃、具体的には30℃であり、時間は0.5〜3時間、具体的には1.5時間である。
前記方法1のステップ5)において、前記ステップ4)で得られた
または
と前記ラネーニッケル触媒の重量比は100:5〜35、具体的には100:20であり、前記水素化反応ステップにおいて、温度は0〜100℃、具体的には30℃であり、時間は1〜10時間、具体的には6時間である。
前記方法1のステップ6)において、前記ステップ5)で得られた
ブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンの投入モル比は1:1〜1.3:1〜1.6、具体的には1:1.1:1.2であり、前記反応ステップにおいて、温度は−100〜50℃、具体的には−60℃であり、時間は0.5〜4時間、具体的には2時間である。
前記方法1のステップ7)において、前記炭酸塩は炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムの中から選ばれる少なくとも1種であり、前記ステップ6)で得られた

の投入モル比は1:1〜1.5、具体的には1:1.2であり、前記
と炭酸塩の投入モル比は1:1〜3、具体的には1:2であり、前記反応ステップにおいて、温度は30〜100℃、具体的には60℃であり、時間は2〜4時間、具体的には3時間である。
前記方法2のステップ1)において、前記
ブチルリチウム、および
の投入モル比は1:0.9〜1.2:0.9〜1.4、具体的には1:1:1であり、前記
をブチルリチウムと均一に混合して反応させるステップにおいて、温度は−100〜−60℃、具体的には−80℃であり、時間は0.1〜1時間、具体的には0.5時間であり、前記

と均一に混合して反応させるステップにおいて、温度は−100〜−60℃、具体的には−80℃であり、時間は0.5〜4時間、具体的には2時間である。
前記方法2のステップ2)において、前記炭酸塩は炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムの中から選ばれる少なくとも1種であり、前記
炭酸塩、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウムの投入モル比は1:1〜1.3:1〜2:0.002〜0.02、具体的には1:1.1:1.2:0.0075であり、前記還流反応ステップにおいて、時間は3〜8時間、具体的には5時間である。
前記方法2のステップ3)において、
と前記ラネーニッケル触媒の重量比は100:5〜35、具体的には100:20であり、前記水素化反応ステップにおいて、温度は0〜100℃、具体的には30℃であり、時間は1〜10時間、具体的には6時間である。
前記方法2のステップ4)において、前記ステップ3)で得られた
とブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンの投入モル比は1:1〜1.3:1〜1.6、具体的には1:1.1:1.2であり、前記反応ステップにおいて、温度は−100〜−50℃、具体的には−60℃であり、時間は0.5〜4時間、具体的には2時間である。
前記方法2のステップ5)において、前記炭酸塩は炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムの中から選ばれる少なくとも1種であり、前記

の投入モル比は1:1〜1.5、具体的には1:1.2であり、前記
と炭酸塩の投入モル比は1:1〜3、具体的には1:2であり、前記反応ステップにおいて、温度は30〜100℃、具体的には60℃であり、時間は2〜4時間、具体的には3時間である。
前記方法3のステップ1)において、前記
とt−ブトキシドカリウムおよび
の投入モル比は1〜2:1〜2:1で、具体的には1.2:1.2:1であり、前記
をt−ブトキシドカリウムと均一に混合して反応させるステップにおいて、温度は−15〜10℃、具体的には−10℃であり、時間は0.5〜2時間で、具体的には1時間であり、前記オレフィン化反応ステップにおいて、温度は−15〜10℃、具体的には0℃であり、時間は1〜10時間、具体的には3時間である。
前記方法3のステップ2)において、前記ステップ1)で得られた
と前記ラネーニッケル触媒の重量比は100:5〜35、具体的には100:20であり、前記水素化反応ステップにおいて、温度は0〜100℃、具体的には30℃であり、時間は1〜10時間、具体的には6時間である。
前記方法3のステップ3)において、前記ステップ2)で得られた
とブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンの投入モル比は1:1〜1.3:1〜1.6、具体的には1:1.1:1.2であり、前記反応ステップにおいて、温度は−100〜−50℃、具体的には−60℃であり、時間は0.5〜4時間、具体的には2時間である。
前記方法3のステップ4)において、前記ステップ3)で得られた

の投入モル比は1:1〜1.5、具体的には1:1.2であり、前記
と炭酸塩の投入モル比は1:1〜2で、前記反応ステップにおいて、温度は30〜100℃、具体的には60℃であり、時間は2〜4時間、具体的には3時間である。
前記方法4のステップ1)において、前記
と水素化ナトリウムの投入モル比は1:1〜1.3:1〜1.6、具体的には1:1:1
.2であり、前記反応ステップにおいて、温度は0〜60℃、具体的には30℃であり、時間は18〜22時間、具体的には20時間である。
前記方法4のステップ2)において、前記ステップ1)で得られた
とブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンの投入モル比は1:1〜1.3:1〜1.6、具体的には1:1.1:1.2であり、前記反応ステップにおいて、温度は−100〜−50℃、具体的には−60℃であり、時間は0.5〜4時間、具体的には2時間である。
前記方法4のステップ3)において、前記炭酸塩は炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムの中から選ばれる少なくとも1種であり、前記ステップ2)で得られた

