JP5558025B2 - 制御装置 - Google Patents

制御装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5558025B2
JP5558025B2 JP2009105278A JP2009105278A JP5558025B2 JP 5558025 B2 JP5558025 B2 JP 5558025B2 JP 2009105278 A JP2009105278 A JP 2009105278A JP 2009105278 A JP2009105278 A JP 2009105278A JP 5558025 B2 JP5558025 B2 JP 5558025B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
value
operation amount
measured value
target value
control unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009105278A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010253365A (ja
Inventor
博司 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Environment Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Environment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Environment Co Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Environment Co Ltd
Priority to JP2009105278A priority Critical patent/JP5558025B2/ja
Publication of JP2010253365A publication Critical patent/JP2010253365A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5558025B2 publication Critical patent/JP5558025B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W10/00Technologies for wastewater treatment
    • Y02W10/10Biological treatment of water, waste water, or sewage

Landscapes

  • Activated Sludge Processes (AREA)

Description

本発明は、制御装置に関し、特に、水処理装置において曝気風量を制御する制御装置さらにはpH調整のための薬品添加量を制御する制御装置に関する。
従来、処理液に対する操作量を制御して処理液中の測定値を所定の目標値に近づける制御装置が知られている。例えば、特許文献1に開示された装置では、曝気槽中の汚水の溶存酸素濃度及び温度を検知し、その検知結果に基づくPID制御によってインバータを制御し曝気ブロアを所定の回転数で運転させることにより、汚水に対する操作量である曝気空気量を制御し、溶存酸素濃度の測定値を目標値に近づけるようにしている。なお、このPID制御とは、比例動作、積分動作、及び微分動作を組み合わせた制御のことである。
特公平7−98192号公報
しかしながら、特許文献1に開示された装置では、汚水の溶存酸素濃度及び温度に基づいて画一的な操作量制御を行っているため、これらの値の変化状態によっては測定値が目標値を過大に上回ってしまうことがあり、消費される操作量効率的制御し、削減することは難しかった。
そこで、本発明の目的は、消費される操作量を効率的に制御し、削除することができる制御装置を提供することにある。
本発明の制御装置は、処理液に対する操作量を制御して処理液中における測定値を所定の目標値に近づける制御装置において、操作量の増加が処理液中の測定値の上昇に寄与する場合に、測定値が所定の目標値以上であるときの測定値と目標値との差である偏差の時間積分値を、測定値が目標値未満であるときの偏差の時間積分値よりも、絶対値が小さくなるように操作量を制御する制御部を備え、制御部は、測定値が目標値以上である場合における操作量の変化率が、測定値が目標値未満の場合における操作量の変化率より大きくなるように操作量を制御することを特徴としている。
