JP5565442B2 - ゴム組成物及びこれを用いる空気入りタイヤ - Google Patents
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Description
そこで、本発明は、破壊強度、破断伸び、モジュラスに優れるゴム組成物を提供することを目的とする。
1. 硫黄架橋可能なジエン系ゴム100質量部に対して、
カーボンブラック1〜100質量部及びシリカ10〜150質量部と、
含硫黄配合剤1〜30質量部と、
下記式(1)で表されるホウ素化合物0.1〜20質量部とを配合し、
前記含硫黄配合剤が少なくとも含硫黄シランカップリング剤を含む、ゴム組成物。
[式(1)中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい、炭素数1〜20の炭化水素基、ヒドロキシ基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のエステル基、アミノ基、炭素数1〜20の炭化水素基を1個又は2個有するアミノ基、ハロゲン又は水素であり、R1、R2およびR3は同一でも異なっていても良い。]
2. 前記含硫黄配合剤が、更に、硫黄及び/又は含硫黄加硫促進剤を含む上記1に記載のゴム組成物。
3. 前記含硫黄シランカップリング剤の量が、前記ジエン系ゴム100質量部に対して1〜20質量部である上記1又は2に記載のゴム組成物。
4. 上記1〜3のいずれかに記載のゴム組成物をキャップトレッド、サイドウォール、ベルト、インナーライナー、カーカス及びビードからなる群から選ばれる少なくとも1種に使用する空気入りタイヤ。
本発明のゴム組成物は、
硫黄架橋可能なジエン系ゴム100質量部に対して、
カーボンブラック1〜100質量部及び/又は無機充填剤10〜150質量部と、
含硫黄配合剤1〜30質量部と、
下記式(1)で表されるホウ素化合物及び/又は窒素−ホウ素結合を有するホウ素錯体0.1〜20質量部とを配合してなるゴム組成物である。
[式(1)中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい、炭素数1〜20の炭化水素基、ヒドロキシ基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のエステル基、アミノ基、炭素数1〜20の炭化水素基を1個又は2個有するアミノ基、ハロゲン又は水素であり、R1、R2およびR3は同一でも異なっていても良い。]
本発明において、ホウ素化合物に例えば他の配合剤等が接近することによってホウ素化合物が開環すると、開環直後のホウ素原子はプラスの電荷を帯びてその求電子性が高くなり(開環したホウ素化合物もルイス酸として機能すると考えられる。)、酸素や硫黄などの非共有電子対を有する元素と相互作用しやすくなる。
本発明において、窒素−ホウ素結合を有するホウ素錯体は、窒素原子(非共有電子対)を有するルイス塩基(含窒素化合物)とホウ素原子(空軌道)を有するルイス酸(含ホウ素化合物)とから形成される錯体とすることができる。窒素−ホウ素結合の解離によって、ホウ素錯体からルイス酸として3価の含ホウ素化合物が生成し、3価の含ホウ素化合物は空のp軌道を有することからルイス酸として機能し、酸素や硫黄などの非共有電子対を有する元素と相互作用しやすい。
また、ホウ素化合物、ホウ素錯体においてホウ素原子の周辺の空間が比較的大きく立体障害が小さいため硫黄などの高周期(原子半径が大きい。)元素とも相互作用しやすい。
このように、ホウ素化合物、ホウ素錯体は、ルイス酸として機能しうること、ホウ素原子周辺の立体障害が小さいことによって、含硫黄配合剤−ゴムの化学反応を効率的に促進し、その結果、破壊強度、破断伸び、モジュラス、低発熱性、ウェットグリップ性能に優れるゴムを、加工性を悪化させることなく得ることが可能となったと考えられる。上記メカニズムは本願発明者の推測であり、メカニズムが上記以外であっても本願発明の範囲に含まれる。
なお、本発明において、ホウ素化合物、ホウ素錯体は、ゴム組成物の配合剤として使用されるものであり、ゴムを製造する際に使用される触媒又はポリマーの末端変性剤として使用されるものではない。
