JP5540030B2 - 光学アセンブリ - Google Patents
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Description
有利なことには、本発明の実施例は、マニピュレータを含み、マニピュレータがアクティブな駆動要素であるか、それを含み、好ましくは、マニピュレータは、電子要素、センサ、又はアクチュエータ又は他の非接触測定のための装置を有する。
更に、マニピュレータは、受動減衰要素、具体的には、ばね、好ましくは、柔軟なばねによってハウジングに取付けられると有利である。
更に、マニピュレータは、ハウジングの内部においてマニピュレータに発生する熱の熱伝導を避けるために断熱材によってハウジングに結合されてもよい。
オブジェクティブ又は露光システムからの熱を防止する更なる手段は、マニピュレータを、接続又は熱を伝えるリンクによって冷却要素に接続することを含む。
本発明は、システムに関し、有利なことには、センサが装置の外部に配置され、センサが電気的、磁気的又は電磁気センサ、特に、光学センサである。
有利なことには、冷却要素がマニピュレータとセンサとの間に配置されている。
他の利点は、検出器によって生成される値によって制御可能である冷却要素を含み、熱を受容し、及び/又は冷却することによって相殺する。生成された熱の量が検出器によって測定されてもよく、冷却要素、具体的には、ペルチエ素子に冷却による熱を一様にするための電圧が供給されてもよい。
良好な分離を提供するために、好ましくは、マニピュレータ及び/又はセンサがハウジングの内部側に配置される。
システムの好ましい実施態様では、ハウジングの内部が外部環境に対して過剰の圧力を有する。
本発明によれば、少なくとも1つのマニピュレータがステップモータを含み、それによって光学素子が調整可能である。光学素子は、開ループ制御又は閉ループ制御で用いられるステップモータにより精密に調整されうる。
本発明によれば、この問題は上述のシステムによって解消でき、マニピュレータはソリッドボディヒンジによってかけられた力と対抗するか、変位に依存してソリッドボディヒンジによって作用する力又はトルクを少なくとも部分的に相殺する要素を備える。
磁石を別にして、ばねや重りのような他の要素も重さやトルクを相殺するために適用されうる。同様にして、磁石またはばねの代わりに電磁力が適用されうる。
Claims (39)
- マイクロリソグラフィ投影露光システムであって、少なくとも1つの光学素子、具体的には、レンズ、ミラー、絞りを有するオブジェクティブ、又は露光システムにおける光学システムあるいはアセンブリを備え、少なくとも1つの素子がマニピュレータによって影響を受けることができ、マニピュレータが精密な調整、又は光学素子又は複数の光学素子の微細な調整のための機構を含み、
前記少なくとも1つのマニピュレータ(70)がステップモータ(58,71)を含み、それによって前記光学素子が調整可能であり、
前記マニピュレータ(70)及び/又は前記ステップモータ(58,71)がハウジング内部に配置されている、
マイクロリソグラフィ投影露光システム。 - 光学素子が少なくとも1つのマニピュレータによって影響を受け得る請求項1記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- ステップモータ(58,71)が減速ギア(60,74)によって光学素子に接続されている請求項1又は2に記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- ステップモータ(58,71)及び/又は減速ギア(60,74)が、偏心駆動または偏心シャフト及び/又は偏心シャフト(59、72)を含む請求項2又は3に記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- シャフト(59,72)が0.2mmと2mmとの間で偏心している請求項2ないし4のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- 機械的減衰手段、具体的には、レバー(60,74)が設けられ、それにより単一のレバーの代わりに、複数のレバーがソリッドボディヒンジによって相互接続に適用される請求項2ないし5のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- マイクロハーモニック減衰駆動ギアを減速ギアとして備える請求項2ないし6のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- ステップモータ(58,71)及び/又は減速ギア(60,74)の領域或いは分野において、フレキシブルな構造、具体的には、ソリッドボディヒンジの、モノリシックな、及び/又はクリアランスのない、与圧付与されたボールベアリング又は転がり軸受けを備える請求項2ないし7のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- シャフト(59,72)及び/又は減速ギア(60,74)の運動が、センサ(80,81)によって測定される請求項2ないし8のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- マイクロリソグラフィ投影露光システムであって、ソリッドボディヒンジを有するマニピュレータによって影響を受けうる少なくとも1つの光学素子を有するハウジングの内部の光学システム又は配置を備え、マニピュレータは、ソリッドボディヒンジによってかけられた力と対抗するか、変位に依存してソリッドボディヒンジによって作用する力又はトルクを少なくとも部分的に相殺する、要素(5,6,11,15,19)を含むマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- 