このような制御装置では、操作量の増加が測定値の上昇に寄与するような制御系において、測定値が目標値以上であるときの偏差の時間積分値を、測定値が目標値未満であるときの偏差の時間積分値よりも、絶対値が小さくなるように操作量を制御するため、測定値が目標値を上回る大きさ及び時間を低減できる。よって、測定値が目標値を過大に上回ることが防止され、操作量を効率的に制御することができる。
また、本発明の制御装置は、処理液に対する操作量を制御して処理液中における測定値を所定の目標値に近づける制御装置において、操作量の増加が処理液中の測定値の下降に寄与する場合に、測定値が所定の目標値未満であるときの測定値と該目標値との差である偏差の時間積分値を、測定値が目標値以上であるときの偏差の時間積分値よりも、絶対値が小さくなるように操作量を制御する制御部を備え、制御部は、測定値が目標値未満である場合における操作量の変化率が、測定値が目標値以上の場合における操作量の変化率より大きくなるように操作量を制御することを特徴としている。
このような制御装置では、操作量の増加が測定値の下降に寄与するような制御系において、測定値が目標値未満であるときの偏差の時間積分値を、測定値が目標値以上であるときの偏差の時間積分値よりも、絶対値が小さくなるように操作量を制御するため、測定値が目標値を下回る大きさ及び時間を低減できる。よって、測定値が目標値を過大に下回ることが防止され、操作量を効率的に制御することができる。
ここで、本発明の制御装置において、測定値は処理液中の溶存酸素濃度であり、操作量は処理液への曝気風量であることが好ましい。このようにすれば、溶存酸素濃度の測定値が目標値を上回る大きさ及び時間を低減できるため、曝気風量を効率的に制御することができる。
また、本発明の制御装置において、測定値は処理液中のpHであり、操作量は処理液へのアルカリ添加量であることが好ましい。このようにすれば、pHの測定値が目標値を上回る大きさ及び時間を低減できるため、アルカリ添加量を効率的に制御することができる。
また、本発明の制御装置において、測定値は処理液中のpHであり、操作量は処理液への酸添加量であることが好ましい。このようにすれば、pHの測定値が目標値を下回る大きさ及び時間を低減できるため、酸添加量を効率的に制御することができる。
また、上記作用を効果的に奏する構成としては、制御部は、操作量を制御するための、第1の制御手段と第2の制御手段とを備え、第1の制御手段は、測定値が目標値以上である場合に実行され、第2の制御手段は、測定値が目標値未満である場合に実行され、且つ、制御部は、第1の制御手段による操作量の変化率を、第2の制御手段による操作量の変化率よりも大きく変動させる構成が挙げられる。
更にまた、上記作用を効果的に奏する構成としては、制御部は、操作量を制御するための、第1の制御手段と第2の制御手段とを備え、第1の制御手段は、測定値が目標値未満である場合に実行され、第2の制御手段は、測定値が目標値以上である場合に実行され、且つ、制御部は、第1の制御手段による操作量の変化率を、第2の制御手段による操作量の変化率よりも大きく変動させる構成が挙げられる。
本発明の制御装置によれば、操作量を効率的に制御することができる。
第1実施形態に係る制御装置を用いた水処理装置を示す概略構成図である。 図1の制御装置における処理手順を示すフローチャートである。 図1の制御装置における測定値及び操作量の時間変化を示す図である。 第2実施形態に係る制御装置を用いた水処理装置を示す概略構成図である。 第3実施形態に係る制御装置を用いた水処理装置を示す概略構成図である。 図5の制御装置における処理手順を示すフローチャートである。 図5の制御装置における測定値及び操作量の時間変化を示す図である。
以下、本発明の好適な実施形態について図面を参照しながら説明する。以下参照する図面においては、目標値を「SP(Set Point)」、測定値を「PV(Process Variable)」、操作量を「MV(Manipulative Variable)」と表記する。なお、図面の説明において同一要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係る制御装置を用いた水処理装置を示す概略構成図である。水処理装置1は、曝気により処理対象水(処理液)Wを処理するものであり、曝気槽2、溶存酸素計(DO計)3、PID制御装置(制御装置)4、インバータ5、曝気ブロワ6、及び散気装置7等を備えて構成されている。
この水処理装置1では、曝気槽2に導入された処理対象水Wは、曝気槽2内にて活性汚泥等と混合され曝気処理された後、処理水として排出される。曝気槽2における曝気処理は、曝気ブロワ6からの空気を散気装置7で散気することにより行われる。そして、この水処理装置1では、処理対象水W中のDO濃度の目標値が適宜設定される。