芳香族ビニル−共役ジエン共重合体ゴムとしては、例えば、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム(SBR)、スチレン−イソプレン共重合体ゴムなどが挙げられる。なかでも、ウェットグリップ性能により優れたタイヤが得られる理由から、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム(SBR)であることが好ましい。
ジエン系ゴムの重量平均分子量は、破壊強度、破断伸び、モジュラスにより優れ、加工性、低発熱性、ウェットグリップ性能に優れるという観点から、200,000〜2,500,000であるのが好ましい。本発明において、ジエン系ゴムの重量平均分子量(Mw)は、テトラヒドロフランを溶媒とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により標準ポリスチレン換算により測定するものとする。
ジエン系ゴムはその製造について特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。ジエン系ゴムはそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明において、カーボンブラックの量は、硫黄架橋可能なジエン系ゴム100質量部に対して1〜100質量部とすることができる。カーボンブラックの量は、破壊強度、破断伸び、モジュラスにより優れ、低発熱性、ウェットグリップ性能、加工性に優れるという観点から、ジエン系ゴム100質量部に対して、3〜90質量部であるのが好ましく、5〜80質量部であるのがより好ましい。
シリカとしては、例えば、湿式シリカ、乾式シリカ、ヒュームドシリカ、珪藻土などが挙げられる。シリカは、ゴムの補強性の観点から湿式シリカを含むことが好ましい。
ここで、CTAB吸着比表面積は、シリカがシランカップリング剤との吸着に利用できる表面積の代用特性であり、シリカ表面へのCTAB吸着量をJIS K6217−3:2001「第3部:比表面積の求め方−CTAB吸着法」にしたがって測定した値である。
無機充填剤はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明において、無機充填剤がシリカである場合、含硫黄配合剤が少なくとも含硫黄シランカップリング剤を含むのが、破壊強度、破断伸び、モジュラスにより優れ、低発熱性、ウェットグリップ性能、加工性に優れるという観点から、好ましい態様として挙げられる。
含硫黄シランカップリング剤は、硫黄原子を少なくとも1個有するシランカップリング剤であれば特に制限されない。例えば、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3−トリメトキシシリルプロピルベンゾチアゾールテトラスルフィドのような硫黄原子が3個以上のポリスルフィド結合を有するポリスルフィド系シランカップリング剤;ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィドのようなジスルフィド系シランカップリング剤;γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3‐[エトキシビス(3,6,9,12,15‐ペンタオキサオクタコサン‐1‐イルオキシ)シリル]‐1‐プロパンチオールのようなメルカプト系シランカップリング剤;3−オクタノイルチオプロピルトリエトキシシランのようなチオカルボキシレート系シランカップリング剤;3−チオシアネートプロピルトリエトキシシランのようなチオシアネート系シランカップリング剤が挙げられる。
なかでも、破壊強度、破断伸び、モジュラスにより優れ、低発熱性、ウェットグリップ性能、加工性に優れるという観点から、硫黄原子が2個以上のポリスルフィド結合を有するポリスルフィド系シランカップリング剤が好ましく、硫黄原子が2〜5個のポリスルフィド結合を有するポリスルフィド系シランカップリング剤がより好ましく、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィドがさらに好ましい。
