JP5631054B2 - 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 41
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 78
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 76
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 45
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 29
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 25
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 9
- 229920002614 Polyether block amide Polymers 0.000 claims description 8
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 claims description 7
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 claims description 7
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 5
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 5
- -1 hexane anhydride Chemical class 0.000 claims description 4
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N methyl pentane Natural products CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 5
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 4
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 4
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 3
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YAXXOCZAXKLLCV-UHFFFAOYSA-N 3-dodecyloxolane-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1CC(=O)OC1=O YAXXOCZAXKLLCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- XZKLXPPYISZJCV-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-phenylimidazole Chemical compound C1=CN=C(C=2C=CC=CC=2)N1CC1=CC=CC=C1 XZKLXPPYISZJCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC(CN(C)C)=C(O)C(CN(C)C)=C1 AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBBUAWSVILPJLL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethylhexoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCC(CC)COCC1CO1 BBBUAWSVILPJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,2-diene Chemical compound CC=C=C QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N butadiene group Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical group O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000010525 oxidative degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
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- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
- B41J2/14072—Electrical connections, e.g. details on electrodes, connecting the chip to the outside...
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Description
複数の液体吐出圧発生素子と、前記複数の液体吐出圧発生素子を外部と電気的に接続するための電極端子とを有するチップと、
前記電極端子と電気的に接続するリード配線を有する電気配線基板と、
前記電極端子と前記リード配線の電気的接続部とを覆うリード封止材と
を有する液体吐出ヘッドにおいて、
前記リード封止材が、1分子当たりの平均官能基数が2より大きい25℃で固体のエポキシ樹脂(a)と、ポリブタジエン骨格を有する酸無水物硬化剤(b)と、硬化促進剤(c)と、無機充填材(d)とを含有し、前記エポキシ樹脂(a)が下記式(a1)で表されるエポキシ樹脂および下記式(a2)で表されるエポキシ樹脂の少なくとも一方であることを特徴とする。
前記電極端子と前記リード配線の電気的接続部に前記リード封止材を塗布し、前記リード配線の周囲に前記リード封止材を回り込ませる工程を有することを特徴とする。
テトラフルオロエチレン製の反応皿に各組成物2gをのせ、オーブンで100℃1時間加熱することにより硬化させ、得られた硬化物の弾性率を測定した。測定は、ナノインデンター(フィッシャーインストルメンツ社製)で行った。
評価基準
◎:弾性率が1GPa以上である。
〇:弾性率が500MPa以上1GPa未満である。
△:弾性率が500MPa未満である。
テトラフルオロエチレン製の反応皿に各組成物2gをのせ、オーブンで100℃1時間加熱することにより硬化させ、得られた硬化物のタック(べとつき)について、指触により評価した。
評価基準
〇:タックなし。
△:タックあり。
以下の方法により、インクジェット記録ヘッド用チップを作製した。まず、シリコン基板の表面上に密着層であるポリエーテルアミド樹脂(日立化成工業製、商品名:HIMAL−1200)を形成した。さらに、インクの流路となる部分を占有する型を設け、その上に下記インク流路壁形成用樹脂組成物(1)または(2)を塗布し、ホットプレートで80℃3分のベークを行って、厚さ80μmの樹脂層を形成した。次いで、MPA1500(商品名、キヤノン社製)を用いてパターニングを行い、吐出口部材と兼用となるインク流路壁部材を形成した。次いで、シリコン基板の裏面側から表面に貫通するインク供給口を形成した。その後、インクの流路となる部分を占有する型を除去し、シリコン基板からインクジェット記録ヘッドとして必要な大きさのチップ状に切断して、インクジェット記録ヘッド用チップを得た。
エポキシ樹脂(ダイセル化学工業社製、商品名:EHPE−3150) 100重量部
光酸発生剤(ADEKA社製、商品名:アデカオプトマーSP−170) 2重量部
<インク流路壁形成用樹脂組成物(2)>
エポキシ樹脂(シェルケミカル社製、商品名:SU−8) 100重量部
光酸発生剤(ADEKA社製、商品名:アデカオプトマーSP−170) 2重量部
このチップ上の密着層とインク流路壁部材との界面部分に実施例1〜10および比較例1〜5の封止樹脂組成物を塗布し、オーブンで100℃1時間の硬化を行った後、その界面部分の観察を行った。