素子が磁石(5,6,11)、重り(15)又はばね(19)である請求項10記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- ソリッドボディヒンジのばね力に対抗するか、それを相殺するように、磁石、具体的には、電磁石がマニピュレータに設置されている請求項10又は11記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- 要素(15,19)がレバー(14,16)によってソリッドボディヒンジ(20)でヒンジ運動するようになっている請求項9ないし12のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- ソリッドボディヒンジ(4)又は複数のソリッドボディヒンジに作用する駆動アーム(3)の両側面に、駆動アーム(3)へ力をかける要素(5,6)が設けられ、又は変位又はトルクに依存してソリッドボディヒンジ(4)によって生成する力を少なくとも部分的に相殺する請求項9ないし13のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- マイクロリソグラフィ投影露光システムであって、第1及び第2の手段を有するマニピュレータによって影響を受け得る少なくとも1つの光学素子を有する光学システムを備え、第1手段が請求項8ないし12のいずれかのシステムに関して反発力及び/又は反発トルクを生成し、マニピュレータは、第1手段によって生成された反発力及び/又は反発トルクと対抗し、第1手段によって生成された力及び/又はトルクを少なくとも部分的に相殺する第2手段(5,6,11,15,19)を備えるマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- 第2手段が第1手段の力及び/又はトルクを相殺する請求項15記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- 第1手段の力及び/又はトルクが過度に相殺されている請求項15又は16記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- 第1手段が弾性ソリッドボディヒンジとして設計されているヒンジを含む請求項15ないし17のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- 第2手段が磁石、重り、ばね、又は蓄電器又はこれらの要素の結合を含む請求項15ないし18のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- 磁石、重り、又はばねが要素として用いられ、付加的に、要素がレバーによってソリッドボディヒンジに適用される請求項15ないし19のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
- 光学アセンブリであって、
内側を有するハウジングと
前記ハウジングの内側に配置された光学素子と
前記光学素子の少なくとも一つの特性を測定するように構成された、前記ハウジングの外側に配置されたセンサと、
を備え、
前記光学アセンブリはマイクロリソグラフィ光学アセンブリであることを特徴とする光学アセンブリ。 - 前記光学素子の前記少なくとも一つの特性は、前記光学素子の位置であることを特徴とする、請求項21に記載の光学アセンブリ。
- 前記光学アセンブリは投影オブジェクティブであることを特徴とする、請求項21に記載の光学アセンブリ。
- 前記センサは、電気的センサ、磁気的センサ、及び電磁気センサからなる群から選択される要素を備えることを特徴とする、請求項21に記載の光学アセンブリ。
- 前記センサは、光学センサであることを特徴とする、請求項21に記載の光学アセンブリ。
- 前記センサを取り囲む冷却ジャケットを更に備える、請求項21に記載の光学アセンブリ。
- 前記センサの近くに冷却要素を更に備える、請求項21に記載の光学アセンブリ。
- 前記センサを取り囲む断熱材を更に備える、請求項21に記載の光学アセンブリ。
- マニピュレータ及び冷却要素を更に備え、前記冷却要素は、前記マニピュレータと前記センサとの間に配置されていることを特徴とする、請求項21に記載の光学アセンブリ。
- 前記ハウジングの外側に配置されたマニピュレータを更に備える、請求項21に記載の光学アセンブリ。
- 前記マニピュレータは前記センサに接続されていることを特徴とする、請求項30に記載の光学アセンブリ。
- 前記光学素子は、前記マニピュレータによって影響可能であることを特徴とする、請求項30に記載の光学アセンブリ。
- マニピュレータ及び分離要素を更に備え、前記分離要素は、前記マニピュレータを前記ハウジングから分離することを特徴とする、請求項21に記載の光学アセンブリ。
- 保持具を更に備え、前記分離要素は前記保持具内に配置されることを特徴とする、請求項33に記載の光学アセンブリ。
- 前記マニピュレータは前記分離要素に連結され、前記分離要素は、前記光学素子の所望の運動に伴う損傷運動を分離することが可能なように構成されていることを特徴とする、請求項33に記載の光学アセンブリ。
- 前記分離要素は、前記光学素子の位置を変えるか、又は、前記光学素子を移動させるための、所望の運動を前記ハウジングの内側に伝えるように構成されたダンパを有することを特徴とする、請求項35に記載の光学アセンブリ。
- 光学アセンブリであって、
内側を有するハウジングと
前記ハウジングの内側に配置された光学素子と
前記光学素子の少なくとも一つの特性を測定するように構成された、前記ハウジングから分離されたセンサと、
を備え、
前記光学アセンブリはマイクロリソグラフィ光学アセンブリであることを特徴とする光学アセンブリ。 - 前記センサを前記ハウジングから分離させる分離要素を更に備える、請求項37に記載の光学アセンブリ。
- 前記ハウジングの外側に配置されたマニピュレータを更に備え、前記光学素子を影響可能なように、前記マニピュレータは前記センサに接続されていることを特徴とする、請求項37に記載の光学アセンブリ。
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