JP5606663B2 - 研磨用シリカ粒子分散液 - Google Patents
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Description
カラム;G4000PWXL(東ソー社製)+G2500PWXL(東ソー社製)
溶離液:0.2Mリン酸バッファー/アセトニトリル=9/1(容量比)
流速:1.0mL/min
温度:40℃
検出:210nm
サンプル:濃度5mg/mL(注入量100μL)
コロイダルシリカの水分散液(デュポン社製、一次粒子の平均粒径16nm、シリカ粒子濃度40重量%、pH9.5)300gに、表1に示す化合物0.03g(0.01重量%)を撹拌しながら添加した後、0.45μmアブソリュートフィルター(アドバンテック東洋製MCS-045-C10S)で精密フィルター濾過して試験用水分散液を調製した。調製直後に、この試験用水分散液1mL中の粗大粒子(0.56μm以上の粗大粒子)の個数を以下に示す測定条件にて測定したところ1万5千個であった。次に、この試験用水分散液をポリエチレン容器(藤森工業製バッグインボックス型キュビテナー15SC)に入れて、更にこの試験用水分散液が入った容器を恒温槽に入れて60℃で72時間保存した後、試験用水分散液中の粗大粒子の個数を同じく以下に示す測定条件にて測定した。そして、保存前後における試験用水分散液中の粗大粒子個数の増加量を下記式から算出した。
粗大粒子個数の増加量(個/mL)=保存後の粗大粒子個数(個/mL)−保存前の粗大粒子個数(個/mL)
測定機器:PSS社製「アキュサイザー780APS」
注入ループ容量:1mL
流速:60mL/分
データコレクションタイム(Data Collection Time):60秒
チャンネル数:128
Claims (6)
- Ni−Pメッキされたアルミニウム合金基板研磨用シリカ粒子分散液と、酸及び/又はその塩とを含む、研磨液キットを構成する、前記研磨用シリカ粒子分散液であって、
前記研磨用シリカ粒子分散液と、前記酸及び/又はその塩とは相互に混合されていない状態で保存されており、
前記研磨用シリカ粒子分散液は、シリカ粒子、化合物(A)及び水を含有し、
前記化合物(A)は、ポリエチレングリコール、又はアクリル酸と2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸の共重合体及び/又はその塩であり、
前記ポリエチレングリコールの重量平均分子量が100〜500であり、前記共重合体及びその塩の重量平均分子量が1000〜4500であり、
前記共重合体及び/又はその塩の各々を構成する全構成単位中に占める2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位の含有率が15〜90モル%である、Ni−Pメッキされたアルミニウム合金基板研磨用シリカ粒子分散液。 - 前記研磨用シリカ粒子分散液中のシリカ粒子が、コロイダルシリカである請求項1に記載のNi−Pメッキされたアルミニウム合金基板研磨用シリカ粒子分散液。
- 前記研磨用シリカ粒子分散液1mL中における粒径0.56μm以上の粗大粒子が、3万個以下である請求項1又は2に記載のNi−Pメッキされたアルミニウム合金基板研磨用シリカ粒子分散液。
- 前記化合物(A)の含有量が、0.005〜1重量%である、請求項1〜3のいずれかの項に記載のNi−Pメッキされたアルミニウム合金基板研磨用シリカ粒子分散液。
- 濃度比[前記シリカ粒子の濃度(重量%)/前記化合物(A)の濃度(重量%)]が、1000〜60000である、請求項1〜4のいずれかの項に記載のNi−Pメッキされたアルミニウム合金基板研磨用シリカ粒子分散液。
- 前記研磨用シリカ粒子分散液のpHが、9以上10.5以下である、請求項1〜5のいずれかの項に記載のNi−Pメッキされたアルミニウム合金基板研磨用シリカ粒子分散液。
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