PID制御装置4は、処理対象水W中のDO濃度を所定の目標値に近づけるべく、処理対象水Wに対する曝気風量を制御するものである。具体的には、PID制御装置4は、曝気槽2のDO計3から取得する処理対象水W中のDO濃度の測定値に基づいて、PID制御による所定の処理を実行し、インバータ5を制御し曝気ブロワ6の回転数を調節することにより、処理対象水Wへの曝気風量(操作量)を制御する。このPID制御装置4は、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only Memory)、及びRAM(Random AccessMemory)等を含むコンピュータにより構成されている。なお、PID制御装置4として、シーケンサを用いてもよい。
このPID制御装置4は、具体的には、判断部4a、第1PID制御部(第1の制御手段)4b、及び第2PID制御部(第2の制御手段)4cを備えている。これらの機能については、後述するPID制御装置4の動作説明において説明する。
ここで、本実施形態のように、曝気処理による水処理装置1にPID制御装置4を適用する場合には、PID制御装置4による曝気風量の制御は、その操作量の増加が測定値の上昇に寄与する制御となる。
次に、PID制御装置4による処理手順について説明する。図2はPID制御装置における処理手順を示すフローチャート、図3はPID制御装置における測定値及び操作量の時間変化を示す図である。ここで、PID制御装置4には、予め処理対象水W中のDO濃度の目標値が設定されているものとする。以下の処理は、水処理装置1が稼働している間に繰り返し実行される。
図2に示すように、処理がスタートすると、判断部4aは、DO計3から取得する処理対象水W中のDO濃度の測定値PVが、目標値SP以上であるか否かを判断する(S1)。測定値が目標値以上である場合には、第1PID制御部4bが、第1PID制御を実行する(S2)。一方、測定値が目標値未満である場合には、第2PID制御部4cが、第2PID制御を実行する(S3)。
ここで、ステップ2,3における第1PID制御及び第2PID制御について詳しく説明する。第1PID制御部4b及び第2PID制御部4cの各々においては、測定値と目標値との差である偏差に対し、比例動作、積分動作、及び微分動作についての制御パラメータが設定されており、第1PID制御部4bは、第2PID制御部4cよりも操作量の変化率を大きく変動させるようにしている。すなわち、第1PID制御における曝気風量の変化率を、第2PID制御における曝気風量の変化率よりも大きく変動させる。
図3に示す制御例を参照しながらより具体的に説明する。図3では、目標値SP、測定値PV、及び操作量MVの各値の経時変化を示しており、一定の値である目標値SPに対し、測定値PVが上下に変動している。PID制御装置4における処理では、上述したように、測定値PVが目標値SP以上である場合(時間T1に相当)には第1PID制御を実行し、測定値PVが目標値SP未満である場合(時間T2に相当)には第2PID制御を実行する。以下の説明では、時間T1を第1PID制御時間T1、時間T2を第2PID制御時間T2という。
図3に示すように、DO濃度の測定値PVが目標値SP以上となっている第1PID制御時間T1においては、破線で示される曝気風量MVの変化率を、第2PID制御時間T2での曝気風量MVの変化率よりも大きく変動させる。
このような制御により、第1PID制御時間T1は、第2PID制御時間T2よりも時間の長さが短くされ、さらに、第1PID制御時間T1におけるDO濃度差の最大値である第1PID制御最大偏差V1は、第2PID制御時間T2におけるDO濃度差の最大値である第2PID制御最大偏差V2よりも小さくされている。
そして、第1PID制御時間T1における測定値PVと目標値SPで囲まれた部分である第1PID制御偏差領域S1は、第2PID制御時間T2における測定値PVと目標値SPで囲まれた部分である第2PID制御偏差領域S2よりも、小さくされている。
この第1PID制御偏差領域S1は、本実施形態のようなDO濃度を基準とした曝気風量MVの制御においては、DO濃度の測定値PVが目標値SPを超過するいわゆるオーバーシュートに相当する。
このように、本実施形態におけるPID制御装置4では、特に、オーバーシュート(曝気のし過ぎ)を小さくするように曝気風量MVを制御している。
以上説明したように、本実施形態におけるPID制御装置4では、測定値(DO濃度の測定値)PVが目標値SP以上であるときの偏差の時間積分値を、測定値PVが目標値SP未満であるときの偏差の時間積分値よりも、絶対値が小さくなるように、すなわち第1PID制御偏差領域S1が第2PID制御偏差領域S2よりも小さくなるように操作量(曝気風量)MVを制御するため、測定値PVが目標値SPを上回る大きさV1及び時間T1を低減できる。よって、測定値PVが目標値SPを過大に上回ることが防止され、操作量MVを効率的に制御することができる。
さらに、本実施形態におけるPID制御装置4によれば、曝気風量MVを効率的に制御することができるため、曝気ブロワ6において消費される電力量を削減することができる。このようにして、曝気槽2での曝気処理における省エネ制御が実現される。
(第2実施形態)
