JP5762815B2 - 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 - Google Patents
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2:密閉容器
3:台板 3−1:グラファイト板 3−2:炭化珪素皮膜
4:脱脂炉 5:焼結炉
10:横行運搬台車 11:軌条
Claims (4)
- 窒化アルミニウム粒子と焼結助剤と有機バインダーとから成る窒化アルミニウム成形体を同一処理炉で、常温から1000℃までの酸化性雰囲気で脱脂し、次いで1600〜2100℃の非酸化性雰囲気で焼結して窒化アルミニウム焼結体を得る製造方法において、窒化アルミニウム成形体又は窒化アルミニウム成形体を積層した密閉容器を積載したグラファイト板の全表面を炭化珪素の皮膜で被覆した耐酸化性及び耐熱性を有する台板を前記脱脂処理及び焼結処理で共用可能に使用することを特徴とする窒化アルミニウム焼結体の製造方法。
- 窒化アルミニウム粒子と焼結助剤と有機バインダーとから成る窒化アルミニウム成形体を常温から1000℃までの酸化性雰囲気の脱脂炉中で脱脂し、次いで1600〜2100℃の非酸化性雰囲気の焼結炉中で焼結して窒化アルミニウム焼結体を得る製造方法において、窒化アルミニウム成形体又は窒化アルミニウム成形体を積層した密閉容器を積載したグラファイト板の全表面を炭化珪素の皮膜で被覆した耐酸化性及び耐熱性を有する台板を前記脱脂炉及び焼結炉内で共用可能に使用することを特徴とする窒化アルミニウム焼結体の製造方法。
- 前記炭化珪素皮膜の被覆がCVD(Chemical Vapor Deposition)法により施されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の窒化アルミニウム焼結体の製造方法。
- 前記炭化珪素皮膜の厚みが20〜600μmの範囲であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の窒化アルミニウム焼結体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011103936A JP5762815B2 (ja) | 2011-05-09 | 2011-05-09 | 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 |
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JP2012232876A JP2012232876A (ja) | 2012-11-29 |
JP5762815B2 true JP5762815B2 (ja) | 2015-08-12 |
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ID=47433597
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Country | Link |
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JP (1) | JP5762815B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113108603A (zh) * | 2021-04-20 | 2021-07-13 | 王亓会 | 一种氮化铝陶瓷基板制造加工机械及制造加工方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62119170A (ja) * | 1985-11-19 | 1987-05-30 | 電気化学工業株式会社 | 窒化アルミニウムグリ−ンシ−トの脱脂方法 |
JPH03275567A (ja) * | 1990-03-22 | 1991-12-06 | Matsushita Electric Works Ltd | 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 |
JP3308324B2 (ja) * | 1992-12-04 | 2002-07-29 | 旭硝子株式会社 | 窒化アルミニウム基板の製造方法 |
JP3959555B2 (ja) * | 1997-02-07 | 2007-08-15 | 東洋アルミニウム株式会社 | 窒化アルミニウム質粉末及びその脱脂体の製造方法 |
FR2889087B1 (fr) * | 2005-07-28 | 2008-09-12 | Saint Gobain Ct Recherches | Support de cuisson pour ceramiques et procede d'obtention |
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2011
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Publication number | Publication date |
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JP2012232876A (ja) | 2012-11-29 |
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A621 | Written request for application examination |
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