JP5573597B2 - 多層膜の製造方法 - Google Patents
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Description
3…形成装置
10…基体
11…第1の薄膜
12…勾配層
13…第2の薄膜
14…勾配層
15…第3の薄膜
31a…第1のカソード
32a…第2のカソード
31b…第1のターゲット
32b…第2のターゲット
33…第1のマグネット
34…第2のマグネット
35…第1の遮蔽部材
36…第2の遮蔽部材
35a、36a…板状部
35b、36b…起立部
40…交流電源
50…キャリア
R1…第1の飛散領域
R2…第2の飛散領域
R3…重畳領域
C1,C2…中心軸
M1,M2…マグネットの中心軸
Claims (2)
- 第1の薄膜と、前記第1の薄膜の上に形成されている第2の薄膜と、前記第1の薄膜と
前記第2の薄膜との間に形成されており、前記第1の薄膜側から前記第2の薄膜側に向か
って前記第1の薄膜の組成から前記第2の薄膜の組成へと徐変していく勾配層とを含む多
層膜を基体の上に形成する方法であって、
前記第1の薄膜の組成に対応した組成を有し、内部に第1のカソードが配置された円筒
型の第1のターゲットと、前記第2の薄膜の組成に対応した組成を有し、内部に第2のカ
ソードが配置された円筒型の第2のターゲットとを、前記第1のターゲットからのスパッ
タ粒子の飛散領域である第1の飛散領域と、前記第2のターゲットからのスパッタ粒子の
飛散領域である第2の飛散領域とが重なるように配列し、前記第1のカソードと前記第2
のカソードとの間に交流電圧を印加した状態で、前記基体を、前記第1及び第2のターゲ
ットの配列方向において、前記第1のターゲット側から前記第2のターゲット側に向けて
移動させ、前記第1及び第2の飛散領域を通過させることによって前記基体の上に、前記
第1及び第2の薄膜と前記勾配層とを形成し、
前記第1及び第2のターゲットのそれぞれの内側には、第1または第2のマグネットが
配置されており、
前記第1のターゲットの前記第1のマグネットの中心軸が前記第1のターゲットの中心
軸よりも前記第2のターゲットとは反対側に位置するように前記第1のマグネットを配置
し、前記第2のターゲットの前記第2のマグネットの中心軸が前記第2のターゲットの中
心軸よりも前記第1のターゲットとは反対側に位置するように前記第2のマグネットを配
置した状態で前記第1及び第2の薄膜と前記勾配層とを形成する、多層膜の形成方法。 - 前記第1のターゲットの前記第2のターゲットとは反対側に設けられており、前記第1
のターゲットから飛散するスパッタ粒子の一部を遮蔽する第1の遮蔽部材と、
前記第2のターゲットの前記第1のターゲットとは反対側に設けられており、前記第2
のターゲットから飛散するスパッタ粒子の一部を遮蔽する第2の遮蔽部材とを配置した状
態で前記第1及び第2の薄膜と前記勾配層とを形成する、請求項1に記載の多層膜の形成
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010242577A JP5573597B2 (ja) | 2010-10-28 | 2010-10-28 | 多層膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2012092410A JP2012092410A (ja) | 2012-05-17 |
JP5573597B2 true JP5573597B2 (ja) | 2014-08-20 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2010242577A Expired - Fee Related JP5573597B2 (ja) | 2010-10-28 | 2010-10-28 | 多層膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5573597B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015176833A (ja) * | 2014-03-18 | 2015-10-05 | 日本電気硝子株式会社 | 透明導電性酸化物膜付基板 |
JP6657535B2 (ja) * | 2017-12-26 | 2020-03-04 | キヤノントッキ株式会社 | スパッタ成膜装置およびスパッタ成膜方法 |
JP6673590B2 (ja) * | 2017-12-27 | 2020-03-25 | キヤノントッキ株式会社 | スパッタ成膜装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001003166A (ja) * | 1999-04-23 | 2001-01-09 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 基体表面に被膜を被覆する方法およびその方法による基体 |
JP2001240960A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-09-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光触媒膜が被覆された物品、その物品の製造方法及びその膜を被覆するために用いるスパッタリングターゲット |
JP2002266071A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-09-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 |
JP2005133110A (ja) * | 2003-10-28 | 2005-05-26 | Konica Minolta Opto Inc | スパッタリング装置 |
EP1856712A2 (en) * | 2005-01-13 | 2007-11-21 | Cardinal CG Company | Reduced maintenance sputtering chambers |
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2010
- 2010-10-28 JP JP2010242577A patent/JP5573597B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012092410A (ja) | 2012-05-17 |
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