図4は、第2実施形態に係る制御装置を用いた水処理装置を示す概略構成図である。水処理装置10は、処理対象水(処理液)Wに対しアルカリを添加してpH制御を行うものである。この水処理装置10が図1に示した水処理装置1と違う点は、pH調整槽8、pH計9、アルカリ貯留タンク11、及び薬注ポンプ12を備えた点である。なお、PID制御装置4は、水処理装置1におけるPID制御装置4と同様の機能を有している。
この水処理装置10では、原水のpH等の処理条件に応じて処理対象水W中のpHの目標値が適宜設定される。そして、PID制御装置4は、処理対象水W中のpHを目標値に近づけるべく、pH調整槽8のpH計9から取得する処理対象水W中のpHの測定値に基づいて、PID制御による所定の処理を実行し、インバータ5を制御し薬注ポンプ12の吐出量を調節することにより、アルカリ貯留タンク11から処理対象水Wへのアルカリ添加量(操作量)を制御する。
ここで、本実施形態のように、アルカリの添加による水処理装置10にPID制御装置4を適用する場合、アルカリ添加量の増加は処理対象水WのpHの上昇に寄与するため、PID制御装置4によるアルカリ添加量の制御は、その操作量の増加が測定値の上昇に寄与する制御となる。
この水処理装置10のPID制御装置4では、図2に示した処理と同様の処理を実行し、図3に示したような測定値PV及び操作量MVの時間変化が得られる。すなわち、pHの測定値PVがpHの目標値SP以上となっている第1PID制御時間T1においては、破線で示されるアルカリ添加量MVの変化率を、第2PID制御時間T2でのアルカリ添加量MVの変化率よりも大きく変動させる。
このような制御により、第1PID制御時間T1は第2PID制御時間T2よりも時間の長さが短くされ、第1PID制御最大偏差V1は第2PID制御最大偏差V2よりも小さくされると共に、第1PID制御偏差領域S1は、第2PID制御偏差領域S2よりも小さくされる。
この第1PID制御偏差領域S1は、本実施形態のようなpHを基準としたアルカリ添加量MVの制御においては、pHの測定値PVが目標値SPを超過するいわゆるオーバーシュートに相当する。
このように、本実施形態におけるPID制御装置4では、特に、オーバーシュート(アルカリの過添加)を小さくするようにアルカリ添加量MVを制御している。
よって、本実施形態におけるPID制御装置4によれば、pHの測定値PVが目標値SPを上回る大きさ及び時間を低減できるため、アルカリ添加量MVを効率的に制御することができる。すなわち、アルカリ添加量MVを削減することができる。
(第3実施形態)
図5は、第3実施形態に係る制御装置を用いた水処理装置を示す概略構成図である。水処理装置20は、処理対象水(処理液)Wに対し酸を添加してpH制御を行うものである。この水処理装置20が図4に示した水処理装置10と違う点は、アルカリ貯留タンク11に代えて酸貯留タンク15を備えた点、及びPID制御装置4の判断部4aに代えて判断部14aを備えた点である。
ここで、本実施形態のように、酸の添加による水処理装置20にPID制御装置4を適用する場合、酸添加量の増加は処理対象水WのpHの下降に寄与するため、水処理装置10の場合とは逆となり、PID制御装置4による酸添加量の制御は、その操作量の増加が測定値の下降に寄与する制御となる。
この水処理装置20のPID制御装置4では、図6に示す処理を実行する。この処理では、図2に示したステップ1に代えて、判断部14aは、pH計9から取得する処理対象水W中のpHの測定値PVが、目標値SP未満であるか否かを判断する(S11)。以下のステップ2,3は、先の実施形態と同様に実行する。
このような制御により、図7に示すように、第1PID制御時間T1は第2PID制御時間T2よりも時間の長さが短くされ、第1PID制御最大偏差V1は第2PID制御最大偏差V2よりも小さくされると共に、第1PID制御偏差領域S1は、第2PID制御偏差領域S2よりも小さくされる。
この第1PID制御偏差領域S1は、本実施形態のようなpHを基準とした酸添加量MVの制御においては、pHの測定値PVが目標値SPを下回るいわゆるオーバーシュートに相当する。
このように、本実施形態におけるPID制御装置4では、特に、オーバーシュート(酸の過添加)を小さくするように酸添加量MVを制御している。
よって、本実施形態におけるPID制御装置4によれば、pHの測定値PVが目標値SPを下回る大きさ及び時間を低減できるため、酸添加量MVを効率的に制御することができる。すなわち、酸添加量MVを削減することができる。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、比例動作、積分動作、及び微分動作を組み合わせたPID制御を用いることとしたが、比例動作と積分動作とを組み合わせたPI制御を用いてもよい。
4…PID制御装置(制御装置)、4b…第1PID制御部(第1の制御手段)、4c…第2PID制御部(第2の制御手段)、MV…操作量、PV…測定値、SP…目標値、W…処理対象水(処理液)。