の投入モル比は1:1〜1.5、具体的には1:1.2であり、前記
と炭酸塩の投入モル比は1:1〜2で、前記反応ステップにおいて、温度は30〜100℃、具体的には60℃であり、時間は2〜4時間、具体的には3時間である。
前記方法5のステップ1)において、
t−ブトキシドカリウム、および
の投入モル比は1.1〜1.3:1.1〜1.3:1、具体的には1.2:1.2:1であり、前記
をt−ブトキシドカリウムと均一に混合して反応させるステップにおいて、温度は−20〜10℃で、具体的には−5℃であり、時間は0.25〜1時間、具体的には0.5時間であり、前記得られたイリド試薬
を含有する反応系を
と均一に混合して反応させるステップにおいて、温度は−10〜5℃、具体的には−5℃であり、時間は2〜4時間、具体的には3時間である。
前記方法5のステップ2)において、前記ステップ1)で得られた
と前記ラネーニッケル触媒の重量比は100:5〜35、具体的には100:20であり、前記水素化反応ステップにおいて、温度は0〜100℃、具体的には30℃であり、時間は1〜10時間、具体的には6時間である。
前記方法5のステップ3)において、前記ステップ2)で得られた
とブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンの投入モル比は1:1〜1.3:1〜1.6、具体的には1:1.1:1.2であり、前記反応ステップにおいて、温度は−100〜−50℃、具体的には−60℃であり、時間は0.5〜4時間、具体的には2時間である。
前記方法5のステップ4)において、前記炭酸塩は炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムの中から選ばれる少なくとも1種であり、前記ステップ3)で得られた

の投入モル比は1:1〜1.5、具体的には1:1.2であり、前記
と炭酸塩の投入モル比は1:1〜2であり、前記反応ステップにおいて、温度は30〜100℃、具体的には60℃であり、時間は2〜4時間、具体的には3時間である。
前記方法6のステップ1)において、
およびt−ブトキシドカリウムの投入モル比は1.1〜1.3:1.1〜1.3:1で、具体的には1.2:1.2:1であり、前記反応ステップにおいて、温度は−10℃〜5℃、具体的には−5℃であり、時間は2〜4時間、具体的には3時間である。
前記方法6のステップ2)において、
と前記ラネーニッケル触媒の重量比は100:5〜35、具体的には100:20であり、前記水素化反応ステップにおいて、温度は0℃〜100℃、具体的には30℃であり、時間は1〜10時間、具体的には6時間である。
前記方法6のステップ3)において、
とブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンの投入モル比は1:1〜1.3:1〜1.6、具体的には1:1.1:1.2であり、前記反応ステップにおいて、温度は−100〜−50℃、具体的には−60℃であり、時間は0.5〜4時間、具体的には2時間である。
前記方法6のステップ4)において、前記ステップ3)で得られた

の投入モル比は1:1〜1.5、具体的には1:1.2であり、前記
と炭酸塩の投入モル比は1:1〜2であり、前記反応ステップにおいて、温度は30〜100℃、具体的には60℃であり、時間は2〜4時間、具体的には3時間である。
上記の全ての方法の全てのステップにおける反応はいずれも溶媒中で行われ、前記溶媒はいずれもテトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エタノール、およびトルエンの中から選ばれる少なくとも1種である。
上記の本発明により提供される、式Iで示される化合物の液晶混合物、液晶表示デバイス材料または電気光学表示デバイス材料の製造における応用、ならびに式Iに記載の化合物を含む液晶混合物、液晶表示デバイス材料または電気光学表示デバイス材料もまた、本発明の保護範囲に属する。
図1はマススペクトログラムであり、ここで、aおよびbはそれぞれ、実施例1により製造された式Iで示される化合物1−eおよび式II11のマススペクトログラムである。
以下、具体的な実施例を参照し、本発明についてさらに説明するが、本発明は以下の実
施例に限定されるものではない。前記方法には、特に説明がない限りいずれも通常の方法である。前記原材料は特に説明がない限りいずれも公開された商業ルートを通じて入手できる。以下の実施例において、GCはガスクロマトグラフィー純度、MPは融点、CPは透明点、MSはマススペクトル、Δεは誘電異方性、△nは光学異方性を表す。GC、MP、CP、MS、Δε、および△nを測定する方法はいずれも通常の方法である。
実施例1:式Iで示される化合物1−e(即ち式II2)(方法2)
ステップ1
2Lの三口フラスコにp−ジブロモベンゼン146g(0.62mol)、テトラヒドロフラン1Lを加え、撹拌して固体を溶解させ、窒素を充填して空気を置換し、低温タンク中に置いて液体窒素で温度を下げ、−80℃まで下がった時、2.5Mブチルリチウム水溶液250ml(0.62)molを滴加し、1時間で全部加え終えた。滴加過程において固体が析出され、30分後、同じく−80℃でシクロペンタノン52g(0.62mol)のテトラヒドロフラン溶液50mlを滴加し、30分で全部加え終え、透明な溶液を得た。低温タンクを取り除いて−50℃まで(2時間かけて)自然昇温させて、塩酸80mlを有する水500ml中に入れて加水分解し、分液し、トルエン200mlを用いて水相を1回抽出し、有機層を合わせ、中性になるまで水洗した。減圧下で溶媒を完全に蒸発させ、トルエン400ml、p−トルエンスルホン酸2gを加え、一緒に還流して水を分離し、4時間後にはそれ以上分離される水がなくなり、減圧下で溶媒を完全に蒸発させ、石油エーテルを用いて溶解し、予熱されたシリカゲルカラムに通して精製し、クロマトグラフ溶解液を300mlになるまで濃縮し、凍結結晶化し、ろ過して淡黄色の結晶(1−a)105gを得た。Gcは96.8%で、收率は76%であった。
ステップ2
2Lの三口フラスコに(1−a)90g(0.4mol)、3,5−ジフルオロフェニルボロン酸70g(0.44mol)、トルエン300ml、エタノール300ml、水300ml、炭酸ナトリウム53g(0.5mol)を加え、窒素を充填して空気を置換し、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム3.0gを加えて、5時間加熱還流した。反応液中の有機相を分離し、トルエン100mlを用いて水相を抽出し、有機相を合わせ、中性になるまで水洗し、減圧下で溶媒を完全に蒸発させ、300mlの石油エーテルに溶解して、熱いシリカゲルカラムにかけて精製し、減圧下で石油エーテルを完全に蒸
発させ、エタノール300mlを用いて再結晶させ、淡黄色の結晶(1−b)95gを得た。Gcは98.3%で、收率は93%であった。
ステップ3
2Lの一口フラスコに淡黄色の結晶(1−b)95g、トルエン200ml、エタノール100ml、ラネーニッケル触媒19gを加え、常温常圧下で6時間振とうしながら水素化し、理論量まで水素を吸収させ、慎重にろ過して触媒を除去し、減圧下でろ液の溶媒を完全に蒸発させ、白色固体(1−c)92gを得た。Gcは98.0%で、收率は96.8%であった。
ステップ4
1Lの三口フラスコに(1−c)65g(0.25mol)、テトラヒドロフラン300mlを加え、窒素を充填して空気を置換し、低温タンク中に置いて液体窒素で温度を下げ、−60℃まで下がった時、2.5Mブチルリチウム水溶液110ml(0.275mol)を滴加し、1時間で全部加え終えた。30分後、同じく−60℃でジフルオロジブロモメタン63g(0.3mol)のテトラヒドロフラン溶液100mlを滴加し、30分で全部加え終え、透明な溶液を得た。低温タンクを取り除いて−40℃まで(2時間かけて)自然昇温させて、塩酸27mlを有する水500ml中に入れて加水分解し、分液し、石油エーテル200mlを用いて水相を1回抽出し、有機層を合わせ、中性になるまでブラインで洗った。減圧下で溶媒を完全に蒸発させ、黄色液体が得られ、石油エーテルに溶解して、シリカゲルカラムに通し、溶媒を蒸発除去し、淡黄色液体(1−d)93gを得た。Gcは72.3%であった。
ステップ5
1Lの三口フラスコに(1−d)65g(0.121mol)、3,4,5−トリフルオロフェノール20.7g(0.14mol)、炭酸カリウム35.9g(0.26mol)、ジメチルスルホキシド500mlを加え、60℃の水槽中に置いて3時間撹拌しながら反応させた。水1Lに入れ、石油エーテル150ml×2で抽出し、抽出層を水洗し、シリカゲルカラムに1回通し、石油エーテル150mlを用いて4回再結晶させ、白色結晶(1−e)30gが得られた。
当該生成物の物理的・化学的性質および構造の確認データは、Gc:99.92%、M
P:49℃、CP:22℃、MS:m/z(%)454(M+ 1.9) 307(100) 265(14.1) 252(7.0) 239(3.9)、Δn[589nm,20℃]:0.142、Δε[KHz,20℃]:20.1であった。当該生成物のマススペクトログラムは図1aに示すとおりであった。以上により、当該生成物は構造が正確で、式Iで示される化合物1−eであることが分かった。
当該実施例により製造されて得られた式Iで示される化合物1−eに対して液晶性能試験を行い、具体的なステップは、当該実施例により製造されて得られた式Iで示される化合物1−eを10%の比率で透明点CPが80℃である母体中に溶解することを含み、得られた液晶混合物の透明点CPを試験して、得られた結果は82.4℃であった。
対照として、透明点CPが0℃である既知の化合物
で前記化合物1−eを代替して上記の試験を行い、当該既知の化合物を母体と混合して得られた液晶混合物の透明点CPとして78.8℃が得られた。
上記試験において、用いられた母体中の各成分の化合物の構造式およびその重量比率は以下のとおりであった。
以上により、当該実施例により製造されて得られた式Iで示される化合物を用いて母体液晶化合物を調製することは、本分野で用いられる類似の構造の従来の液晶化合物と比べて、得られた液晶混合物の透明点CPを著しく向上できることが分かった。また、液晶表示分野においては、用いられる液晶表示デバイス材料または電気光学表示デバイス材料の透明点ができる限り高いことが求められており、本発明で提供される式Iで示される化合物は、液晶表示デバイス材料または電気光学表示デバイス材料の製造分野において重要な応用価値を有することが分かった。
実施例1の合成方法を採用して、別の置換基の原料を代替して使用し、それぞれ以下の構造式である式Iで示される液晶化合物が得られた(生成物の物理的・化学的性質および
構造の確認データはいずれもその後に列記している)。
Gc:99.95%、MP:43℃、CP:21℃、Δn[589nm,20℃]:0.14、ε[KHz,20℃]:24
Gc:99.95%、MP:117.5℃、CP:52℃、MS:m/z(%)566(M+ 0.9) 307(100) 265(6.2) 252(3.4) 239(1.8)、Δn[589nm,20℃]:0.155、ε[KHz,20℃]:26.5
当該化合物のマススペクトログラムは図1bで示すとおりであった。
上記と完全に同じ方法により、反応物のみを目的生成物の置換基に基づいて代替し、それぞれ以下の構造式である式Iで示される化合物が得られた(生成物の物理的・化学的性質および構造の確認データはいずれもその後に列記している)。
当該生成物の物理的・化学的性質および構造の確認データは、Gc:99.90%、MP:91℃、CP:147℃、Δn[589nm,20℃]:0.16、Δε[KHz,20℃]:21であった。
上記式Iで示される化合物の液晶性能試験は1−eと実質的な差異がなく、ここでは重ねて説明しない。
実施例2:式Iで示される化合物2−gの製造(即ちII1)(方法1)
ステップ1
500mlの三口フラスコに臭化シクロペンタントリフェニルホスホニウム塩69g(0.168mol)、テトラヒドロフラン600mlを加え、−10℃での撹拌下で当該
