JP2008529076A5

JP2008529076A5 -

Info

Publication number: JP2008529076A5
Application number: JP2007552577A
Authority: JP
Filing date: 2006-01-26
Publication date: 2010-10-14
Anticipated expiration: 2026-01-26

Claims

マイクロリソグラフィ投影露光システムであって、
システム内、具体的には、オブジェクティブ（１，８）内、又は照明或いは露光システムに内に支持された光学アセンブリを備え、
ハウジング内に少なくとも１つの光学素子、具体的にはレンズ（３４，３５）、ミラー、又は絞り（９）を有し、
少なくとも１つの光学素子が少なくとも１つのマニピュレータによって影響可能であり、
少なくとも１つのマニピュレータ（１０，２２，２５）がハウジング外か、分離手段の助けにより完全又は大方分離される保持手段内のいずれかに配置され、
マニピュレータ（１０，２２，２５）とマニピュレータ（１０，２２，２５）によって影響を受ける素子との間の有効な結合がシステム内に提供されているマイクロリソグラフィ投
影露光システム。
請求項１記載のマイクロリソグラフィ投影露光システムであって、少なくとも１つのマニピュレータ（１０，２２，２５）がアクティブな駆動要素であるか、又はそれを含み、好ましくは、マニピュレータ（１０，２２，２５）は、電子要素、センサ、又はアクチュエータ又は他の非接触測定のための装置を有する、マイクロリソグラフィ投影露光システム。
請求項１又は２記載のマイクロリソグラフィ投影露光システムであって、少なくとも１つのマニピュレータが、測定装置、具体的には、レーザ、又は電子要素、又は非接触測定のための他の測定装置、駆動要素、具体的にはモータ又はアクチュエータの運動を記録し、制御コンピュータにこれらを送るためのアクチュエータを含む、マイクロリソグラフィ投影露光システム。
請求項３記載のマイクロリソグラフィ投影露光システムであって、マニピュレータが所望の運動と重なる振動としての損傷運動を分離する分離要素に結合されているマイクロリソグラフィ投影露光システム。
請求項４記載のマイクロリソグラフィ投影露光システムであって、位置の変更又は光学素子のシフト、即ち、その高さの変更のために、分離要素が、単一の所望の運動、具体的には、シャフト又は押すあるいは駆動するロッドの運動をハウジング内に伝えるダンパを備える、マイクロリソグラフィ投影露光システム。
シャフト、具体的には、フレキシブル又はカーダニック（cardanic）シャフト、ねじ、紐、ロッド、具体的には、接続ロッドによって構成されたマニピュレータ（１０，２２，２５）と素子との間の有効な接続がされ、装置が複数のロッド又はばねを有する、請求１ないし５のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
有効な接続を実現する手段が少なくともある範囲の長さの断熱材料からなる請求項６記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
マニピュレータ（１０，２２，２５）が、素子の内部と外部との間に機械的接続がない状態で電場、磁場、電場と磁場の結合磁場要素により影響を与える請求項１ないし７のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
少なくとも１つのマニピュレータ及び／又は測定装置は、制御コンピュータ又はその他のユニットに、具体的にはインターフェースを介して接続され、支持部及び／又はハウジングから来る信号を評価する請求項１ないし８のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
制御コンピュータはマニピュレータ、測定装置及び／又はハウジングの内部に配置されたユニットのための信号を生成する請求項９記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
マニピュレータ（１０，２２，２５）は、モータ及び／又はアクチュエータを含み、モータは電気モータつまり、回転又はリニアモータである請求項１ないし１０のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
マニピュレータ（１０，２２，２５）は、空圧又は液圧モータを備える請求項１ないし１０に記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
素子の特性がシステムの外部に配置されたセンサによって測定され、センサが電気的、磁気的又電磁気センサ、特に、光学センサである請求項１ないし１２のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
