JP5568786B2 - 半導体パッケージの製造方法及び半導体パッケージ - Google Patents
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Description
また、MEMS素子を封止して搭載するために、MEMS素子を搭載した基板に接着剤を用いてリッドを接着してMEMS素子を封止する、といった方法も行われている。
すなわち、本発明は、半導体パッケージの製造方法として、(a)シリコンウエハに、厚さ方向に貫通するビアと、MEMS素子搭載面とは反対面側に前記ビアと電気的に接続する配線パターンを形成する工程と、(b)前記シリコンウエハの前記MEMS素子搭載面に、前記ビアとMEMS素子とを電気的に接続してMEMS素子ウエハを接合する工程と、(c)前記シリコンウエハに接合されたMEMS素子ウエハのMEMS素子を個別に分離する工程と、(d)前記シリコンウエハのMEMS素子搭載面に、前記個別に分離されたMEMS素子が搭載された領域ごとに、MEMS素子を収容する凹部を備えたリッドを接合する工程と、(e)前記シリコンウエハとリッドとの接合体を個片化して半導体パッケージを形成する工程とを備え、前記(c)工程では、前記半導体パッケージの外形形状よりも個別に分離される前記MEMS素子が小さくなるように、前記MEMS素子ウエハのみが切断され、前記(d)工程では、前記リッドと、前記シリコンウエハとが直接接合され、前記(e)工程では、前記リッドと前記シリコンウエハをダイシングすることによって、個片化された前記半導体パッケージが形成されることを特徴とする。
以下、本発明に係る半導体パッケージの製造方法について説明する。
図1は、半導体パッケージの第1の基板部を形成する工程を示す。第1の基板部はMEMS素子を支持するものであり、MEMS素子と実装基板とを電気的に接続する配線パターンを備える。
本実施形態においては、シリコンウエハを基材に用いて第1の基板部を形成する。図1(a)は、銅板等の導電性を有する支持板12上に、ビア孔11を貫設したシリコンウエハ10を支持した状態を示す。ビア孔11はレーザ加工、ドライエッチング等によって形成することができる。
図示例は、一つの半導体パッケージとなる領域(破線で囲んだ領域)ごとに4つのビア孔11を形成した例である。ビア孔11はMEMS素子に設けられている接続電極の配置に合わせて形成される。
ビア13を形成した後、支持板12をエッチングして除去する。シリコンウエハ10自体が所要の強度を備えている場合は、銅箔等の薄厚の導電材を支持板12とすることができる。
なお、配線パターンは上述したセミアディティブ法に限らず、アディティブ法、サブトラクト法等の適宜方法によって形成できる。
ビア13と配線パターン16は、MEMS素子と実装基板とを電気的に接続する配線として作用するものであり、ビア13と配線パターン16とを合わせて広義の配線パターンとしてとらえられる。
図2(a)は、シリコンウエハ10のMEMS素子の搭載面にMEMS素子ウエハ18を接合した状態を示す(MEMS素子ウエハの接合工程)。MEMS素子ウエハ18は、シリコンウエハ10における半導体パッケージの形成領域にそれぞれ対応する配置にMEMS素子20が形成されたウエハ体として形成されている。MEMS素子はシリコンウエハに加工を施して所定のパターンに形成される。
シリコンウエハ10にMEMS素子ウエハ18を接合する際には、シリコンウエハ10のビア13とMEMS素子ウエハ18に形成されている各々のMEMS素子20の接続電極21とを位置合わせし、導電材19を介してビア13と接続電極21とを接合する。導電材19としては、はんだ、導電性接着剤等が使用できる。
リッド24には、MEMS素子20の作用に応じてシリコンウエハ、ガラス板等の適宜素材が用いられる。リッド24をシリコンウエハによって形成した場合は、直接接合、共晶接合、金属接合材、樹脂系接着剤による接合方法等によってシリコンウエハ10に接合することができる。リッド24をガラス板によって形成した場合は、陽極接合によって接合することができる。
図3(b)に、半導体パッケージ30の第1の基板部10a、第2の基板部24a、MEMS素子20の平面配置関係を示す。凹部25の周縁位置を破線Cによって示す。
第1の実施の形態の半導体パッケージの製造方法においては、シリコンウエハ10にMEMS素子ウエハ18を接合した後、MEMS素子ウエハ18をダイシングして(MEMS素子ウエハのダイシング工程)個片のMEMS素子20を形成した。本実施形態は、MEMS素子ウエハ18を個片化せずにウエハ体のまま用いて半導体パッケージを形成する方法である。
導電材19aと金属接合材19bにははんだ等の接合性を有する金属材を用いる。導電材19aと金属接合材19bは同一の金属材であってもよいし、異種の金属材であってもよい。シリコンウエハ10の金属接合材19bを形成する領域については、めっきあるいはスパッタリングによって枠状に下地層を設け、下地層上に金属接合材19bを形成するのがよい。
図5(b)は、シリコンウエハ10にMEMS素子ウエハ18を接合した状態の平面図である。MEMS素子ウエハ18に形成したMEMS素子20の接続電極21が導電材19aを介してビア13に接続され、金属接合材19bを介してMEMS素子ウエハ18がシリコンウエハ10に接合されている。
MEMS素子ウエハ18とリッド24とは、樹脂系の接着剤19cによって接合する。接着剤19cも、金属接合材19bの平面形状と同一形状となるように、MEMS素子20を囲む矩形の枠形の平面形状に設ける。
図4(c)では、MEMS素子20が収容された空間がMEMS素子ウエハ18によって上下に仕切られたように見えるが、MEMS素子ウエハ18には、厚さ方向に抜けている部分が多くあり、MEMS素子20を収容するキャビティは全体として連通し、MEMS素子20が収容されているキャビティが全体として真空に封止される。
溝35は、シリコンウエハ10とMEMS素子ウエハ18を厚さ方向に貫通し、溝の底面(内底面)がリッド24の厚さ方向の中途に位置するように設ける。回転刃加工あるいはルータ加工により、単体の半導体パッケージとなる境界位置に合わせて連通するように溝35を設ける。半導体パッケージは縦横に整列して配置されているから、接合体には縦横の井桁状に溝35が形成される。
溝35を形成する際には、金属接合材19bと接着剤19cの外縁の位置と溝35の内壁面の位置とが交差するように、すなわち金属接合材19bと接着剤19cの端縁が溝35の内壁面に露出するように形成する。
金属めっき36は、一般的なめっき方法によればよい。たとえば、接合体の下面にスパッタリング等によりめっきシード層を形成し、溝35部分を露出させ、配線パターン16が形成された領域を被覆し、めっきシード層をめっき給電層とする電解銅めっきを行うことによって形成することができる。
図6(b)は、接着剤19cと金属接合材19bとが、半導体パッケージ301の周縁部を一周するように設けられていることを示す。
(第3の実施の形態)
第2の実施の形態においては、半導体パッケージ内にMEMS素子20を真空封止する方法として、真空環境下においてリッド24をMEMS素子ウエハ18に接合する方法とした。第3の実施の形態は、MEMS素子20を真空封止して搭載する他の方法を示す。
本実施形態において特徴とする構成は、凹部25に連通する通気孔241aを設けたリッド241を使用することにある。通気孔241aは、MEMS素子20が収容されている領域を真空にするために設けた連通孔である。通気孔241aは、凹部25に連通し、かつリッド241の外面に開口する位置であれば形成位置はとくに限定されない。
図7(c)は、シリコンウエハ10、MEMS素子ウエハ18、リッド241の接合体に溝35を形成した状態を示す。図7(d)は、溝35の内壁面と内底面を金属めっき36によって被覆した状態である。これらの工程は、前述した図4(d)、(e)における工程と同様である。
図7(f)は、MEMS素子20が真空封止されている接合体を個片に切断して(切断位置D)半導体パッケージを形成する工程である(切断工程)。
本実施形態の半導体パッケージの製造方法は、シリコンウエハ10にMEMS素子ウエハ18を接合した後、リッド24をMEMS素子ウエハ18に接合する際に、MEMS素子ウエハ18に、リッド24を接合するための下地層となる金属層を形成するための工程を特徴とする。
図9(a)は、シリコンウエハ10にビア13と配線パターン16を形成した後、シリコンウエハ10のMEMS素子搭載面に、保護カバーを取り付けるためのポスト40を形成した状態を示す。ポスト40は、保護カバーをMEMS素子20から浮かして支持するために、シリコンウエハ10の素子搭載面から所定の高さに突出するように形成する。
図9(b)は、ポスト40が形成されたシリコンウエハ10の素子搭載面に、導電材19aと金属接合材19bを所定配置に被着形成した状態を示す。
図11(a)は、導電材19aと金属接合材19bを形成した状態を平面方向から見た状態である。導電材19aはビア13の端面上に被着形成され、金属接合材19bは矩形の枠形に形成されている。本実施形態においては、ビア13の外側に、ビア13の配置位置を囲む位置に4個のポスト40を配置している。
ポスト40の上端面がMEMS素子ウエハ18の裏面よりも上位置にあるから、MEMS素子ウエハ18と干渉せずに保護カバー42を金属接合することができる。
図11(b)に、ポスト40に保護カバー42を接合した状態を示す。保護カバー42は次工程の下地層となる金属層を形成する際に、MEMS素子20に金属層が被着しないように保護することを目的とする。したがって、MEMS素子20が形成されている領域を覆うようにその大きさ及び配置を設定する。
金属層46を形成する工程は、スパッタリング法あるいは蒸着法といった、保護カバー42による遮蔽機能が発揮される物理的に金属層46を形成する方法によればよい。
図10(c)は、個片化された半導体パッケージ303の断面図を示す。半導体パッケージ303は、MEMS素子20を厚さ方向に挟む配置として、第1の基板部10aと第2の基板部24aを金属接合材19b、19dを介して接合することによってMEMS素子20がパッケージ内に気密に封止される。保護カバー42は、MEMS素子20の上面を覆うように配置されることによって、金属層46をMEMS素子20に付着させずに半導体パッケージを組み立てることを可能にする。
10a 第1の基板部
11 ビア孔
12 支持板
13 ビア
15a レジストパターン
15b レジスト
16 配線パターン
18 MEMS素子ウエハ
19、19a 導電材
19b、19d 金属接合材
19c 接着剤
20 MEMS素子
21 接続電極
24、241 リッド
24a 第2の基板部
25 凹部
26 ダイシング刃
30、301、302、303 半導体パッケージ
35 溝
36 金属めっき
38 封止材
40 ポスト
42 保護カバー
46 金属層
241a 通気孔
D 切断位置
Claims (6)
- (a)シリコンウエハに、厚さ方向に貫通するビアと、MEMS素子搭載面とは反対面側に前記ビアと電気的に接続する配線パターンを形成する工程と、
(b)前記シリコンウエハの前記MEMS素子搭載面に、前記ビアとMEMS素子とを電気的に接続してMEMS素子ウエハを接合する工程と、
(c)前記シリコンウエハに接合されたMEMS素子ウエハのMEMS素子を個別に分離する工程と、
(d)前記シリコンウエハのMEMS素子搭載面に、前記個別に分離されたMEMS素子が搭載された領域ごとに、MEMS素子を収容する凹部を備えたリッドを接合する工程と、
(e)前記シリコンウエハとリッドとの接合体を個片化して半導体パッケージを形成する工程と、
を備え、
前記(c)工程では、前記半導体パッケージの外形形状よりも個別に分離される前記MEMS素子が小さくなるように、前記MEMS素子ウエハのみが切断され、
前記(d)工程では、前記リッドと、前記シリコンウエハとが直接接合され、
前記(e)工程では、前記リッドと前記シリコンウエハをダイシングすることによって、個片化された前記半導体パッケージが形成されることを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 - (a)シリコンウエハに、厚さ方向に貫通するビアと、MEMS素子搭載面とは反対面側に前記ビアと電気的に接続する配線パターンを形成する工程と、
(f)前記シリコンウエハの前記MEMS素子搭載面に、前記ビアとMEMS素子とを電気的に接続するとともに、MEMS素子の領域ごとにMEMS素子ウエハを接合する工程と、
(g)前記シリコンウエハに接合されたMEMS素子ウエハ上に、MEMS素子ごとにMEMS素子を収容する凹部を備えるリッドを接合する工程と、
(i)前記(g)工程後に、前記シリコンウエハの前記MEMS素子搭載面とは反対面側から、MEMS素子の搭載領域ごとに、前記シリコンウエハと前記MEMS素子ウエハを厚さ方向に貫通し、内底面が前記リッドの厚さ方向の中途位置となる深さに溝を形成する工程と、
(j)前記(i)工程後に、前記溝の内壁面と内底面とをめっきにより被覆する工程と、
(h)前記(j)工程後に、前記溝を形成した位置に合わせて、前記シリコンウエハと前記MEMS素子ウエハと前記リッドとの接合体を個片化して半導体パッケージを形成する工程と、
を備え、
前記(f)工程では、前記MEMS素子ウエハには一面側と他面側があり、該一面側にのみに金属膜が形成された前記MEMS素子ウエハが使用され、前記MEMS素子ウエハの一面側が前記シリコンウエハと対向配置され、前記MEMS素子ウエハの一面側の前記金属膜と前記シリコンウエハとは金属接合材を用いて接合され、
前記(g)工程では、前記MEMS素子ウエハの他面側が前記リッドと対向配置され、前記MEMS素子ウエハの他面側と前記リッドとは樹脂系接着剤を用いて接合され、
前記(f)工程での前記金属接合材および前記(g)工程での前記樹脂系接着剤は、前記MEMS素子の形成領域を囲うように枠状に形成されており、
前記(i)工程では、前記溝内の前記金属接合材および前記樹脂系接着剤の端面と、前記溝の内壁面とが面一となるように、前記溝が形成され、
前記(j)工程では、少なくとも前記樹脂系接着剤の端面がめっきで被覆されることを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 - 前記(g)工程においては、真空環境下において、前記MEMS素子ウエハ上に前記リッドを接合することを特徴とする請求項2記載の半導体パッケージの製造方法。
- (a)シリコンウエハに、厚さ方向に貫通するビアと、MEMS素子搭載面とは反対面側に前記ビアと電気的に接続する配線パターンを形成する工程と、
(f)前記シリコンウエハの前記MEMS素子搭載面に、前記ビアとMEMS素子とを電気的に接続するとともに、MEMS素子の領域ごとにMEMS素子ウエハを接合する工程と、
(k)前記シリコンウエハに接合されたMEMS素子ウエハ上に、MEMS素子ごとにMEMS素子を収容する凹部を備え、前記凹部に連通する通気孔が形成されたリッドを接合する工程と、
(n)前記(k)工程後に、前記シリコンウエハの前記MEMS素子搭載面とは反対面側から、MEMS素子の搭載領域ごとに、前記シリコンウエハと前記MEMS素子ウエハを厚さ方向に貫通し、内底面が前記リッドの厚さ方向の中途位置となる深さに溝を形成する工程と、
(o)前記(n)工程後に、前記溝の内壁面と内底面とをめっきにより被覆する工程と、
(l)前記(o)工程後に、真空環境下において、前記シリコンウエハと前記MEMS素子ウエハと前記リッドとの接合体の前記通気孔を封止する工程と、
(m)前記(l)工程後に、前記溝を形成した位置に合わせて、前記通気孔が封止された、前記シリコンウエハと前記MEMS素子ウエハと前記リッドとの接合体を個片化して半導体パッケージを形成する工程と、
を備え、
前記(f)工程では、前記MEMS素子ウエハには一面側と他面側があり、該一面側にのみに金属膜が形成された前記MEMS素子ウエハが使用され、前記MEMS素子ウエハの一面側が前記シリコンウエハと対向配置され、前記MEMS素子ウエハの一面側の前記金属膜と前記シリコンウエハとは金属接合材を用いて接合され、
前記(k)工程では、前記MEMS素子ウエハの他面側が前記リッドと対向配置され、前記MEMS素子ウエハの他面側と前記リッドとは樹脂系接着剤を用いて接合され、
前記(f)工程での前記金属接合材および前記(k)工程での前記樹脂系接着剤は、前記MEMS素子の形成領域を囲うように枠状に形成されており、
前記(n)工程では、前記溝内の前記金属接合材および前記樹脂系接着剤の端面と、前記溝の内壁面とが面一となるように、前記溝が形成され、
前記(o)工程では、少なくとも前記樹脂系接着剤の端面がめっきで被覆されることを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 - (a)シリコンウエハに、厚さ方向に貫通するビアと、MEMS素子搭載面とは反対面側に前記ビアと電気的に接続する配線パターンを形成する工程と、
(p)前記シリコンウエハの前記MEMS素子搭載面に、保護カバーを支持するポストを形成する工程と、
(q)前記ポストが形成されたシリコンウエハの前記MEMS素子搭載面に、前記ビアとMEMS素子とを電気的に接続するとともに、MEMS素子の領域ごとにMEMS素子ウエハを接合する工程と、
(r)前記MEMS素子ウエハに形成されている各々のMEMS素子の領域を遮蔽する配置に、前記ポスト上に前記保護カバーを接合して支持する工程と、
(s)前記保護カバーが接合された前記シリコンウエハの前記MEMS素子搭載面に、物理的方法によって金属層を被着形成する工程と、
(t)前記金属層が被着形成されたMEMS素子ウエハ上に、MEMS素子ごとにMEMS素子を収容する凹部を備えるリッドを、金属接合材を用いて接合する工程と、
(u)前記シリコンウエハと前記MEMS素子ウエハと前記リッドとの接合体を個片化して半導体パッケージを形成する工程と、
を備えることを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 - 第1の基板部と、
該第1の基板部に形成された配線パターンと電気的に接続して前記第1の基板部に気密に接合して搭載されたMEMS素子と、
前記MEMS素子を収容する凹部を備え、前記MEMS素子を気密に封止して接合された第2の基板部とを備え、
前記MEMS素子には、前記第1の基板部と対向配置される一面側と、前記第2の基板部と対向配置される他面側とがあり、
前記MEMS素子の一面側には金属膜が形成され、前記MEMS素子の他面側には金属膜が形成されておらず、
前記MEMS素子の一面側の前記金属膜と前記第1の基板部とは金属接合材を介して接合されており、前記MEMS素子の他面側と前記第2の基板部とは樹脂系接着剤を介して接合されており、
前記金属接合材および前記樹脂系接着剤は、前記MEMS素子の形成領域を囲うように枠状に形成されており、
前記第1の基板部と前記MEMS素子との接合部の端部と、前記MEMS素子と前記第2の基板部との接合部の端部がパッケージの外周側面に延在し、前記金属接合部材および前記樹脂系接着剤の端面と、前記パッケージの外周側面とが面一となっており、少なくとも前記樹脂系接着剤の端面を被覆するように、前記第1の基板部と前記MEMS素子との接合部の端部および前記MEMS素子と前記第2の基板部との接合部の端部を含むパッケージの外周側面が金属めっきにより被覆されていることを特徴とする半導体パッケージ。
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