溶液にt−ブトキシドカリウム18.8g(0.168mol)を数回に分けて加え、反応させて放熱させ、橙色の溶液が得られた。全部加え終わった後、さらに撹拌下で1時間反応させた。さらに0℃で1,4−シクロヘキサンジオンエモノエチレンアセタール22g(0.14mol)のメチルt−ブチルエーテル溶液150mlを滴加し、全部加え終わった後、さらに撹拌下で3時間反応させた。反応液を水500ml中に入れ、ジクロロメタンで水相から抽出し、有機相を濃縮し、石油エーテルに溶解して、シリカゲルカラムに通し、濃縮して(2−a)10.8gが得られた。
ステップ2
1Lの一口フラスコに(2−a)10.8g、トルエン100ml、エタノール100ml、ラネーニッケル触媒2gを加え、常圧下で6時間振とうしながら水素化し、理論量まで水素を吸収させ、慎重にろ過して触媒を除去し、減圧下でろ液の溶媒を完全に蒸発させ、(2−b)10gが得られた。
ステップ3
ステップ2で得られた(2−b)10g、トルエン50ml、85%ギ酸20mlを一緒に250mlのフラスコに入れて室温下で20時間撹拌し、ギ酸層を分液して除去し、有機相中に残留する酸を水洗して除去し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮して(2−c)6.5gが得られた。
ステップ4
250mlの三口フラスコにマグネシウムチップ1g(0.042mol)、テトラヒドロフラン30mlを加え、還流下で3,5−ジフルオロブロモベンゼン7.7g(0.04mol)のテトラヒドロフラン溶液30mlを滴加し、30分で全部加え終わり、30分還流し、グリニャール試薬が得られた。室温下で(2−c)6.5g(0.04mol)のテトラヒドロフラン溶液20mlを滴加し、全部加えた後にさらに1.5時間還流した。反応液を希塩酸中に入れて加水分解し、水相を分液してトルエンで抽出し、有機層を合わせ、中性になるまで水洗し、濃縮した。得られた生成物にトルエン50ml、p−トルエンスルホン酸0.5gを加え、水が完全に分離するまで還流下で水を分離し、濃縮し、石油エーテルを加えて溶解し、シリカゲルカラムに通し、得られた生成物を石油エーテルで再結晶させて、(2−d)5.2gを得た。Gcは98.2%であった。
ステップ5
1Lの一口フラスコに(2−d)5.2g、トルエン30ml、エタノール40ml、ラネーニッケル触媒1gを加え、常圧常温下で6時間振とうしながら水素化し、理論量まで水素を吸収させ、慎重にろ過して触媒を除去し、減圧下でろ液の溶媒を完全に蒸発させ、(2−e)5gを得た。Gcは98.2%であった。
ステップ6
250mlの三口フラスコに(2−e)5g(0.019mol)、テトラヒドロフラン30mlを加え、窒素を充填して空気を置換し、低温タンク中に置いて液体窒素で温度を下げ、−60℃まで下げた時、2.5Mブチルリチウム水溶液8.4ml(0.021mol)を滴加し、1時間で全部加え終わり、30分後、同じく−60℃でジフルオロジブロモメタン4.79g(0.0228mol)のテトラヒドロフラン溶液10mlを滴加し、30分で全部加え終え、透明な溶液を得た。低温タンクを取り除いて−40℃まで(2時間かけて)自然昇温させて、塩酸3mlを有する水50ml中に入れて加水分解し、分液し、石油エーテル20mlを用いて水相を1回抽出し、有機層を合わせ、中性になるまでブラインで洗った。減圧下で溶媒を完全に蒸発させ、黄色液体が得られ、石油エーテルに溶解して、シリカゲルカラムに通し、溶媒を蒸発除去し、淡黄色液体(2−f)5.9gを得た。Gcは52.9%であった。
ステップ7
250mlの三口フラスコに淡黄色液体(2−f)5.9g(0.008mol)、3,4,5−トリフルオロフェノール1.4g(0.095mol)、炭酸カリウム2.6g(0.019mol)、ジメチルスルホキシド50mlを加え、60℃の水槽中に置いて3時間撹拌しながら反応させた。得られた茶褐色反応液を水100L中に入れ、石油エーテル20ml×3で抽出し、抽出層を水洗し、シリカゲルカラムに1回通し、石油エーテル15mlを用いて4回再結晶させ、白色結晶(2−g)1.0gが得られた。
当該生成物の物理的・化学的性質および構造の確認データは以下のとおりである。Gc:99.95%、MP:42℃、CP:41℃、MS:m/z(%) 460(M+ 0.2)313(100) 189(14) 176(13) 163(26)、Δn[589nm,20℃]:0.11、Δε[KHz,20℃]:17。以上により、当該生成物は構造が正確で、式Iで示される化合物2−gであることが分かった。
当該実施例により製造されて得られた式Iで示される化合物1−eに対して液晶性能試験を行い、具体的なステップは、当該実施例により製造されて得られた式Iで示される化合物1−eを10%の比率で透明点CPが80℃である母体中に溶解することを含み、得られた液晶混合物の透明点CPを試験したところ、得られた結果は84℃であった。
また対照として、透明点CPが0℃である既知の化合物
で前記化合物1−eを代替し、上述のような試験を行い、当該既知の化合物を母体と混合して得られた液晶混合物の透明点CPとして78.8℃が得られた。
上記試験において、用いられた母体中の各成分の化合物の構造式およびその重量比率は以下のとおりであった。
以上により、当該実施例により製造されて得られた式Iで示される化合物を用いて母体液晶化合物を調製することは、本分野で用いられる類似の構造の従来の液晶化合物と比べて、得られた液晶混合物の透明点CPを著しく向上できることが分かった。また、液晶表示分野においては、用いられる液晶表示デバイス材料または電気光学表示デバイス材料の
透明点ができる限り高いことが求められており、本発明で提供される式Iで示される化合物は、液晶表示デバイス材料または電気光学表示デバイス材料の製造分野において重要な応用価値を有することが分かった。
上記と完全に同じ方法により、反応物のみを目的生成物の置換基に基づいて代替し、それぞれ以下の構造式である式Iで示される化合物が得られた。
ここで、
の物理的・化学的性質および構造の確認データは、Gc:99.95%、MP:105℃、CP:158℃、Δn[589nm,20℃]:0.12、Δε[KHz,20℃]:17であった。
上記式Iで示される化合物の液晶性能試験は2−gと実質的な差異がなく、ここでは重ねて説明しない。
実施例3、式Iで示される化合物3−dの製造(方法3)
ステップ1
500mlの三口フラスコに2−シクロペンチル−1−ブロモエチルトリフェニルホスホニウム塩48.3g(0.11mol)、テトラヒドロフラン200mlを加え、−5℃でt−ブトキシドカリウム12.5g(0.11mol)を数回に分けて加え、橙色の溶液が得られ、この温度下で撹拌し続けて30分反応させ、0℃で4−(3,5−ジフルオロフェニル)シクロヘキサノン21g(0.1mol)のテトラヒドロフラン溶液60mlを滴加し、全部加え終わった後、室温下で3時間反応させた。
反応液を水400ml中に入れ、分液し、酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせ、中性になるまで水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を蒸発除去し、固体生成物が得られ、石油エーテル100×3mlを用いて抽出し、抽出液をシリカゲルカラムに通し、溶媒を蒸発除去し、固体生成物(3−a)23.2gを得た。Gcは98.3%であった。
ステップ2
1Lの一口フラスコに(3−a)23.2g、トルエン100ml、エタノール100ml、ラネーニッケル触媒5gを加え、常圧下で6時間振とうしながら水素化し、理論量まで水素を吸収させ、慎重にろ過して触媒を除去し、減圧下でろ液の溶媒を完全に蒸発させ、(3−b)22gを得た。Gcは98.0%で、收率は94.8%であった。
ステップ3
250mlの三口フラスコに(3−b)22g(0.075mol)、テトラヒドロフラン100mlを加え、窒素を充填して空気を置換し、低温タンク中に置いて液体窒素で温度を下げ、−60℃まで下げた時、2.5Mのブチルリチウム水溶液33ml(0.083mol)を滴加し、1時間で全部加え終えた。30分後、同じく−60℃でジフルオロジブロモメタン18.9g(0.09mol)のテトラヒドロフラン溶液20mlを滴
加し、30分で全部加え終え、透明な溶液を得た。低温タンクを取り除いて−40℃まで(2時間かけて)自然昇温させて、塩酸7mlを有する水200ml中に入れて加水分解し、分液し、石油エーテル100mlを用いて水相を1回抽出し、有機層を合わせ、中性になるまでブラインで洗った。減圧下で溶媒を完全に蒸発させ、黄色液体が得られ、石油エーテルに溶解して、シリカゲルカラムに通し、溶媒を蒸発除去し、淡黄色液体(3−c)26.8gを得た。Gcは55.6%であった。
ステップ4