センサが冷却ジャケットによって取り囲まれているか、又は冷却要素がセンサの近くに配置されているか、又はセンサが断熱材によって取り囲まれている請求項１３記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
冷却要素がマニピュレータとセンサとの間に配置されている請求項１３に記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
マイクロリソグラフィ投影露光システムであって、少なくとも１つの光学素子、具体的には、レンズ、ミラー、絞りを有するオブジェクティブ、又は露光システムにおける光学システムあるいはアセンブリを備え、少なくとも１つの素子がマニピュレータによって影響を受けることができ、マニピュレータが精密な調整、又は光学素子又は複数の光学素子の微細な調整のための機構を含むマイクロリソグラフィ投影露光システム。
光学素子が少なくとも1つのマニピュレータによって影響を受け得る請求項１６記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
少なくとも１つのマニピュレータ（７０）がステップモータ（５８，７１）を含み、それによって光学素子が調整可能である請求項１６又は１７記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
マニピュレータ（７０）及び／又はステップモータ（５８，７１）がハウジング内に配置されている請求項１８記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
ステップモータ（５８，７１）が減速ギア（６０，７４）によって光学素子に接続されている請求項１８又は１９に記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
ステップモータ（５８，７１）及び／又は減速ギア（６０，７４）が、偏心駆動または偏心シャフト及び／又は偏心シャフト（５９、７２）を含む請求項１７ないし２０のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
シャフト（５９，７２）が０．２ｍｍと２ｍｍとの間で偏心している請求項１７ないし２１のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
機械的減衰手段、具体的には、レバー（６０，７４）が設けられ、それにより単一のレバーの代わりに、複数のレバーがソリッドボディヒンジによって相互接続に適用される請求項１７ないし２２のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
マイクロハーモニック減衰駆動ギアを減速ギアとして備える請求項１７ないし２３のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
ステップモータ（５８，７１）及び／又は減速ギア（６０，７４）の領域或いは分野において、フレキシブルな構造、具体的には、ソリッドボディヒンジの、モノリシックな、及び／又はクリアランスのない、与圧付与されたボールベアリング又は転がり軸受けを備える請求項１７ないし２４のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
シャフト（５９，７２）及び／又は減速ギア（６０，７４）の運動が、センサ（８０，８１）によって測定される請求項１７ないし２５のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
マイクロリソグラフィ投影露光システムであって、ソリッドボディヒンジを有するマニピュレータによって影響を受けうる少なくとも１つの光学素子を有するハウジングの内部の光学システム又は配置を備え、マニピュレータは、ソリッドボディヒンジによってかけられた力と対抗するか、変位に依存してソリッドボディヒンジによって作用する力又はトルクを少なくとも部分的に相殺する、要素（５，６，１１，１５，１９）を含むマイクロリソグラフィ投影露光システム。
素子が磁石（５，６，１１）、重り（１５）又はばね（１９）である請求項２７記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
ソリッドボディヒンジのばね力に対抗するか、それを相殺するように、磁石、具体的には、電磁石がマニピュレータに設置されている請求項２７又は２８記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
要素（１５，１９）がレバー（１４，１６）によってソリッドボディヒンジ（２０）でヒンジ運動するようになっている請求項２６ないし２９のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
ソリッドボディヒンジ（４）又は複数のソリッドボディヒンジに作用する駆動アーム（３）の両側面に、駆動アーム（３）へ力をかける要素（５，６）が設けられ、又は変位又はトルクに依存してソリッドボディヒンジ（４）によって生成する力を少なくとも部分的に相殺する請求項２６ないし３０のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