評価基準
○:インク流路壁部材と密着層との界面に封止樹脂組成物の浸入が観られない。
△:インク流路壁部材と密着層との界面に封止樹脂組成物の浸入が観られる。
「157S65」:ジャパンエポキシレジン社製商品名、式(a1)で表されるノボラック型エポキシ樹脂、平均官能基数8
「HP7200H」:大日本インキ化学社製商品名、式(a2)で表されるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、平均官能基数3
「HP7200HH」:大日本インキ化学社製商品名、式(a2)で表されるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、平均官能基数3
「EX411」:ナガセケムテックス社製商品名、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、平均官能基数4、粘度:800mPa・s(25℃)
「YX4000」:ジャパンエポキシレジン社製商品名、ビフェニル型エポキシ樹脂、平均官能基数2
「EX841」:ナガセケムテックス社製商品名、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、平均官能基数2、粘度:110mPa・s(25℃)
「EX121」:ナガセケムテックス社製商品名、式(e1)で表される2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、平均官能基数1、粘度:4mPa・s(25℃)
「EX192」:ナガセケムテックス社製商品名、式(e2)で表されるグリシジルエーテル混合物、平均官能基数1、粘度:8mPa・s(25℃)
「BN1015」:日本曹達社製商品名、式(b1)で表される酸無水物硬化剤
「Ricon131MA17」:サートマー社製商品名、式(b2)で表される酸無水物硬化剤
「HN5500」:日立化成工業社製商品名、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸
「PN23」:味の素ファインテクノ社製商品名
「FB940」:電気化学工業社製商品名
表1の結果から分かるように、実施例1〜10で作製したインクジェット記録ヘッドでは、封止樹脂組成物の弾性率が高く、インク流路壁部材と密着層の界面への浸入が観られなかった。実施例1〜10では、主剤として1分子当たりの平均官能基数が2より大きい常温で固体のエポキシ樹脂(a)を使用し、かつポリブタジエン骨格を有する酸無水物硬化剤(b)を使用したため、上記のような特性が両立できたと考えられる。
2 リード配線
3 電気配線基板カバーフィルム
4 支持体
5 シリコン基板
6 支持体
7 バンプ
8 インク流路壁部材
9 密着層
10 リード封止材
11 ディスペンサー
12 リード封止材の浸入
Claims (7)
- 複数の液体吐出圧発生素子と、前記複数の液体吐出圧発生素子を外部と電気的に接続するための電極端子とを有するチップと、
前記電極端子と電気的に接続するリード配線を有する電気配線基板と、
前記電極端子と前記リード配線の電気的接続部とを覆うリード封止材と
を有する液体吐出ヘッドにおいて、
前記リード封止材が、1分子当たりの平均官能基数が2より大きい25℃で固体のエポキシ樹脂(a)と、ポリブタジエン骨格を有する酸無水物硬化剤(b)と、硬化促進剤(c)と、無機充填材(d)とを含有し、前記エポキシ樹脂(a)が下記式(a1)で表されるエポキシ樹脂および下記式(a2)で表されるエポキシ樹脂の少なくとも一方であることを特徴とする液体吐出ヘッド。
- 前記チップが、前記複数の液体吐出圧発生素子と前記電極端子が形成されたシリコン基板と、液体流路壁部材と、前記シリコン基板と前記液体流路壁部材との間に配置された密着層とを有し、
前記リード封止材が、前記液体流路壁部材と前記密着層の界面の一部に接していることを特徴とする請求項1に記載の液体吐出ヘッド。 - 前記液体流路壁部材がエポキシ樹脂組成物で形成されており、前記密着層がポリエーテルアミド樹脂で形成されていることを特徴とする請求項2に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記リード封止材は、リード封止材が含有するエポキシ樹脂の合計100重量部に対して前記ポリブタジエン骨格を有する酸無水物硬化剤(b)を100〜125重量部含有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド。
- 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法において、
前記電極端子と前記リード配線の電気的接続部に前記リード封止材を塗布し、前記リード配線の周囲に前記リード封止材を回り込ませる工程を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010110103A JP5631054B2 (ja) | 2010-05-12 | 2010-05-12 | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 |
US13/082,695 US8439483B2 (en) | 2010-05-12 | 2011-04-08 | Liquid ejection head and method of producing the same |
CN201110120183.7A CN102259496B (zh) | 2010-05-12 | 2011-05-09 | 液体喷射头及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010110103A JP5631054B2 (ja) | 2010-05-12 | 2010-05-12 | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011235574A JP2011235574A (ja) | 2011-11-24 |
JP5631054B2 true JP5631054B2 (ja) | 2014-11-26 |
Family
ID=44911424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010110103A Expired - Fee Related JP5631054B2 (ja) | 2010-05-12 | 2010-05-12 | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8439483B2 (ja) |
JP (1) | JP5631054B2 (ja) |
CN (1) | CN102259496B (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6375641B2 (ja) | 2013-03-27 | 2018-08-22 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 |
JP6238617B2 (ja) * | 2013-07-24 | 2017-11-29 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドおよび液体吐出装置 |
JP6271898B2 (ja) | 2013-07-29 | 2018-01-31 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド及び記録装置 |
JP6129696B2 (ja) * | 2013-09-11 | 2017-05-17 | デクセリアルズ株式会社 | アンダーフィル材、及びこれを用いた半導体装置の製造方法 |
JP2015055863A (ja) * | 2013-09-13 | 2015-03-23 | 株式会社リコー | 中間転写体、画像形成装置 |
KR20190045355A (ko) * | 2016-10-28 | 2019-05-02 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 | 탄소섬유용 사이징제, 탄소섬유용 사이징제의 수분산액, 및 사이징제 부착 탄소섬유속 |