250mlの三口フラスコに淡黄色液体(3−c)26.8g(0.035mol)、3,4,5−トリフルオロフェノール6.2g(0.042mol)、炭酸カリウム11.3g(0.082mol)、ジメチルスルホキシド150mlを加え、60℃の水槽中に置いて3時間撹拌しながら反応させた。水300L中に入れ、石油エーテル90ml×2で抽出し、抽出層を水洗し、シリカゲルカラムに1回通し、石油エーテル100mlを用いて5回再結晶させ、白色結晶(3−d)4.9gが得られた。
当該生成物の物理的・化学的性質および構造の確認データは、Gc:99.95%、MP:41℃、CP:38℃、MS:m/z(%) 488(M+ 0.2) 341(100)、Δn[589nm,20℃]:0.1、Δε[KHz,20℃]:17である。
以上により、当該生成物は構造が正確で、式Iで示される化合物3−dであることが分かった。
上記と完全に同じ方法により、反応物のみを目的生成物の置換基に基づいて代替し、それぞれ以下の構造式である式Iで示される化合物が得られた。
当該実施例により製造されて得られた式Iで示される化合物の液晶性能試験は前記実施例1により得られた液晶化合物1−eの試験結果と実質的な差異がなく、ここでは重ねて説明しない。
実施例4、式Iで示される化合物4−cの製造(方法4)
ステップ1
500mlの三口フラスコに4−(3,5ジフルオロフェニル)フェノール20.6g(0.1mol)、ジメチルホルムアミド200mlを加え、30℃での撹拌下で60%の水素化ナトリウム4.8g(0.12mol)を数回に分けて加え、撹拌しながら反応させてフェノールナトリウム塩が製造され、撹拌下でシクロペンチルメチルブロマイド16.3g(0.1mol)を滴加し、20時間反応させ、水500ml中に入れ、熱い石油エーテル200×2で抽出し、有機相を合わせ、中性になるまで水洗し、減圧下で溶媒を完全に蒸発させ、無水エタノールで再結晶させ、白色結晶(4−a)15gを得た。Gcは98.9%であった。
ステップ2
250mlの三口フラスコに(4−a)15g(0.052mol)、テトラヒドロフラン100mlを加え、窒素を充填して空気を置換し、低温タンク中に置いて液体窒素で温度を下げ、−60℃まで下がった時、2.5Mのブチルリチウム水溶液23ml(0.057mol)を滴加し、1時間で全部加え終わり、30分後、同じく−60℃でジフルオロジブロモメタン13.2g(0.062mol)のテトラヒドロフラン溶液20mlを滴加し、30分で全部加え終え、透明な溶液を得た。低温タンクを取り除いて−40℃まで(2時間かけて)自然昇温させて、塩酸6mlを有する水200ml中に入れて加水分解し、分液し、石油エーテル100mlを用いて水相を1回抽出し、有機層を合わせ、中性になるまでブラインで洗った。減圧下で溶媒を完全に蒸発させ、黄色液体が得られ、石油エーテルに溶解して、シリカゲルカラムに通し、溶媒を蒸発除去し、18.4gの淡黄色液体(4−b)を得た。Gcは74.6%であった。
ステップ3
250mlの三口フラスコに淡黄色液体(4−b)18.4g(0.033mol)、3,4,5−トリフルオロフェノール5.9g(0.04mol)、炭酸カリウム11g(0.08mol)、ジメチルスルホキシド120mlを加え、60℃の水槽中に置いて3時間撹拌しながら反応させた。水300L中に入れ、石油エーテル90ml×2で抽出し、抽出層を水洗し、シリカゲルカラムに1回通し、石油エーテル100mlを用いて5回再結晶させ、白色結晶(4−c)6.4gが得られた。
当該生成物の物理的・化学的性質および構造の確認データは、Gc:99.92%、MP:73℃、CP:4℃、MS:m/z(%) 484(M+ 0.05) 255(100) 337(10)、Δn[589nm,20℃]:0.15、Δε[KHz,20℃]:16であった。
以上により、当該生成物は構造が正確で、式Iで示される化合物4−cであることが分かった。
上記と完全に同じ方法により、反応物のみを目的生成物の置換基に基づいて代替し、それぞれ以下の構造式である式Iで示される化合物が得られた。
当該実施例により製造されて得られた式Iで示される化合物の液晶性能試験は前記実施例1により得られた液晶化合物1−eの試験結果と実質的な差異がなく、ここでは重ねて説明しない。
実施例5、式Iで示される化合物5−dの製造(方法5および方法6)
ステップ1
500mlの三口フラスコにシクロペンチルメチルブロマイドトリフェニルホスホニウム塩0.12mol、テトラヒドロフラン200mlを加え、−5℃でt−ブトキシドカリウム0.12molを加え、橙色に変わり、0.5時間撹拌しながら反応させ、4−(3,5ジフルオロフェニル)ベンズアルデヒド0.1molのテトラヒドロフラン溶液80mlを滴加し、全部加え終わった後、さらに3時間反応させる。
水に入れ、有機相を分離し、酢酸エチルで水相を抽出し、有機相を合わせ、ブラインで洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を完全に蒸発させ、石油エーテルで固体を抽出し、シリカゲルカラムに通して、副生成物を除去し、(5−a)20g(0.08mol)を得た。Gcは98.0%であった。
ステップ2
1Lの一口フラスコに(5−a)20g、トルエン100ml、エタノール100ml、ラネーニッケル触媒5gを加え、常圧下で6時間振とうしながら水素化し、理論量まで水素を吸収させ、慎重にろ過して触媒を除去し、減圧下でろ液の溶媒を完全に蒸発させ、白色固体(5−b)19.5gを得た。Gcは98.0%で、收率は97.5%であった。
ステップ3
250mlの三口フラスコに(5−b)19.5g(0.068mol)、テトラヒドロフラン100mlを加え、窒素を充填して空気を置換し、低温タンク中に置いて液体窒素で温度を下げ、−60℃まで下げた時、2.5Mのブチルリチウム水溶液30ml(0.075mol)を滴加し、1時間で全部加え終えた。30分後、同じく−60℃でジフルオロジブロモメタン17.2g(0.082mol)のテトラヒドロフラン溶液20mlを滴加し、30分で全部加え終え、透明な溶液を得た。低温タンクを取り除いて−40
℃まで(2時間かけて)自然昇温させて、塩酸7mlを有する水200ml中に入れて加水分解し、分液し、石油エーテル100mlを用いて水相を1回抽出し、有機層を合わせ、中性になるまでブラインで洗った。減圧下で溶媒を完全に蒸発させ、黄色液体が得られ、石油エーテルに溶解して、シリカゲルカラムに通し、溶媒を蒸発除去し、淡黄色液体(5−c)24gを得た。Gcは73.7%であった。
ステップ4
250mlの三口フラスコに淡黄色液体(5−c)24g(0.042mol)、3,4,5−トリフルオロフェノール7.5g(0.051mol)、炭酸カリウム13.8g(0.1mol)、ジメチルスルホキシド120mlを加え、60℃の水槽中に置いて3時間撹拌しながら反応させた。水300L中に入れ、石油エーテル90ml×2で抽出し、抽出層を水洗し、シリカゲルカラムに1回通し、石油エーテル100mlを用いて5回再結晶させ、白色結晶(5−d)6.4gが得られた。
当該生成物の物理的・化学的性質および構造の確認データは、Gc:99.92%、MP:55℃、CP:5℃、MS:m/z(%) 482(M 0.05) 253(100) 252(70) 335(20)、Δn[589nm,20℃]:0.13、Δε[KHz,20℃]:17であった。
以上により、当該生成物は構造が正確で、式Iで示される化合物5−dであることが分かった。
上記と完全に同じ方法により、反応物のみを目的生成物の置換基に基づいて代替し、それぞれ以下の構造式である式Iで示される化合物が得られた。
当該実施例により製造されて得られた式Iで示される化合物の液晶性能試験は前記実施例1により得られた液晶化合物1−eの試験結果と実質的な差異がなく、ここでは重ねて説明しない。
液晶化合物は一般に混合物に調製されて用いられるものであり、一般に、混合物は高い透明点および低い回転粘度を有することが求められるが、混合物の透明点と回転粘度はそ
の組成成分(単体液晶)の透明点、回転粘度、およびその含有量により決定される。ジフルオロメチレンオキシ連結基(−CFO−)を含有する液晶化合物は、低い回転粘度を有するものの、その透明点は、他の連結基(例えば、−CHO−、−C≡C−、−COO−、−CHCH−)を含有する液晶化合物の透明点より低く、これは高い透明点の混合物の調製にとっては不利であり、本発明者は、ジフルオロメチレンオキシ連結基(−CFO−)を含有する液晶化合物のアルキル鎖をシクロペンチル基に代替し、またはアルキル鎖端にシクロペンチル基を加えたもの、即ち本発明により提供される式Iで示される化合物は、その透明点が明らかに高くなり、その回転粘度はアルキル鎖と比べて同等か、あるいはより低くなり、かつ非常に速い応答速度を有するということを見出した。その合成方法もプロセスが簡単で、生産コストが低く、低い回転粘度を有する液晶混合物の調製にとって非常に重要な現実的な意味を持つ。

Claims (10)

  1. 下記式IIで示される化合物であって、
    前記式IIにおいて、
    は1,4−シクロヘキシレン、1,4−フェニレン、およびフッ素化1,4−フェニレンの中から選ばれる少なくとも1種であり、
    は1,4−フェニレンおよびフッ素化1,4−フェニレンの中から選ばれる少なくとも1種であり、oは1または2であり、pは0または1であり、−(F)はFまたはHを表す、化合物。
  2. 前記式IIで示される化合物は、式II1〜式II13の中から選ばれる少なくともいずれか1種である、請求項1に記載の化合物。
  3. 記式IIにおいてシクロペンチル基と互いに連結される
    が1,4−シクロヘキシレンであり、oが1または2であるときの、請求項1または2に記載の化合物の製造方法であって、
    1)シクロペンチル臭化トリフェニルホスホニウム塩とt−ブトキシドカリウムを均一に混合して反応させ、反応終了後にイリド試薬が得られ、得られたイリド試薬を含有する化合物の反応系を1,4−シクロヘキサンジオンモノエチレンアセタールまたは4,4’−ビスシクロヘキサンジオンモノエチレンアセタールとオレフィン化反応させて、
    または
    が得られるステップと、
    2)前記ステップ1)で得られた
    または
    をラネーニッケル触媒の作用下で水素と水素化反応を行って、反応終了後に
    または
    が得られるステップと、
    3)前記ステップ2)で得られた
    または
    をpH値1〜6の条件下で保護基を除去する反応を行って、反応終了後に
    または
    が得られるステップと、
    4)前記ステップ3)で得られた
    または
    をグリニャール試薬
    と均一に混合して付加反応を行って、反応終了後、脱水して
    または
    が得られるステップと、
    5)前記ステップ4)で得られた
    または
    をラネーニッケル触媒の作用下で水素と水素化反応を行って、反応終了後に
    が得られるステップと、
    6)前記ステップ5)で得られた
    をブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンと反応させて、反応終了後に
    が得られるステップと、
    7)前記ステップ6)で得られた

    を炭酸塩と反応させて、反応終了後に、前記シクロペンチル基と互いに連結される
    が1,4−シクロヘキシレンであり、oが1または2であるときの式IIの化合物が得られるステップと、を含み、
    上記方法において、前記
    および、pの定義はいずれも請求項1における定義と同様であり、前記X 、X 、X 、X は、それぞれ、HおよびFから選ばれるいずれか一種であり、YはFであり、前記Z およびZ はいずれも臭素またはヨウ素である、方法。
  4. 前記式IIにおいて、
    が1,4−フェニレンおよびフッ素化1,4−フェニレンのうちの少なくとも1種であり、oが1または2であるとき、請求項1または2に記載の化合物の製造方法であって、
    1)
    をブチルリチウムと均一に混合して反応させ、反応終了後に
    を得てから、さらに得られた

    と均一に混合して反応させ、得られた生成物をp−トルエンスルホン酸の触媒作用下で脱水して
    が得られるステップと、
    2)ステップ1)で得られた

    炭酸塩、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウムと均一に混合して還流反応を行って、反応終了後に
    が得られるステップと、
    3)ステップ2)で得られた
    をラネーニッケル触媒の作用下で水素と水素化反応を行って、反応終了後に
    が得られるステップと、
    4)前記ステップ3)で得られた
    をブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンと反応させて、反応終了後に
    が得られるステップと、
    5)前記ステップ4)で得られた
    および炭酸塩を反応させて、反応終了後に、前記
    が1,4−フェニレンおよびフッ素化1,4−フェニレンのうちの少なくとも1種であり、oが1または2であるときの式IIの化合物が得られるステップと、を含み、
    上記方法において、前記
    および、pの定義はいずれも請求項1における定義と同様であり、前記X 、X 、X 、X は、それぞれ、HおよびFから選ばれるいずれか一種であり、YはFであり、前記Z およびZ はいずれも臭素またはヨウ素である、方法。
  5. 記ステップ1)において、前記シクロペンチル臭化トリフェニルホスホニウム塩、t−ブトキシドカリウム、1,4−シクロヘキサンジオンモノエチレンアセタールまたは4,4’−ビスシクロヘキサンジオンモノエチレンアセタールの投入モル比は1〜2:1〜2:1であり、
    前記シクロペンチル臭化トリフェニルホスホニウム塩をt−ブトキシドカリウムと均一に混合して反応させるステップにおいて、温度は−15〜10℃であり、時間は0.5〜2時間であり、前記オレフィン化反応ステップにおいて、温度は−15〜10℃であり、時間は1〜10時間であり、
    記ステップ2)において、前記ステップ1)で得られた
    または
    と前記ラネーニッケル触媒の重量比は100:5〜35であり、前記水素化反応ステップにおいて、温度は0〜100℃であり、時間は1〜10時間であり、
    記ステップ3)において、保護基を除去する反応ステップにおいて、温度は0〜110℃であり、時間は5〜35時間であり、
    記ステップ4)において、前記ステップ3)で得られた
    または
    とグリニャール試薬
    の投入モル比は1:0.9〜1.2であり、前記付加反応ステップにおいて、温度は0〜70℃であり、時間は0.5〜3時間であり、
    記ステップ5)において、前記ステップ4)で得られた
    または
    と前記ラネーニッケル触媒の重量比は100:5〜35であり、前記水素化反応ステップにおいて、温度は0〜100℃であり、時間は1〜10時間であり、
    記ステップ6)において、前記ステップ5)で得られた
    ブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンの投入モル比は1:1〜1.3:1〜1.6であり、前記反応ステップにおいて、温度は−100〜50℃であり、時間は0.5〜4時間であり、
    記ステップ7)において、前記炭酸塩は炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムの中から選ばれる少なくとも1種であり、前記ステップ6)で得られた

    の投入モル比は1:1〜1.5であり、前記
    と炭酸塩の投入モル比は1:1〜3であり、前記反応ステップにおいて、温度は30〜100℃であり、時間は2〜4時間であり、上記の全ての方法の全てのステップにおける反応はいずれも溶媒中で行われ、前記溶媒はいずれもテトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エタノール、およびトルエンの中から選ばれる少なくとも1種である、請求項3に記載の方法。
  6. 前記ステップ1)において、前記
    ブチルリチウム、および
    の投入モル比は1:0.9〜1.2:0.9〜1.4であり、前記
    をブチルリチウムと均一に混合して反応させるステップにおいて、温度は−100〜−60℃であり、時間は0.1〜1時間であり、前記

    と均一に混合して反応させるステップにおいて、温度は−100℃〜−60℃であり、時間は0.5〜4時間であり、
    前記ステップ2)において、前記炭酸塩は炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムの中から選ばれる少なくとも1種であり、前記
    炭酸塩、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウムの投入モル比は1:1〜1.3:1〜2:0.002〜0.02であり、前記還流反応ステップにおいて、時間は3〜8時間であり、
    前記ステップ3)において、
    と前記ラネーニッケル触媒の重量比は100:5〜35であり、前記水素化反応ステップにおいて、温度は0〜100℃であり、時間は1〜10時間であり、
    前記ステップ4)において、前記ステップ3)で得られた
    とブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンの投入モル比は1:1〜1.3:1〜1.6であり、前記反応ステップにおいて、温度は−100〜−50℃であり、時間は0.5〜4時間であり、
    前記ステップ5)において、前記炭酸塩は炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムの中から選ばれる少なくとも1種であり、前記

    の投入モル比は1:1〜1.5であり、前記
    と炭酸塩の投入モル比は1:1〜3であり、前記反応ステップにおいて、温度は30〜100℃であり、時間は2〜4時間であり、
    上記の全ての方法の全てのステップにおける反応はいずれも溶媒中で行われ、前記溶媒はいずれもテトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エタノール、およびトルエンの中から選ばれる少なくとも1種である、請求項3に記載の方法。
  7. 記ステップ1)において、前記シクロペンチル臭化トリフェニルホスホニウム塩、t−ブトキシドカリウム、1,4−シクロヘキサンジオンモノエチレンアセタールまたは4,4’−ビスシクロヘキサンジオンモノエチレンアセタールの投入モル比は1.2:1.2:1であり、
    前記シクロペンチル臭化トリフェニルホスホニウム塩をt−ブトキシドカリウムと均一に混合して反応させるステップにおいて、温度は−10℃であり、時間は1時間であり、前記オレフィン化反応ステップにおいて、温度は0℃であり、時間は3時間であり、
    記ステップ2)において、前記ステップ1)で得られた
    または
    と前記ラネーニッケル触媒の重量比は100:20であり、前記水素化反応ステップにおいて、温度は30℃であり、時間は6時間であり、
    記ステップ3)において、保護基を除去する反応ステップにおいて、温度は30℃であり、時間は20時間であり、
    記ステップ4)において、前記ステップ3)で得られた
    または
    とグリニャール試薬
    の投入モル比は1:1であり、前記付加反応ステップにおいて、温度は30℃であり、時間は1.5時間であり、
    記ステップ5)において、前記ステップ4)で得られた
    または
    と前記ラネーニッケル触媒の重量比は100:20であり、前記水素化反応ステップにおいて、温度は30℃であり、時間は6時間であり、
    記ステップ6)において、前記ステップ5)で得られた
    ブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンの投入モル比は1:1.1:1.2であり、前記反応ステップにおいて、温度は−60℃であり、時間は2時間であり、
    前記ステップ7)において、前記炭酸塩は炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムの中から選ばれる少なくとも1種であり、前記ステップ6)で得られた

    の投入モル比は1:1.2であり、前記
    と炭酸塩の投入モル比は1:2であり、前記反応ステップにおいて、温度は60℃であり、時間は3時間である、請求項3に記載の方法。
  8. 前記ステップ1)において、前記
    ブチルリチウム、および
    の投入モル比は1:1:1であり、前記
    をブチルリチウムと均一に混合して反応させるステップにおいて、温度は−80℃であり、時間は0.5時間であり、前記

    と均一に混合して反応させるステップにおいて、温度は−80℃であり、時間は2時間であり、
    前記ステップ2)において、前記炭酸塩は炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムの中から選ばれる少なくとも1種であり、前記
    炭酸塩、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウムの投入モル比はは1:1.1:1.2:0.0075であり、前記還流反応ステップにおいて、時間は5時間であり、
    前記ステップ3)において、
    と前記ラネーニッケル触媒の重量比は100:20であり、前記水素化反応ステップにおいて、温度は30℃であり、時間は6時間であり、
    前記ステップ4)において、前記ステップ3)で得られた
    とブチルリチウムおよびジフルオロジブロモメタンの投入モル比は1:1.1:1.2であり、前記反応ステップにおいて、温度は−60℃であり、時間は2時間であり、
    前記ステップ5)において、前記炭酸塩は炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムの中から選ばれる少なくとも1種であり、前記

    の投入モル比は1:1.2であり、前記
    と炭酸塩の投入モル比は1:2であり、前記反応ステップにおいて、温度は60℃であり、時間は3時間である、請求項6に記載の方法。
  9. 液晶混合物、液晶表示デバイス材料または電気光学表示デバイス材料の製造における、請求項1または2に記載の化合物の応用。
  10. 請求項1または2に記載の化合物を含む、液晶混合物、液晶表示デバイス材料または電気光学表示デバイス材料。
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