マイクロリソグラフィ投影露光システムであって、第１及び第２の手段を有するマニピュレータによって影響を受け得る少なくとも１つの光学素子を有する光学システムを備え、第１手段が請求項２５ないし２９のいずれかのシステムに関して反発力及び／又は反発トルクを生成し、マニピュレータは、第1手段によって生成された反発力及び／又は反発トルクと対抗し、第１手段によって生成された力及び／又はトルクを少なくとも部分的に相殺する第２手段（５，６，１１，１５，１９）を備えるマイクロリソグラフィ投影露光システム。
第２手段が第１手段の力及び／又はトルクを相殺する請求項３２記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
第１手段の力及び／又はトルクが過度に相殺されている請求項３２又は３３記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
第１手段が弾性ソリッドボディヒンジとして設計されているヒンジを含む請求項３２ないし３４のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
第２手段が磁石、重り、ばね、又は蓄電器又はこれらの要素の結合を含む請求項３２ないし３５のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
磁石、重り、又はばねが要素として用いられ、付加的に、要素がレバーによってソリッドボディヒンジに適用される請求項３２ないし３６のいずれかに記載のマイクロリソグラフィ投影露光システム。
請求項１ないし２６のいずれかのマイクロリソグラフィの露光投影システムにおける請求項３２ないし３７のいずれかのオブジェクティブ又は照明又は露光システムの応用。
光学アセンブリであって、
内側を有するハウジングと
前記ハウジングの内側に配置された光学素子と
前記光学素子の少なくとも一つの特性を測定するように構成された、前記ハウジングの外側に配置されたセンサと、
を備え、
前記光学アセンブリはマイクロリソグラフィ光学アセンブリであることを特徴とする光学アセンブリ。
前記光学素子の前記少なくとも一つの特性は、前記光学素子の位置であることを特徴とする、請求項３９に記載の光学アセンブリ。
前記光学アセンブリは投影オブジェクティブであることを特徴とする、請求項３９に記載の光学アセンブリ。
前記センサは、電気的センサ、磁気的センサ、及び電磁気センサからなる群から選択される要素を備えることを特徴とする、請求項３９に記載の光学アセンブリ。
前記センサは、光学センサであることを特徴とする、請求項３９に記載の光学アセンブリ。
前記センサを取り囲む冷却ジャケットを更に備える、請求項３９に記載の光学アセンブリ。
前記センサの近くに冷却要素を更に備える、請求項３９に記載の光学アセンブリ。
前記センサを取り囲む断熱材を更に備える、請求項３９に記載の光学アセンブリ。
マニピュレータ及び冷却要素を更に備え、前記冷却要素は、前記マニピュレータと前記センサとの間に配置されていることを特徴とする、請求項３９に記載の光学アセンブリ。
前記ハウジングの外側に配置されたマニピュレータを更に備える、請求項３９に記載の光学アセンブリ。
前記マニピュレータは前記センサに接続されていることを特徴とする、請求項４８に記載の光学アセンブリ。
前記光学素子は、前記マニピュレータによって影響可能であることを特徴とする、請求項４８に記載の光学アセンブリ。
マニピュレータ及び分離要素を更に備え、前記分離要素は、前記マニピュレータを前記ハウジングから分離することを特徴とする、請求項３９に記載の光学アセンブリ。
保持具を更に備え、前記分離要素は前記保持具内に配置されることを特徴とする、請求項５１に記載の光学アセンブリ。
前記マニピュレータは前記分離要素に連結され、前記分離要素は、前記光学素子の所望の運動に伴う損傷運動を分離することが可能なように構成されていることを特徴とする、請求項５１に記載の光学アセンブリ。
前記分離要素は、前記光学素子の位置を変えるか、又は、前記光学素子を移動させるための、所望の運動を前記ハウジングの内側に伝えるように構成されたダンパを有することを特徴とする、請求項５３に記載の光学アセンブリ。
光学アセンブリであって、
内側を有するハウジングと
前記ハウジングの内側に配置された光学素子と
前記光学素子の少なくとも一つの特性を測定するように構成された、前記ハウジングから分離されたセンサと、
を備え、
前記光学アセンブリはマイクロリソグラフィ光学アセンブリであることを特徴とする光学アセンブリ。
前記センサを前記ハウジングから分離させる分離要素を更に備える、請求項５５に記載の光学アセンブリ。
前記ハウジングの外側に配置されたマニピュレータを更に備え、前記光学素子を影響可能なように、前記マニピュレータは前記センサに接続されていることを特徴とする、請求項５５に記載の光学アセンブリ。