ポリスルフィド結合は、2つの炭素原子の間に硫黄原子を2つ以上の数で有し、2つ以上の硫黄原子は直接結合するのが好ましい態様の1つとして挙げられる。炭素原子に結合する硫黄原子は脱硫しにくく、両側に硫黄原子が結合する硫黄原子は脱硫しやすい。本発明において、ホウ素化合物及び/又はホウ素錯体は、ポリスルフィド系シランカップリング剤から硫黄原子が脱硫すること(硫黄原子が3個以上のポリスルフィド系シランカップリング剤から硫黄原子が脱硫することを含む。)によるホウ素化合物及び/又はホウ素錯体の触媒活性の失活を抑制し、かつ、含硫黄配合剤−ゴムの化学反応[例えば、硫黄−ゴム、含硫黄加硫促進剤−ゴム、シリカ−含硫黄シランカップリング剤−ゴムの化学反応]を促進し、このことによって、より優れた破壊強度、破断伸び、モジュラスに寄与し、低発熱性、ウェットグリップ性能、加工性を優れたものにすると本願発明者は推察する。なかでも、本発明のゴム組成物が含硫黄配合剤として含硫黄シランカップリング剤を含有する場合、シリカ−含硫黄シランカップリング剤−ゴムの化学反応が特に促進され、詳細には、シリカ−含硫黄シランカップリング剤の縮合反応、含硫黄シランカップリング剤−ゴムの架橋反応の二つが同時にバランスよく促進される。
なかでも、破壊強度、破断伸び、モジュラスにより優れ、低発熱性、ウェットグリップ性能、加工性に優れるという観点から、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジシクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミドが好ましい。
含硫黄配合剤はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
硫黄の量はジエン系ゴム100質量部に対して0.1〜10質量部であるのが好ましい。
含硫黄加硫促進剤の量はジエン系ゴム100質量部に対して0.1〜10質量部であるのが好ましい。
含硫黄シランカップリング剤の量は、破壊強度、破断伸び、モジュラスにより優れ、低発熱性、ウェットグリップ性能、加工性に優れるという観点から、ジエン系ゴム100質量部に対して、1〜20質量部であるのが好ましく、1〜15質量部であるのより好ましく、3〜12質量部であるのがさらに好ましい。
ホウ素化合物は式(1)で表される化合物であれば特に制限されない。
[式(1)中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい、炭素数1〜20の炭化水素基、ヒドロキシ基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のエステル基、アミノ基、炭素数1〜20の炭化水素基を1個又は2個有するアミノ基、ハロゲン又は水素であり、R1、R2およびR3は同一でも異なっていても良い。]
炭化水素基が有することができる置換基としては、例えば、ヒドロキシ基(−OH基)、炭素数1〜20のアルコキシ基(後述するものと同様である。)又はアシル基、アミノ基(−NH2基)、−NHR基(式中、Rは炭素数1〜20の炭化水素基である。炭素数1〜20の炭化水素基は上記と同様である。)、−NRR′基(式中、R、R′はそれぞれ独立に炭素数1〜20の炭化水素基である。炭素数1〜20の炭化水素基は上記と同様である。)、ハロゲン(例えば、−F、−Cl、−Br、−I)が挙げられる。
炭素数1〜20のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基が挙げられる。
炭素数1〜20のエステル基は、炭素数1〜20の炭化水素基を有するエステルであれば特に制限されない。例えば、メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、オクチルエステル、デシルエステル、ドデシルエステルのようなアルキルエステル;フェニルエステルのような芳香族エステルが挙げられる。
炭素数1〜20の炭化水素基を1個又は2個有するアミノ基[R−NH−(イミノ基)又はRR′−N−。R、R′はそれぞれ独立に炭素数1〜20の炭化水素基である。炭素数1〜20の炭化水素基は上記と同様である。]は特に制限されない。例えば、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、オクチルイミノ、デシルイミノ、ドデシルイミノのようなアルキルイミノ基;フェニルイミノのような芳香族イミノ基;ジメチルアミノ、ジエチルアミノのようなジアルキルアミノ基が挙げられる。
ハロゲンとしては、例えば、−F、−Cl、−Br、−Iが挙げられる。
ホウ素化合物は、ボロン酸の3量体(ボロン酸無水物)であるのが好ましい態様の1つとして挙げられる。ホウ素化合物を構成するボロン酸は1種又は2種以上とすることができる。
ホウ素錯体は、破壊強度、破断伸び、モジュラスにより優れ、低発熱性、ウェットグリップ性能、加工性に優れるという観点から、アミンボラン系化合物、アンモニアボラン系化合物及びアミドボラン系化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種であるのが好ましい。
アミンボラン系化合物としては、例えば、脂肪族炭化水素基及び/又は芳香族炭化水素基を有するアミン並びに含窒素複素環化合物、あるいは、これらの構造を組合わせたアミンと、含ホウ素化合物との組み合わせによって形成されるものが挙げられる。
含窒素複素環化合物と含ホウ素化合物との組み合わせによって形成される、含窒素複素環化合物−ボラン系化合物としては、例えば、ピリジンボラン系化合物[例えば、下記式(2)で表される化合物]、ピロールボラン系化合物、キノリンボラン系化合物が挙げられる。
[式(2)中、R4、R5はそれぞれ独立に置換基を有してもよい、炭素数1〜20の炭化水素基、ヒドロキシ基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のエステル基、アミノ基、炭素数1〜20の炭化水素基を1個又は2個有するアミノ基、又はハロゲンであり、m、nはそれぞれ独立に0〜5の整数であり、nが複数である場合R4は同一でも異なっていても良く、mが複数である場合R5は同一でも異なっていても良い。]
置換基を有してもよい、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のエステル基、アミノ基、炭素数1〜20の炭化水素基を1個又は2個有するアミノ基、ハロゲンは上記と同様である。
炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、脂肪族炭化水素基が有することができる置換基は上記と同義である。炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基は不飽和結合を有してもよいのは上記と同義である。
置換基を有してもよい炭化水素基はその炭素数が1〜20であるのが好ましく、置換基を有してもよい、炭素数1〜20の炭化水素基は上記と同義である。
置換基を有してもよい炭化水素基はその炭素数が1〜20であるのが好ましく、置換基を有してもよい、炭素数1〜20の炭化水素基は上記と同義である。
式(7)中、R′、R′′、R′′′はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有してもよい炭化水素基であり、R7はそれぞれ独立に置換基を有してもよい炭化水素基であり、bはそれぞれ0〜3の整数であり、bが2又は3である場合R7は同一でも異なっていても良い。
置換基を有してもよい炭化水素基はその炭素数が1〜20であるのが好ましく、置換基を有してもよい、炭素数1〜20の炭化水素基は上記と同義である。
含窒素複素環化合物としては、例えば、下記式(4)で表される化合物[式中、R5、mは式(2)と同様である。]が挙げられ、具体的には例えば、ピリジン、ピコリン、ルチジンやN,N−ジメチルアミノピリジンなどのピリジンの誘導体(ピリジン系化合物)が挙げられる。
芳香族化合物としては、例えば、アニリン、N,N−ジメチルアニリンなどのアニリン誘導体が挙げられる。
脂肪族アミン系化合物としては、例えば、R6 aH3-aNで表される化合物[式中、R6、aは式(3)と同様である。]が挙げられ、具体的には例えば、トリエチルアミンなどのトリアルキルアミン;ジメチルアミノなどのジアルキルアミン;メチルアミンなどのモノアルキルアミンが挙げられる。
アミドとしては、例えば、式(8)R′R′′−N−CO−R′′′で表されるアミド化合物(R′、R′′、R′′′は式(7)と同義である。)が挙げられ、具体的には例えば、N,N−ジメチルホルムアミドが挙げられる。
[式(5)中、R4は置換基を有してもよい、炭素数1〜20の炭化水素基であり、nは0〜5の整数であり、nが複数である場合R4は同一でも異なっていても良い。]
置換基を有してもよい、炭素数1〜20の炭化水素基は上記と同様である。また、含ホウ素化合物は、トリヒドロボランBH3であっても良い。
ホウ素化合物、ホウ素錯体はその製造について特に制限されない。例えば従来公知のものが挙げられる。ホウ素化合物、ホウ素錯体は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
また本発明において、無機充填剤がシリカである場合、本発明のゴム組成物がさらに硫黄を含有しないシランカップリング剤を配合するのが好ましい態様の1つとして挙げられる。
硫黄を含まないシランカップリング剤は特に制限されない。例えば、アミノシランカップリング剤、エポキシシランカップリング剤、ヒドロキシシランカップリング剤が挙げられる。
硫黄を含有しないシランカップリング剤の量は、破壊強度、破断伸び、モジュラスにより優れ、低発熱性、ウェットグリップ性能、加工性に優れるという観点から、ジエン系ゴム100質量部に対して、1〜15質量部であるのが好ましく、3〜12質量部であるのがより好ましい。
添加剤としては、例えば、本発明のゴム組成物に含有される、酸化亜鉛、ステアリン酸、老化防止剤、加工助剤、アロマオイル、液状ポリマー、テルペン系樹脂、熱硬化性樹脂、硫黄以外の加硫剤、硫黄原子を有さない加硫促進剤、硫黄原子を有さない加硫促進助剤など、ゴム組成物に一般的に使用される各種添加剤が挙げられる。
また、本発明のゴム組成物は、従来公知の加硫または架橋条件で加硫または架橋することができる。
本発明のゴム組成物は例えば、タイヤ、ベルト、ホースなどに使用することができる。
本発明の空気入りタイヤは、本発明のゴム組成物をキャップトレッド、サイドウォール、ベルト、インナーライナー、カーカス及びビードからなる群から選ばれる少なくとも1種に使用する空気入りタイヤである。本発明において使用されるゴム組成物は本発明のゴム組成物であれば特に制限されない。本発明の空気入りタイヤが有するキャップトレッド、サイドウォール、ベルト、インナーライナー、カーカス及びビードからなる群から選ばれる少なくとも1種は本発明のゴム組成物を使用して製造される。
図1は、本発明の空気入りタイヤの実施形態の一例について、そのタイヤ子午線方向の部分断面を模式的に表す断面図である。図1において、符号1はキャップトレッド、符号2はサイドウォール、符号3はビードである。
キャップトレッド1、サイドウォール2、ベルト8、インナーライナー7、カーカス4及びビード3からなる群から選ばれる少なくとも1種が本発明のゴム組成物により構成されている。
<未加硫ゴム組成物の製造>
表1に示す配合(質量部)において、加硫系(加硫促進剤、硫黄)を除く成分を1.7リットルの密閉式バンバリーミキサーで5分間混練した後、ミキサー外に放出させて室温冷却した。続いて、該組成物をオープンロールで、加硫系を加えて混練し、未加硫ゴム組成物を得た。
<加硫ゴムの製造>
次に上述のとおり得られた未加硫ゴム組成物を所定の金型中で160℃で20分間プレス加硫して加硫ゴム試験片を調製した。
上述のとおり得られた、未加硫ゴム組成物、加硫ゴム試験片について以下に示す試験法で物性を測定した。結果を表1に示す。
・tanδの測定
岩本製作所(株)製の粘弾性スペクトロメーターを用い、伸張変形歪率10±2%、振動数20Hz、温度0℃、50℃、条件にて加硫ゴム試験片についてtanδを測定した。結果は、比較例1の値を100として、指数で示した。tanδ(0℃)は指数が大きいほどウェットグリップ性能に優れることを示す。tanδ(50℃)は指数が小さいほど低発熱性であることを示す。
・引張応力(モジュラス)、破断強度、破断伸びの測定
加硫ゴム試験片からJIS3号ダンベル状の試験片を打ち抜き、引張速度500mm/分での引張試験をJIS K6251に準拠して行い、加硫ゴム試験片の100%モジュラス、破断強度、破断伸びを室温にて測定した。結果は比較例1の値を100として指数表示した。値が大きいほど、モジュラス、破断強度、破断伸びが良好なことを示す。
・ビスの測定
JIS K6300に準拠して、L形ローターを使用し、未加硫ゴム組成物のムーニー粘度ML(1+4)100℃を求めた。結果は比較例1の値を100として指数表示した。値が小さいほど未加硫ゴム組成物の粘度が低く良好なことを示す。
・スコーチ時間の測定
JIS K6300に準拠して、125℃にて未加硫ゴム組成物の粘度が5ポイント上昇する時間(分)を測定した。結果は比較例1の値を100として指数表示した。値が大きいほど加工性が良好なことを示す。
・E−SBR:乳化重合SBR Nipol1502、日本ゼオン社製
・フェニルボロン酸無水物:北興化学工業社製 TPBX(フェニルボロン酸の3量体無水物)
・p−メチル−フェニルボロン酸無水物:北興化学工業社製(p−メチル−フェニルボロン酸の3量体無水物)
・p−メトキシ−フェニルボロン酸無水物:北興化学工業社製(p−メトキシ−フェニルボロン酸の3量体無水物)
・トリフェニルホスフィン・トリフェニルボラン錯体:東京化成工業社製
・ピリジントリフェニルボラン:下記式で表される化合物。北興化学工業社製
・シリカ:湿式シリカ、日本シリカ社製ニップシールAQ、CTAB吸着比表面積
170m2/g
・カーボンブラック:昭和キャボット社製ショウブラックN339M
・酸化亜鉛:正同化学社製亜鉛華3号
・ステアリン酸:日本油脂社製ステアリン酸
・老化防止剤:老化防止剤(S−13)、住友化学社製アンチゲン6C
・含硫黄シランカップリング剤:ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド。ポリスルフィドとして−S4−を有する。−S4−の両端は炭素原子と結合する。エボニック・デグサ社製Si69
・オイル:昭和シェル石油社製エクストラクト4号S
・イオウ:軽井沢精錬所社製油処理硫黄
・含硫黄加硫促進剤(CZ):N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、三新化学社製サンセラーCM−PO
・加硫促進剤(DPG):ジフェニルグアニジン、三新化学社製サンセラーD−G
これに対して、実施例1〜6、参考例1は、破壊強度、破断伸び、モジュラスに優れ、加工性を悪化させることがなく、低発熱性、ウェットグリップ性能にも優れる。実施例1〜6、参考例1が破壊強度、破断伸び、モジュラスに優れるのは、実施例1〜6、参考例1が含硫黄配合剤として硫黄、含硫黄加硫促進剤を含むので、硫黄−ゴム、含硫黄加硫促進剤−ゴムの化学反応が促進されたためと考えられる。また、実施例1〜6、参考例1が低発熱性、ウェットグリップ性能にも優れるのは、実施例1〜6、参考例1が含硫黄配合剤として含硫黄シランカップリング剤を含有するので、シリカ−含硫黄シランカップリング剤−ゴムの化学反応が促進されたためと考えられる。
2 サイドウォール
3 ビード
4 カーカス
7 インナーライナー
8 ベルト
Claims (4)
- 硫黄架橋可能なジエン系ゴム100質量部に対して、
カーボンブラック1〜100質量部及びシリカ10〜150質量部と、
含硫黄配合剤1〜30質量部と、
下記式(1)で表されるホウ素化合物0.1〜20質量部とを配合し、
前記含硫黄配合剤が少なくとも含硫黄シランカップリング剤を含む、ゴム組成物。
[式(1)中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい、炭素数1〜20の炭化水素基、ヒドロキシ基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のエステル基、アミノ基、炭素数1〜20の炭化水素基を1個又は2個有するアミノ基、ハロゲン又は水素であり、R1、R2およびR3は同一でも異なっていても良い。] - 前記含硫黄配合剤が、更に、硫黄及び/又は含硫黄加硫促進剤を含む請求項1に記載のゴム組成物。
- 前記含硫黄シランカップリング剤の量が、前記ジエン系ゴム100質量部に対して1〜20質量部である請求項1又は2に記載のゴム組成物。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のゴム組成物をキャップトレッド、サイドウォール、ベルト、インナーライナー、カーカス及びビードからなる群から選ばれる少なくとも1種に使用する空気入りタイヤ。
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