Claims (7)

  1. 処理液に対する操作量を制御して前記処理液中における測定値を所定の目標値に近づける制御装置において、
    前記操作量の増加が前記処理液中の測定値の上昇に寄与する場合に、
    前記測定値が所定の目標値以上であるときの前記測定値と該目標値との差である偏差の時間積分値を、前記測定値が前記目標値未満であるときの前記偏差の時間積分値よりも、絶対値が小さくなるように前記操作量を制御する制御部を備え、
    前記制御部は、測定値が目標値以上である場合における操作量の変化率が、測定値が目標値未満の場合における操作量の変化率より大きくなるように操作量を制御することを特徴とする、制御装置。
  2. 処理液に対する操作量を制御して前記処理液中における測定値を所定の目標値に近づける制御装置において、
    前記操作量の増加が前記処理液中の測定値の下降に寄与する場合に、
    前記測定値が所定の目標値未満であるときの前記測定値と該目標値との差である偏差の時間積分値を、前記測定値が前記目標値以上であるときの前記偏差の時間積分値よりも、絶対値が小さくなるように前記操作量を制御する制御部を備え、
    前記制御部は、測定値が目標値未満である場合における操作量の変化率が、測定値が目標値以上の場合における操作量の変化率より大きくなるように操作量を制御することを特徴とする、制御装置。
  3. 前記測定値は前記処理液中の溶存酸素濃度であり、前記操作量は前記処理液への曝気風量であることを特徴とする、請求項1記載の制御装置。
  4. 前記測定値は前記処理液中のpHであり、前記操作量は前記処理液へのアルカリ添加量であることを特徴とする、請求項1記載の制御装置。
  5. 前記測定値は前記処理液中のpHであり、前記操作量は前記処理液への酸添加量であることを特徴とする、請求項2記載の制御装置。
  6. 前記制御部は、前記操作量を制御するための、第1の制御手段と第2の制御手段とを備え、
    前記第1の制御手段は、前記測定値が前記目標値以上である場合に実行され、
    前記第2の制御手段は、前記測定値が前記目標値未満である場合に実行され、
    且つ、
    前記制御部は、前記第1の制御手段による操作量の変化率を、前記第2の制御手段による操作量の変化率よりも大きく変動させることを特徴とする、請求項1、3、4のいずれか一項記載の制御装置。
  7. 前記制御部は、前記操作量を制御するための、第1の制御手段と第2の制御手段とを備え、
    前記第1の制御手段は、前記測定値が前記目標値未満である場合に実行され、
    前記第2の制御手段は、前記測定値が前記目標値以上である場合に実行され、
    且つ、
    前記制御部は、前記第1の制御手段による操作量の変化率を、前記第2の制御手段による操作量の変化率よりも大きく変動させることを特徴とする、請求項2又は5記載の制御装置。
JP2009105278A 2009-04-23 2009-04-23 制御装置 Active JP5558025B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009105278A JP5558025B2 (ja) 2009-04-23 2009-04-23 制御装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009105278A JP5558025B2 (ja) 2009-04-23 2009-04-23 制御装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010253365A JP2010253365A (ja) 2010-11-11
JP5558025B2 true JP5558025B2 (ja) 2014-07-23

Family

ID=43314931

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009105278A Active JP5558025B2 (ja) 2009-04-23 2009-04-23 制御装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5558025B2 (ja)

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6031890A (ja) * 1983-08-01 1985-02-18 Toshiba Corp 水処理プラントの制御装置
JPS60163101A (ja) * 1984-02-03 1985-08-26 Nissin Electric Co Ltd プロセス制御装置
JP2588202B2 (ja) * 1987-07-22 1997-03-05 積水化学工業株式会社 Pid制御装置
JPS6426903A (en) * 1987-07-22 1989-01-30 Sekisui Chemical Co Ltd Pid controller
JPS6429902A (en) * 1987-07-24 1989-01-31 Sekisui Chemical Co Ltd Pid controller
JP2651153B2 (ja) * 1987-07-29 1997-09-10 積水化学工業株式会社 Pid制御装置
JPH03296802A (ja) * 1990-04-16 1991-12-27 Toshiba Corp 2自由度調節装置
JPH047602A (ja) * 1990-04-25 1992-01-13 Yaskawa Electric Corp Pid制御方法
JPH0484304A (ja) * 1990-07-27 1992-03-17 Hitachi Ltd コントローラの調整方法
JPH04294402A (ja) * 1991-03-22 1992-10-19 Chino Corp Pid制御装置
JP2818325B2 (ja) * 1991-07-31 1998-10-30 株式会社東芝 2自由度調節装置
JPH0756639A (ja) * 1993-08-11 1995-03-03 Toshiba Corp 廃水処理設備のph制御装置
JP3352171B2 (ja) * 1993-09-14 2002-12-03 株式会社東芝 溶液の中和制御方法
JPH07319504A (ja) * 1994-05-20 1995-12-08 Chino Corp 制御装置
JP2004136186A (ja) * 2002-10-16 2004-05-13 Jfe Steel Kk 工場排水のpH制御方法及び装置
JP4355894B2 (ja) * 2003-01-10 2009-11-04 栗田工業株式会社 pH調整剤の自動注入装置
JP2005092267A (ja) * 2003-09-12 2005-04-07 Manabu Kosaka アンチワインドアップ制御方法およびその装置
JP5001659B2 (ja) * 2007-01-04 2012-08-15 住重関西施設管理株式会社 溶存酸素量制御装置
JP2010020704A (ja) * 2008-07-14 2010-01-28 Sinfonia Technology Co Ltd 制御装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010253365A (ja) 2010-11-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3336425B1 (en) Water quality management device, water treatment system, water quality management method, and water treatment system optimization program
KR101729932B1 (ko) 실시간 수처리 설비 감시 자동 제어 시스템
KR102571000B1 (ko) 공급 액체 제조 방법
JP2008523982A5 (ja)
ES2565819T3 (es) Método y configuración de dispositivo para el control automático de la dosificación de productos químicos
JP6655975B2 (ja) 曝気制御装置及び曝気制御方法
JP5558025B2 (ja) 制御装置
CN106573807B (zh) 曝气风量计算装置以及水处理系统
JP4464851B2 (ja) 曝気装置の運転制御方法
JP2002219480A (ja) 曝気槽の溶存酸素濃度の制御装置
JP4355894B2 (ja) pH調整剤の自動注入装置
JP4908016B2 (ja) 排水処理の制御システム及び制御方法
JPH09122681A (ja) 水質制御装置
JP5001659B2 (ja) 溶存酸素量制御装置
CN115140816B (zh) 一种水净化的加药方法、装置及设备
JP6949780B2 (ja) パージ方法、パージのための制御装置、および制御装置を備えるシステム
JP3376620B2 (ja) 生物学的脱窒素処理装置及び生物学的脱窒素処理方法
WO2021070552A1 (ja) 水処理システム、水処理方法およびプログラム
JP7170949B1 (ja) 曝気量制御装置および曝気量制御方法
JPH0756639A (ja) 廃水処理設備のph制御装置
JP2003260471A (ja) 処理水の残留塩素制御装置
JP7023608B2 (ja) 汚水処理装置
JP2008188548A (ja) 好気性排水処理における汚泥発生の抑制法
JPH0443718B2 (ja)
JP7023609B2 (ja) 汚水処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A625 Written request for application examination (by other person)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A625

Effective date: 20111107

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130110

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130129

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130328

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140107

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140310

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140603

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140604

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5558025

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350