JP5634366B2 - 成膜装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明の第2実施形態にかかる成膜装置及び半導体装置の製造方法(成膜方法)について図6を参照して説明する。第2実施形態では、流動性改善工程として、蒸気噴射の代わりに音波照射ヘッド26(音波照射部)にて音波照射を行う工程以外については第1実施形態と同様であるため、共通する説明を省略する。
以下、本発明の第3実施形態にかかる成膜装置及び半導体装置の製造方法(成膜方法)について図7を参照して説明する。第3実施形態では、流動性改善工程として、蒸気噴射の代わりに均し装置27(均整部)により液層102の表面の均整化を行う点以外については第1実施形態と同様であるため、共通する説明を省略する。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[1] 溝を有する基板に液体材料を供給して前記溝内に前記液体材料を埋め込み、液層を形成する塗布部と、
前記溶液層を乾燥させて固化する乾燥部と、
前記乾燥中に前記液層の表面に蒸気を照射する蒸気供給部と、を備えることを特徴とする成膜装置。
[2] 溝を有する基板に液体材料を供給して前記溝内に前記液体材料を埋め込み、液層を形成する塗布部と、
前記液層を乾燥させて固化する乾燥部と、
前記乾燥中に前記液層の表面に音波を照射する音波照射部と、を備えることを特徴とする成膜装置。
[3] 溝を有する基板に液体材料を供給して前記溝内に前記液体材料を埋め込み、液層を形成する塗布部と、
前記液層を乾燥させて固化する乾燥部と、
前記乾燥中に前記液層の表面に当接して相対移動することにより前記表面を均整化する均整部と、を備えることを特徴とする成膜装置。
[4] 前記乾燥は、段階的に温度を変化させながら加熱により乾燥することを特徴とする[1]乃至[3]のいずれか記載の成膜装置。
[5] 溝を有する基板に液体材料を塗布して前記溝内に前記液体材料を埋め込み前記基板上に液層を形成し、
前記液層を乾燥させて固化するとともに、前記乾燥中に前記液層の表面に蒸気を照射して前記液層の流動性を制御することを特徴とする半導体装置の製造方法。
13…塗布ヘッド(塗布部)、20…乾燥装置、21…乾燥チャンバ、22…支持部、23…ヒータ(乾燥部)、24…蒸気供給ヘッド(蒸気供給部)、25…ルーフ、26…音波照射ヘッド(音波照射部)、27…均し装置(均整部)、27a…ブレード、30…制御部、101a…トレンチ、101…半導体基板、101c…溝肩部、102…液層、102a…液体材料、102b…表面、103…溶媒蒸気、104…絶縁膜、104a…表面。
Claims (4)
- 溝を有する基板に液体材料を供給して前記溝内に前記液体材料を埋め込み、液層を形成する塗布部と、
前記液層を乾燥させて固化する乾燥部と、
前記基板の上方に設けられ、前記乾燥中に前記液層の表面に音波を照射する音波照射部と、を備えることを特徴とする成膜装置。 - 前記乾燥は、段階的に温度を変化させながら加熱により乾燥することを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
- 前記基板を回転可能に支持するステージをさらに備えることを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
- 溝を有する基板に液体材料を供給して前記溝内に前記液体材料を埋め込み前記基板上に液層を形成し、
前記液層を乾燥させて固化するとともに、前記乾燥中に前記液層の表面に前記基板の上方から音波を照射して前記液層の流動性を制御することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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