US10322578B2 (en) | 2017-06-20 | 2019-06-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head and liquid ejection apparatus |
JP7175757B2 (ja) * | 2018-02-23 | 2022-11-21 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
JP7098350B2 (ja) | 2018-02-28 | 2022-07-11 | キヤノン株式会社 | 接着シートを用いたインクジェット記録ヘッド及び製造方法 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6084612A (en) * | 1996-07-31 | 2000-07-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head, liquid ejection head cartridge, printing apparatus, printing system and fabrication process of liquid ejection head |
JPH11348288A (ja) * | 1998-06-03 | 1999-12-21 | Canon Inc | インクジェットヘッド用基板及びインクジェットヘッド |
JP4146933B2 (ja) | 1998-06-03 | 2008-09-10 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッドおよびインクジェットヘッドの製造方法 |
JP2004042453A (ja) * | 2002-07-11 | 2004-02-12 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドおよびインクジェット記録装置 |
US7562428B2 (en) * | 2002-09-24 | 2009-07-21 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Manufacturing an ink jet head |
JP2004138752A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Tamura Kaken Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びプリント配線板 |
JP2004351754A (ja) | 2003-05-29 | 2004-12-16 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッド |
JP2005132102A (ja) | 2003-10-09 | 2005-05-26 | Canon Inc | インクジェットヘッドおよび該ヘッドを備えるインクジェットプリント装置 |
US7931352B2 (en) | 2005-04-04 | 2011-04-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and method for manufacturing the same |
US7425057B2 (en) | 2005-04-04 | 2008-09-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and method for manufacturing the same |
JP2006297827A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッド |
JP4596990B2 (ja) * | 2005-06-09 | 2010-12-15 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘッドおよびその製造方法 |
JP4939184B2 (ja) * | 2005-12-15 | 2012-05-23 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
EP1801142B1 (en) * | 2005-12-16 | 2016-02-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Resin composition,resin cured product, and liquid discharge head |
JP2007168234A (ja) | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド |
CN101341027B (zh) | 2006-04-24 | 2010-11-03 | 佳能株式会社 | 喷墨记录头、喷墨盒以及制造喷墨记录头的方法 |
JP4976739B2 (ja) * | 2006-04-25 | 2012-07-18 | キヤノン株式会社 | 記録ヘッド、およびその製造方法 |
JP2008263049A (ja) * | 2007-04-12 | 2008-10-30 | Seiko Epson Corp | 半導体装置、半導体装置の製造方法および液滴吐出装置 |
JP5173273B2 (ja) * | 2007-06-19 | 2013-04-03 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッド用封止剤、インクジェットヘッドおよびインクジェット記録装置 |
JP5057043B2 (ja) * | 2007-06-25 | 2012-10-24 | ブラザー工業株式会社 | 電子部品が搭載されたフレキシブル基板及びそれを備えた記録装置 |
JP2009137027A (ja) | 2007-12-03 | 2009-06-25 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド |
JP5197175B2 (ja) * | 2008-06-16 | 2013-05-15 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
JP2010000700A (ja) | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Canon Inc | 記録ヘッドの製造方法および記録ヘッド |
-
2010
- 2010-05-12 JP JP2010110103A patent/JP5631054B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-04-08 US US13/082,695 patent/US8439483B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-05-09 CN CN201110120183.7A patent/CN102259496B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110279546A1 (en) | 2011-11-17 |
CN102259496A (zh) | 2011-11-30 |
US8439483B2 (en) | 2013-05-14 |
JP2011235574A (ja) | 2011-11-24 |
CN102259496B (zh) | 2014-03-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130425 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131224 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140220 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20140430 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |