JP5597268B2 - 透明熱遮蔽材料及びその製造方法 - Google Patents
透明熱遮蔽材料及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5597268B2 JP5597268B2 JP2013019386A JP2013019386A JP5597268B2 JP 5597268 B2 JP5597268 B2 JP 5597268B2 JP 2013019386 A JP2013019386 A JP 2013019386A JP 2013019386 A JP2013019386 A JP 2013019386A JP 5597268 B2 JP5597268 B2 JP 5597268B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent heat
- composite tungsten
- shielding material
- cesium
- heat shielding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 23
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 85
- BWKCCRPHMILRGD-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;tungsten Chemical class [W].ClOCl BWKCCRPHMILRGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 76
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 41
- AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M caesium chloride Chemical compound [Cl-].[Cs+] AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 28
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 25
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 25
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 21
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 21
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 19
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical group [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 17
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 15
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical group [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 32
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 26
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 21
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 19
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 18
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 17
- DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N benzyl n-(2-oxopyrrolidin-3-yl)carbamate Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC(=O)NC1CCNC1=O DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 13
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- CXKGGJDGRUUNKU-UHFFFAOYSA-N oxotungsten;hydrate Chemical compound O.[W]=O CXKGGJDGRUUNKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- YSCVYRUCAPMZFG-UHFFFAOYSA-K trichlorotin Chemical compound Cl[Sn](Cl)Cl YSCVYRUCAPMZFG-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K bismuth chloride Chemical compound Cl[Bi](Cl)Cl JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- DZKDPOPGYFUOGI-UHFFFAOYSA-N tungsten(iv) oxide Chemical compound O=[W]=O DZKDPOPGYFUOGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 Chemical compound C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000511976 Hoya Species 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- FAWGZAFXDJGWBB-UHFFFAOYSA-N antimony(3+) Chemical compound [Sb+3] FAWGZAFXDJGWBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J tetrachlorotungsten Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)Cl YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H tungsten hexafluoride Chemical compound F[W](F)(F)(F)(F)F NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E04—BUILDING
- E04B—GENERAL BUILDING CONSTRUCTIONS; WALLS, e.g. PARTITIONS; ROOFS; FLOORS; CEILINGS; INSULATION OR OTHER PROTECTION OF BUILDINGS
- E04B1/00—Constructions in general; Structures which are not restricted either to walls, e.g. partitions, or floors or ceilings or roofs
- E04B1/62—Insulation or other protection; Elements or use of specified material therefor
- E04B1/74—Heat, sound or noise insulation, absorption, or reflection; Other building methods affording favourable thermal or acoustical conditions, e.g. accumulating of heat within walls
- E04B1/76—Heat, sound or noise insulation, absorption, or reflection; Other building methods affording favourable thermal or acoustical conditions, e.g. accumulating of heat within walls specifically with respect to heat only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G41/00—Compounds of tungsten
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G41/00—Compounds of tungsten
- C01G41/006—Compounds containing, besides tungsten, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G41/00—Compounds of tungsten
- C01G41/02—Oxides; Hydroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/004—Reflecting paints; Signal paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/50—Solid solutions
- C01P2002/52—Solid solutions containing elements as dopants
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/90—Other properties not specified above
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/28—Other inorganic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/445—Organic continuous phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/48—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase having a specific function
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A30/00—Adapting or protecting infrastructure or their operation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B30/00—Energy efficient heating, ventilation or air conditioning [HVAC]
- Y02B30/90—Passive houses; Double facade technology
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/10—Process efficiency
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S501/00—Compositions: ceramic
- Y10S501/90—Optical glass, e.g. silent on refractive index and/or ABBE number
- Y10S501/904—Infrared transmitting or absorbing
Description
この赤外線遮断フィルムは、フィルムを支持するための透明ガラス基材が高温プラズマに曝されるスパッタリングプロセスにより製作される。そのため、赤外線遮断フィルムは、形成中にプラズマの高エネルギーイオンビームの影響を受ける傾向があり、欠陥がもたらされる場合がある。赤外線遮断フィルムの欠陥密度を低下させるためには、熱処理を提供するための熱なまし装置が必要であるが、それにより製造が複雑になり、追加のコストがかかる。
このようにして得られた三酸化タングステン粉末は、赤外線遮断材料に応用可能である。
a)三酸化タングステン粉末、二酸化タングステン粉末、酸化タングステン水和物粉末、六塩化タングステン粉末、及びタングステン酸アンモニウム粉末のうちの1つを選択するステップ、
b)元素M又は元素Mを含有する化合物のいずれかの粉末を選択し、元素Mが、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及び希土類元素からなる群から選択される複数種の元素であるステップ、
c)ステップa)の粉末をステップb)の粉末と特定の割合で混合し、この混合物にアルコール又は水を添加して酸化タングステン水和物を生成し、酸化タングステン水和物を乾燥するステップ、
d)ステップc)の乾燥酸化タングステン水和物に以下の2段階熱処理を実施するステップ:
d−1)第1段階熱処理:水素ガス(H2)が供給される環境等の還元ガス雰囲気中で、100〜850℃の焼結温度にて乾燥酸化タングステン水和物を加熱すること、
d−2)第2段階熱処理:第1段階熱処理を受けた乾燥酸化タングステン水和物を室温に冷却した後、アルゴンガス(Ar)が供給される環境等の不活性ガス雰囲気中で、650〜1200℃の焼結温度にてそれを加熱すること、及び
e)一般式MxWyOzにより表される複合タングステン酸化物粒子を生成するために、2段階熱処理を完了した複合タングステン酸化物を粉砕し、それにより微粉化するステップ。
本製造方法は、1段階熱処理しか必要としないため、生産プロセスが、単純で低コストである。更に、本製造方法の産物、つまり複合金属タングステンオキシ塩化物(以下、略して複合タングステンオキシ塩化物と呼ぶ)は、高透明性であり、断熱が効果的であるため、赤外線遮断材料としての使用に好適である。
X≦1.0、Y≦1.0、Y/X≦1.0、Z≦0.6、及びC≦0.1。
a.六塩化タングステンをアルコールに溶解して、溶液Aを生成するステップ、
b.塩化セシウム(CsCl)、及び金属元素スズ(Sn)又はアンチモン(Sb)又はビスマス(Bi)を含有する塩化物を水に混合して、2つの塩化物が適切な量で(適切な比率で)混合されている溶液Bを生成するステップ、
c.溶液A及びBを共析出させて、沈殿物を生成するステップ、及び
d.ステップcの沈殿物に単回焼結熱処理を実施して、複合タングステンオキシ塩化物粉体を生成するステップ。
水素ガス又は/及びアルゴンガスを熱処理に供給する目的は、複合タングステンオキシ塩化物が部分的に還元されて、近赤外線の吸収性を損なう三酸化タングステン(WO3)になることを防止することである。水素ガス及びアルゴンガスを同時に供給すると、複合タングステンオキシ塩化物の耐候性が増強されることになる。
元素Csに対する金属元素Nの共添加比率(つまり、Y/X)が、1.0以下(つまり、Y/X≦1.0)であれば、金属元素Nの使用量を調整して、元素Csに対する金属元素Nの共添加比率(Y/X)を変更することができる。適切な高温炉熱処理条件下では、その結果生じる複合タングステンオキシ塩化物材料の物理的特性は、共添加比率(Y/X)に応じて変化し、異なる赤外線カット率を示す。
セシウム元素に対する金属元素Nの共添加比率(Y/X)が高いほど、その結果生じる複合タングステンオキシ塩化物材料の赤外線カット率は高くなる(つまり、断熱効果は、より良好になる)。したがって、本発明の方法を使用すると、様々な応用の要件に従って断熱の度合いが調整可能な複合タングステンオキシ塩化物を製造することができる。
1.本方法は、単回焼結熱処理しか必要とせず、製造プロセスが単純になるだけでなく、生産コストも低減される。
2.本方法により生成される複合タングステンオキシ塩化物は、優れた赤外線カット率並びに高い可視光透過率を有する。
3.本方法により生成される複合タングステンオキシ塩化物は、長期品質安定性を有し、工業的使用に良好である。
複合タングステンオキシ塩化物は、赤外線域の、具体的には800〜2000nmの波長範囲の、より具体的には800〜1000nmの波長範囲の放射線を効果的に吸収し、それにより遮断することができるような物理的特性を有する。複合タングステンオキシ塩化物の物理的特性は、高い可視光透過率にも寄与する。したがって、複合タングステンオキシ塩化物は、赤外線遮断用の高透明性で高度に効果的な熱遮断材料としての使用に好適である。
X≦1.0、Y≦1.0、Y/X≦1.0、
Z≦0.6、及びC≦0.1。
例えば、本発明の複合タングステンオキシ塩化物は、ハロゲン元素F、Br、I、又はAtを含有する複合タングステンオキシハロゲン化物よりも良好な断熱性を提供する。したがって、本発明の複合タングステンオキシ塩化物は、建物及び自動車のガラスパネルに付着させる高透明熱遮蔽フィルムの製作に好適である。
a.六塩化タングステンをアルコールに溶解することにより溶液Aを調製するステップ、
b.塩化セシウム(CsCl)及び別の金属元素含有塩化物を適切な量で(適切な比率で)水に混合することにより溶液Bを調製し、後者の塩化物中の金属要素が、スズ(Sn)、アンチモン(Sb)、及びビスマス(Bi)からなる群から選択される1つ又は複数であるステップ、
c.溶液A及びBを共析出させて、少なくともタングステンオキシテトラクロリド(WOCl4)及びある塩化物を含有する沈殿物を生成し、沈殿物中の塩化物が、溶液Bの成分に依存し、塩化セシウムの沈殿物に加えて、塩化スズ、塩化アンチモン、及び塩化ビスマスのうちの1つ又は複数を含むステップ、
d.ステップcの沈殿物に単回焼結熱処理を実施して焼結粉末を生成し、ステップcの沈殿物が、熱処理前に溶媒ろ過ステップ及び乾燥ステップにかけられていてもよいステップ。
水素ガス(H2)は還元ガスとしての役目を果たし、高温炉の焼結温度は、室温から450〜800℃に上昇し、熱処理を1〜2時間続ける。高温炉が冷めると、化学式CsXNYWO3-ZClCを有する複合タングステンオキシ塩化物焼結粉末(以下、複合タングステンオキシ塩化物粉末と呼ぶ)が生成される。
上記の熱処理を受けた複合タングステンオキシ塩化物粉末は、安定した化学的組成物を有し、ばらつきが低く、不適当な元素割合の複合タングステンオキシ塩化物を生成せず、良好な近赤外線吸光率を特徴とする。
e.前のステップで生成された複合タングステンオキシ塩化物粉末を粉砕し、それにより微粉化するステップ。
f.結合剤及び特別に配合した作用剤を、適切な量のステップeの複合タングステンオキシ塩化物微細粉末に添加するステップ。混合物を撹拌及び粉砕して、スラリー(コーティング液とも呼ばれる)を生成する。作用剤を添加する目的は、複合タングステンオキシ塩化物微細粉末の均一な分散を促進することである。使用される作用剤は、カップリング剤、界面活性剤、分散剤、ポリマー改質剤、及び紫外線吸収剤のうちの1つ又はそれらの組み合わせであり得る。
g.透明熱遮蔽フィルムを形成するために、湿式コーティングプロセスにより、ポリエチレンテレフタラート(PET)フィルム等の透明基板に、ステップfのコーティング液を塗布するステップ。
透明基板は、ガラス基板、又は(PET)、ポリエチレンナフタラート(PEN)、ポリカルボナート(PC)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)、アクリル樹脂、ポリアリーラート(PAr)、又はシクロ−オレフィンポリマー(COP)製のポリマーフィルムであり得る。コーティング液を120℃で2分間乾燥した後、透明熱遮蔽フィルムが形成される。
1.可視光透過率(VLT%)試験:
透明熱遮断フィルムの透過率及びヘイズは、日本の(有)東京電色社製のTC−H IIIヘイズメーターで試験し、試験は、JIS K7705試験規格に準拠して実施される。可視光透過率が高いほど、透明熱遮蔽フィルムはより透明になる。
2.赤外線カット率(IRカット%)試験:
ポリエステルフィルムの赤外線カット率は、日本のHOYA株式会社製のLT−3000赤外線カット率試験装置で試験し、試験は、JIS R3106試験規格に準拠して実施される。赤外線カット率が高いほど、ポリエステルフィルムは、断熱がより効果的である。
3.透明性及び断熱性の総合指標は、上記の2つの試験(つまり、VLT%+IRカット%)の試験結果を合計することにより得られる。総合指標がより高いと、透明性及び断熱性の全体的性能がより良好であることを意味する。
4.複合タングステンオキシ塩化物の耐用期間試験:
1000時間の耐用期間試験では、複数の透明熱遮蔽フィルムを、モデル番号がN.120.SOLAREYE 313NMであるQ−PANNEL社製の促進耐候試験装置で照射し、100時間毎にフィルムを取り出して、可視光透過率(VLT%)試験及び赤外線カット率(IRカット%)試験にかける。
六塩化タングステンをアルコールと混合して、pH値が約0の青色溶液Aを生成する。塩化セシウム(CsCl)及び三塩化アンチモン(SbCl3)を、1モル対0.1モルの塩化セシウム(CsCl)対三塩化アンチモン(SbCl3)の比率で水と混合し、このようにして透明溶液Bを生成する。2つの溶液A及びBを共析出させて、沈殿物を生成する。関与する化学反応式は、以下の通りである:
2WCl6+C2H5OH+3H2O→WOCl4↓+WO2Cl2↓+6HCl+C2H5OH;
WOCl4↓+WO2Cl2↓+C2H5OH+CsCl+SbCl3+3H2O→
2WO3↓+Cs++Sb+3+Cl-+6HCl+C2H5OH。
2WOCl4+2WO2Cl2+2Cs++Sb+3+2Cl-+6H2O→
2CsXSbYWO3Cl+10HCl+H2(X≦1、Y≦1)。
この実施形態は、塩化セシウム及び三塩化アンチモン(SbCl3)を水と混合して透明溶液Bを生成する際、塩化セシウム対三塩化アンチモン(SbCl3)の比率が1モル対0.5モルであることを除いて、実施形態1と同様である。
この実施形態は、透明溶液Bの調製に、三塩化アンチモン(SbCl3)の代わりに三塩化スズ(SnCl3)を使用することを除いて、実施形態2と同様である。
この実施形態は、透明溶液Bの調製に、三塩化アンチモン(SbCl3)の代わりに三塩化ビスマス(BiCl3)を使用することを除いて、実施形態2と同様である。
この実施形態は、塩化セシウム及び三塩化アンチモン(SbCl3)を水と混合して透明溶液Bを生成する際、塩化セシウム対三塩化アンチモン(SbCl3)の比率が1モル対0.7モルであることを除いて、実施形態1と同様である。
この実施形態は、沈殿物中の溶媒をろ過により除去し、その結果塩化タングステン、塩化セシウム、及び三塩化アンチモンを含有する泥様沈殿物を得ること;及び高温炉の焼結温度を室温から785〜815℃(平均温度は800℃)に上昇させることを除いて、実施形態5と同様である。
この実施形態は、高温炉の昇温率を毎分10℃に変更することを除いて、実施形態5と同様である。
この実施形態は、塩化セシウム及び三塩化スズ(SnCl3)を水と混合して透明溶液Bを生成する際、塩化セシウム対三塩化スズ(SnCl3)の比率が1モル対0.7モルであることを除いて、実施形態3と同様である。
この実施形態は、塩化セシウム及び三塩化アンチモン(SbCl3)を水と混合して透明溶液Bを生成する際、塩化セシウム対三塩化アンチモン(SbCl3)の比率が1モル対1.0モルであることを除いて、実施形態1と同様である。
この比較例は、高温炉の昇温率を毎分15℃に変更することを除いて、実施形態5と同様である。
この比較例は、塩化セシウムのみを水と混合することにより透明溶液Bを調製することを除いて、実施形態1と同様である。
この比較例は、塩化セシウムのみを水と混合することにより透明溶液Bを調製すること;及び高温炉の焼結温度を、室温から785〜815℃(平均温度は800℃)に上昇させることを除いて、実施形態1と同様である。
この比較例は、熱処理を2段階で実施することを除いて、実施形態5と同様である。第1段階高温炉熱処理では、水素ガス(H2)を特定の流速で供給し、高温炉の温度を、毎分2℃の昇温率で室温から485〜515℃(平均温度は500℃)に上昇させる。第1段階高温炉熱処理を1時間続ける。高温炉が室温に冷えたら、第2段階高温炉熱処理を開始する。この処理では、アルゴンガスのみを特定の流速で供給し、高温炉の温度を、毎分2℃の速さで室温から785〜815℃(平均温度は800℃)に上昇させる。第2段階高温炉熱処理を1時間続ける。
固体三酸化タングステン(WO3)及び固体炭酸セシウム(Cs2CO3)を、一緒に混合して均一にする。その後、粉末混合物を、アルゴンガス及び水素ガスが特定の流速で供給される高温炉に入れる。高温炉の温度を、2℃/分で室温から485〜515℃(平均温度は500℃)に上昇させ、熱処理を1時間続ける。
この比較例は、透明溶液Bの調製に、塩化セシウムの代わりに塩化ナトリウム(NaCl)を使用することを除いて、実施形態5と同様である。
この比較例は、塩化セシウム及び三塩化アンチモン(SbCl3)を水と混合して透明溶液Bを生成する際、塩化セシウム対三塩化アンチモン(SbCl3)の比率が1モル対1.1モルであることを除いて、実施形態1と同様である。
1.実施形態3で生成した透明熱遮蔽フィルムは、1000時間の照射を含む耐用期間試験を受け、試験結果は、図1にプロットされている。図1に明確に示されているように、赤外線カット率及び透過率の変動は両方とも10%以内に留まっている。したがって、実施形態3の透明熱遮蔽フィルムは、長期品質安定性を有し、工業的使用に良好である。
注:1.Aは、六塩化タングステンをアルコールに溶解することにより得られる溶液を表わす(WCl6+C2H5OH)。
2.Bは、水を添加すると溶液を生成する金属塩化物を表わす。
3.VLT%+IRカット%は、透明性及び断熱性の総合指標を表わす。
Claims (5)
- 800〜2000nmの波長範囲の赤外線を遮断することが可能な透明熱遮蔽材料を製作するための方法であって、
a.六塩化タングステンをアルコールに溶解して、溶液Aを生成するステップ、
b.塩化セシウム(CsCl)、及び金属元素を含有する塩化物を水に溶解して溶液Bを生成し、前記金属元素が、スズ(Sn)又はアンチモン(Sb)又はビスマス(Bi)であり、前記塩化セシウム(CsCl)、及び前記金属元素を含有する前記塩化物が、適切な量で混合されるステップ、
c.前記溶液A及び前記溶液Bを共析出させて沈殿物を生成するステップ、及び
d.化学式CsXNYWO3-ZClCの複合タングステンオキシ塩化物粉末を生成するために、毎分2〜10℃の昇温率で室温から450〜800℃に上昇される焼結温度にてステップcの前記沈殿物に単回焼結熱処理を実施し、前記単回焼結熱処理が、1〜2時間継続するステップを含み、
式中Csはセシウムであり、Nはスズ(Sn)又はアンチモン(Sb)又はビスマス(Bi)であり、Wはタングステンであり、Oは酸素であり、X、Y、Z、及びCは、条件:
X≦1.0、Y≦1.0、Y/X≦1.0、Z≦0.6、及びC≦0.1を満たす正の数であることを特徴とする、
800〜2000nmの波長範囲の赤外線を遮断することが可能な透明熱遮蔽材料を製作するための方法。 - 前記ステップdにおいて、前記焼結熱処理が、水素ガス及びアルゴンガスが供給される環境中で行なわれることを特徴とする、請求項1に記載の800〜2000nmの波長範囲の赤外線を遮断することが可能な透明熱遮蔽材料を製作するための方法。
- 様々な赤外線遮断特性を有する複合タングステンオキシ塩化物粉末を生成するために、Y/X≦1.0である限り、前記比率Y/Xが前記ステップbにおいて調整され得ることを特徴とする、請求項1に記載の800〜2000nmの波長範囲の赤外線を遮断することが可能な透明熱遮蔽材料を製作するための方法。
- 請求項1に記載の方法により製作される透明熱遮蔽材料であって、前記透明熱遮蔽材料が、800〜2000nmの波長範囲の赤外線を遮断することができ、化学式CsXNYWO3-ZClCを有しており、式中Csがセシウムであり、Nがスズ(Sn)又はアンチモン(Sb)又はビスマス(Bi)であり、Wがタングステンであり、Oが酸素であり、X、Y、Z、及びCが、条件:
X≦1.0、Y≦1.0、Y/X≦1.0、Z≦0.6、及びC≦0.1を満たす正の数であることを特徴とする、透明熱遮蔽材料。 - 前記透明熱遮蔽材料が、800〜1000nmの波長範囲の赤外線を遮断することができることを特徴とする、請求項4に記載の透明熱遮蔽材料。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW101104021 | 2012-02-08 | ||
TW101104021A TWI422552B (zh) | 2012-02-08 | 2012-02-08 | 一種透明隔熱材料及其製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013159553A JP2013159553A (ja) | 2013-08-19 |
JP5597268B2 true JP5597268B2 (ja) | 2014-10-01 |
Family
ID=48902094
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013019386A Active JP5597268B2 (ja) | 2012-02-08 | 2013-02-04 | 透明熱遮蔽材料及びその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8889026B2 (ja) |
JP (1) | JP5597268B2 (ja) |
TW (1) | TWI422552B (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101564324B1 (ko) | 2013-10-24 | 2015-10-29 | (주)필로스톤 | 열 차단용 코팅액, 이의 제조 방법, 및 이를 포함하는 열 차단 필름 |
KR101790553B1 (ko) * | 2014-05-30 | 2017-10-26 | (주)석경에이티 | 중공실리카 입자의 제조방법, 중공실리카 입자 및 그를 포함하는 조성물 및 단열 시트 |
JP6613675B2 (ja) * | 2014-07-18 | 2019-12-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 熱線遮蔽フィルムおよび熱線遮蔽ガラス |
JP6606898B2 (ja) * | 2014-07-18 | 2019-11-20 | 住友金属鉱山株式会社 | 熱線遮蔽分散体および熱線遮蔽合わせ透明基材 |
WO2016010156A1 (ja) * | 2014-07-18 | 2016-01-21 | 住友金属鉱山株式会社 | 熱線遮蔽微粒子、熱線遮蔽微粒子分散液、熱線遮蔽フィルム、熱線遮蔽ガラス、熱線遮蔽分散体および熱線遮蔽合わせ透明基材 |
JP6613674B2 (ja) * | 2014-07-18 | 2019-12-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 熱線遮蔽微粒子および熱線遮蔽微粒子分散液 |
EP3194477A4 (en) * | 2014-09-15 | 2018-05-30 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Optical film including an infrared absorption layer |
KR101588630B1 (ko) * | 2014-10-17 | 2016-01-27 | (주)대한솔루션 | 열 차단 기능을 가진 자동차용 헤드라이닝 및 그 제조방법 |
US10531555B1 (en) * | 2016-03-22 | 2020-01-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Tungsten oxide thermal shield |
TWI589627B (zh) * | 2016-07-04 | 2017-07-01 | Nanya Plastics Corp | 一種低可見光穿透兼具高紅外線阻隔的透明聚酯膜及其製法 |
JP6657038B2 (ja) * | 2016-07-05 | 2020-03-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 複合タングステン酸化物の置換元素の選択方法、複合タングステン酸化物の製造方法 |
JP6668185B2 (ja) * | 2016-07-05 | 2020-03-18 | 住友金属鉱山株式会社 | 複合タングステン酸化物の置換元素の選択方法、複合タングステン酸化物の製造方法 |
TWI604029B (zh) * | 2016-08-25 | 2017-11-01 | Nanya Plastics Corp | Transparent insulation PVC tape and its preparation method |
GB2562116B (en) * | 2017-05-05 | 2022-04-27 | William Blythe Ltd | Metal oxide, composition comprising the same and method of making metal oxide |
GB2562115B (en) | 2017-05-05 | 2022-02-16 | William Blythe Ltd | Tungsten oxide |
JP7302811B2 (ja) * | 2019-04-05 | 2023-07-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 光吸収粒子、光吸収粒子分散液、および光吸収粒子の製造方法 |
TWI727675B (zh) * | 2020-02-26 | 2021-05-11 | 南亞塑膠工業股份有限公司 | 紅外線遮蔽膜及其製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4110762B2 (ja) * | 2001-10-17 | 2008-07-02 | 住友金属鉱山株式会社 | エレクトロクロミック特性を有する酸化タングステン微粒子の製造方法 |
AU2004282041B2 (en) * | 2003-10-20 | 2010-09-30 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Infrared shielding material microparticle dispersion, infrared shield, process for producing infrared shielding material microparticle, and infrared shielding material microparticle |
JP4906283B2 (ja) * | 2005-07-20 | 2012-03-28 | リンテック株式会社 | 赤外線吸収フィルム |
JP5245283B2 (ja) * | 2007-04-26 | 2013-07-24 | 住友金属鉱山株式会社 | 熱線遮蔽塩化ビニルフィルム製造用組成物およびその製造方法、並びに、熱線遮蔽塩化ビニルフィルム |
JP2011100710A (ja) * | 2009-10-06 | 2011-05-19 | Tohoku Univ | 導電性微粒子の製造方法および導電性微粒子 |
TWI402218B (zh) * | 2009-12-16 | 2013-07-21 | Ind Tech Res Inst | 透明隔熱材料、其製造方法以及透明隔熱結構 |
JP5305050B2 (ja) * | 2011-04-14 | 2013-10-02 | 住友金属鉱山株式会社 | 熱線遮蔽微粒子含有組成物の製造方法および熱線遮蔽微粒子含有組成物、当該熱線遮蔽微粒子含有組成物を用いた熱線遮蔽膜および当該熱線遮蔽膜を用いた熱線遮蔽合わせ透明基材 |
TWI535782B (zh) * | 2012-12-26 | 2016-06-01 | 奇美實業股份有限公司 | 聚碳酸酯組成物及隔熱材 |
TWI531602B (zh) * | 2012-12-28 | 2016-05-01 | 財團法人工業技術研究院 | 透明隔熱組成物 |
-
2012
- 2012-02-08 TW TW101104021A patent/TWI422552B/zh active
-
2013
- 2013-01-22 US US13/746,534 patent/US8889026B2/en active Active
- 2013-02-04 JP JP2013019386A patent/JP5597268B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8889026B2 (en) | 2014-11-18 |
TW201332936A (zh) | 2013-08-16 |
JP2013159553A (ja) | 2013-08-19 |
US20130200292A1 (en) | 2013-08-08 |
TWI422552B (zh) | 2014-01-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5597268B2 (ja) | 透明熱遮蔽材料及びその製造方法 | |
JP5849766B2 (ja) | 日射遮蔽体形成用複合タングステン酸化物微粒子、日射遮蔽体形成用複合タングステン酸化物微粒子分散液、および日射遮蔽体、の製造方法 | |
TWI640479B (zh) | 複合氧化鎢奈米粒子之製造方法 | |
US11453755B2 (en) | Environment-friendly heat shielding film using non-radioactive stable isotope and manufacturing method thereof | |
JP5585812B2 (ja) | 近赤外線遮蔽材料微粒子分散体、近赤外線遮蔽体、および近赤外線遮蔽材料微粒子の製造方法、並びに近赤外線遮蔽材料微粒子 | |
Moon et al. | Near infrared shielding properties of quaternary tungsten bronze nanoparticle Na0. 11Cs0. 22WO3 | |
JP6187540B2 (ja) | 日射遮蔽体形成用複合タングステン酸化物微粒子、その分散液、並びに、日射遮蔽体 | |
JP2011063739A (ja) | 近赤外線遮蔽材料微粒子とその製造方法および近赤外線遮蔽材料微粒子分散体と近赤外線遮蔽体 | |
CN102643563B (zh) | 一种透明隔热材料及其制法 | |
KR101602486B1 (ko) | 차광 구조물의 제조방법 | |
JP2011063493A (ja) | 近赤外線遮蔽材料微粒子分散体および近赤外線遮蔽体および近赤外線遮蔽材料分散体の製造方法 | |
KR20160096561A (ko) | 파장변환유리를 구비하는 태양전지 및 이의 제조 방법 | |
JP2008214169A (ja) | 真空蒸着用ITiO焼結体およびその製造方法 | |
JP2011063484A (ja) | 近赤外線遮蔽材料微粒子とその製造方法および近赤外線遮蔽材料微粒子分散体と近赤外線遮蔽体 | |
Tanaka et al. | Design and Fabrication of Luminescent Antireflective Sol–Gel Coatings with a Bi‐Layer Structure | |
JP2017124961A (ja) | モリブデン系低次酸化物粒子及びこれを用いた分散体並びにモリブデン系低次酸化物粒子の製造方法 | |
JP2005001918A (ja) | ホウ化物微粒子の製造方法、ホウ化物微粒子および日射遮蔽体形成用分散液 | |
JP7318483B2 (ja) | 近赤外線遮蔽材料の製造方法 | |
TWI680946B (zh) | 紅外線遮蔽體及其紅外線吸收材料 | |
JP6164132B2 (ja) | 熱線遮蔽用チタン酸リチウム粒子 | |
JP2005076008A (ja) | 紫外線・赤外線遮断物質、これを用いた紫外線・赤外線遮断材料、及び紫外線・赤外線の遮蔽方法 | |
JP6164133B2 (ja) | 熱線遮蔽用塗料及び熱線遮蔽膜の製造方法 | |
JP6645732B2 (ja) | 近赤外線吸収アルミナ材料、近赤外線吸収アルミナ磁器および近赤外線吸収アルミナ磁器の製造方法 | |
JP2021134089A (ja) | 被覆粒子の製造方法 | |
CN114853068A (zh) | 一种钛掺杂铯钨青铜粉体及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140117 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140320 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140729 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140808 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5597268 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |