JP5515434B2 - 半導体装置及びその製造方法、固体撮像素子 - Google Patents
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Description
トレンチ内に形成される縦型トランジスタは、ゲート絶縁膜で覆われたトレンチ内にゲート電極の電極材料が埋め込まれており、トレンチの側壁部及び底面部がチャネル部となる。
この構造により、フォトダイオードと転送ゲートとを基板の表面側に個別に形成する構造と比較して、フォトダイオードの面積を増やすことができるので、感度を向上することができる。
そのため、フォトリソグラフィとイオン注入によって電極を造り分ける、上述の簡易なプロセスを適用することができない。
次に、図6Bに示すように、電極層103の上に、縦型トランジスタ及び画素部のNMOSトランジスタのゲート電極のパターンに対応するフォトレジスト106を形成する。
次に、フォトレジスト106をマスクとして電極層103を加工することにより、図6Cに示すように、縦型トランジスタのn型のゲート電極103a及び画素部のNMOSトランジスタのn型のゲート電極103bを形成する。
次に、図7Dに示すように、ゲート電極103a及びゲート電極103bを覆って、エッチングストップ膜となる酸化膜109を形成した後に、表面を覆って全面的に、電極層107を形成する。
次に、図7E〜図7Fに示すように、リソグラフィ、ドライエッチングにより、電極層107を加工して、ロジック部のNMOSトランジスタのゲート電極107aと、ロジック部のPMOSトランジスタのゲート電極107bを、形成する。
次に、図8Gに示すように、縦型トランジスタを含む画素部とロジック部のNMOSトランジスタとを覆って、フォトレジスト110を形成する。そして、このフォトレジスト110をマスクとして、ホウ素(B)をイオン注入し、ロジック部のPMOSトランジスタのゲート電極107bをp型にする。
このようにして、図8Hに示すように、縦型トランジスタ、画素部のNMOSトランジスタ、ロジックのNMOSトランジスタ及びPMOSトランジスタの各ゲート電極103a,103b,107a,107bを形成することができる。
このような半導体装置においても、ゲート電極層をNMOSトランジスタとPMOSトランジスタとで造り分けた場合に、固体撮像素子と同様に、生産性や製造歩留まりの問題を生じることになる。
そして、第1導電型の不純物が導入された電極層とその上の不純物が導入されていない電極層との積層構造であるゲート電極を含む、縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタを含む。
また、第1導電型の不純物が導入された電極層とその上の不純物が導入されていない電極層との積層構造であるゲート電極を含む、平面型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタを含む。
また、第1導電型の不純物と第2導電型の不純物がそれぞれ導入され、第2導電型の不純物が拡散されて全体が第2導電型の電極とされたゲート電極を含む、平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタを含む。
さらに、縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタの下又は上に形成された、トランジスタ以外の他の回路素子を含む。
そして、半導体基体に穴を形成し、この穴の内部を埋めて全面的に、第1導電型不純物を導入した電極層を形成する工程と、この第1導電型不純物を導入した電極層の上に、不純物を導入していない電極層を形成する工程とを含む。
また、2層が積層した電極層を、縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと平面型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタとの、各ゲート電極のパターンにパターニングする工程を含む。
さらに、平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタのゲート電極に、第2導電型の不純物をイオン注入する工程と、アニールにより、平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタのゲート電極に注入された第2導電型の不純物を拡散させてゲート電極全体を第2導電型とする工程とを含む。
また、第1導電型の不純物が導入された電極層とその上の不純物が導入されていない電極層との積層構造であるゲート電極を含み、フォトダイオードの上に形成された、転送ゲートとなる縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタを含む。
また、第1導電型の不純物が導入された電極層とその上の不純物が導入されていない電極層との積層構造であるゲート電極を含む、平面型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタを含む。
さらに、第1導電型の不純物と第2導電型の不純物がそれぞれ導入され、第2導電型の不純物が拡散されて全体が第2導電型の電極とされたゲート電極を含む、平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタとを含む。
そして、各トランジスタのゲート電極は、下層の電極層が同じである2層の積層構造を有しており、2層の電極層をパターニングすることにより同時に形成することが可能である。
また、平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタのゲート電極には、第2導電型不純物をイオン注入して、アニールによりゲート電極に注入された第2導電型の不純物を拡散させて、ゲート電極全体を第2導電型の電極に変える。これにより、第2導電型チャネルのMOSトランジスタのゲート電極として使用することができる。
また、半導体基体に穴を形成し、この穴の内部を埋めて全面的に、第1導電型不純物を導入した電極層を形成する。これにより、縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタのゲート電極は、穴の内部を第1導電型の不純物を導入した、第1導電型の不純物濃度の高い電極層で埋めることができる。
さらに、第1導電型の不純物を導入した電極層の上に、不純物を導入していない電極層を形成するので、平面型のMOSトランジスタではゲート電極の第1導電型の不純物濃度を比較的低くすることができる。そして、第2導電型チャネルのMOSトランジスタでは、第2導電型の不純物のイオン注入により、比較的容易に、ゲート電極を第1導電型から第2導電型に変えることができる。
そして、各トランジスタのゲート電極は、下層の電極層が同じである2層の積層構造を有しており、2層の電極層をパターニングすることにより同時に形成することが可能である。
また、エッチング工程の回数が少なくなることから、エッチング加工後に残る残渣や、トレンチ素子分離層(STI)におけるディボットの発生を低減して、製造歩留まりの向上を図ることができる。
従って、本発明により、縦型のトランジスタを含む半導体装置や固体撮像素子を、生産性良く、歩留まり良く製造することが可能になる。
これにより、半導体装置の小型化、固体撮像素子の小型化や多画素化が可能になる。
また、本発明の固体撮像素子では、各画素のフォトダイオードの面積を広げて、感度を向上することも可能になる。
なお、説明は以下の順序で行う。
1.第1の実施の形態
2.変形例
本発明の半導体装置の第1の実施の形態として、固体撮像素子の概略構成図(断面図)を、図1A及び図1Bに示す。図1Aは、画素部の断面図であり、図1Bはロジック部の断面図である。本実施の形態は、本発明をCMOS型固体撮像素子(CMOSイメージセンサ)に適用した場合である。
縦型のNMOSトランジスタの下方には、シリコン基板等の半導体基体11の下側(裏面側)に、受光部のフォトダイオードを構成するn型不純物領域2が形成されている。このn型不純物領域2は、下側の低濃度のn型不純物領域2Bと、上側の高濃度のn型不純物領域(n+)2Aとから、構成されている。
n型不純物領域2の上方の、半導体基体11の表面付近には、n型の高濃度(n+)の不純物領域3が形成されている。
半導体基体11の表面付近のn型の高濃度の不純物領域3は、フォトダイオードから転送ゲートTGの動作によって信号電荷が読み出されるものであり、いわゆるフローティングディフュージョン(FD)として使用される。
ロジック部のNMOSトランジスタでは、半導体基体11に埋め込まれた絶縁層から成るトレンチ素子分離層14で分離された領域内に、p型ウエル領域5が形成されている。このp型ウエル領域5の表面付近に、n型の高濃度(n+)のソース・ドレイン領域6が形成され、ゲート絶縁膜12の上にゲート電極23が形成されている。
ロジック部のPMOSトランジスタでは、トレンチ素子分離層14で分離された領域内に、n型ウエル領域7が形成されている。このn型ウエル領域7の表面付近に、p型の高濃度(p+)のソース・ドレイン領域8が形成され、ゲート絶縁膜12の上にゲート電極24が形成されている。
縦型のNMOSトランジスタと、画素部のNMOSトランジスタと、ロジック部のNMOSトランジスタとでは、各ゲート電極21,22,23の上層の電極層は、不純物が導入されていない電極層16となっている。
ロジック部のPMOSトランジスタでは、ゲート電極24の上層の電極層は、p型不純物(例えば、ホウ素)が導入された電極層17となっている。
そして、各画素20に対応して、半導体基体11の裏面に、カラーフィルタ9及びオンチップレンズ10が形成されている。
半導体基体11の表面には、ゲート絶縁膜12及びゲート電極21を覆って絶縁層19が形成されている。この絶縁層19の内部に、配線層18が形成されている。なお、これら配線層18及び絶縁層19は、図示しないが、画素部の他のトランジスタの上方やロジック部のトランジスタの上方にも形成されている。
図3に示すように、n型不純物領域2を含むフォトダイオードが、ゲート電極21による転送ゲートTGを介してフローティングディフュージョンであるn型の高濃度の不純物領域3に接続されている。また、このフローティングディフュージョン(3)は、リセットトランジスタRSTの一方のソース・ドレイン領域と、増幅トランジスタAmpのゲートとに接続されている。増幅トランジスタAmpの一方のソース・ドレイン領域には、選択トランジスタSELの一方のソース・ドレイン領域が接続されている。リセットトランジスタRSTの他方のソース・ドレイン領域と、増幅トランジスタAmpの他方のソース・ドレイン領域とには、電源電位VDDが接続されている。選択トランジスタSELの他方のソース・ドレイン領域には、信号線25が接続されている。
即ち、各画素の等価回路図は、転送トランジスタに平面型トランジスタを使用した、従来の構成と同様になっている。
まず、半導体基体11に、ドライエッチングにより、縦型トランジスタのゲート電極用の穴を形成した後に、例えば薄いシリコン酸化膜により、ゲート絶縁膜12を形成する。このとき、ゲート絶縁膜12としては、シリコンの面方位への依存性が低く、シリコンのコーナー部の丸めやラフネス低減に効果のある、ラジカル酸化プロセスを採用して酸化シリコン膜を形成すると良い。ラジカル酸化は、例えば、H2やO2を原料ガスとして、800℃〜1100℃で処理を行う。
その後、半導体基体11にトレンチ素子分離層14用の穴を形成し、例えば酸化シリコン層によりこの穴を埋めてトレンチ素子分離層14を形成する。また、例えば酸化シリコン層により、画素部の素子分離層13を形成する。
さらに、全面的に、n型不純物が導入された電極層15を形成する。例えば、PDAS(リンを含んだアモルファスシリコン層)を、500〜600℃で、SiH4ガス、H2ガス、PH3ガスを用いて、CVD法(化学的気相成長法)によって形成する。PDASのリンの濃度は、好ましくは、0.12〜0.25wt%とする。
なお、電極層15の膜厚は、縦型トランジスタのゲート電極21用の穴の径に合わせて、その半分以上とする。例えば、穴径が200nmである場合には、電極層15の膜厚を100nm以上とする。これにより、穴の内部は電極層15のみで埋め込まれる。
さらに、電極層15の上に、不純物を導入しない電極層16を形成する(以上、図4Aを参照)。例えば、アモルファスシリコン層を、電極層15の膜厚100nmに対して、膜厚80nmで形成する。
次に、図4Cに示すように、レジスト31をマスクとして、電極層15及び電極層16をパターニングして、レジスト31を除去する。これにより、各トランジスタのゲート電極21,22,23,24が形成される。
続いて、図5Eに示すように、レジスト32を除去する。電極層16は、p型不純物のイオン注入により、p型不純物が導入された電極層17に変化する。なお、このとき、p型不純物を、n型不純物が導入された電極層15にも注入させるので、電極層15がn型不純物とp型不純物とを有する構成に変化するが、符号は同じままとしている。
なお、アニールによって、電極層15のn型不純物がノンドープの電極層16に拡散するため、積層構造の電極層において、最終的なn型層とノンドープ層との境は成膜時から多少変化する。
このようにして、本実施の形態の固体撮像素子1を製造することができる。
一方、平面型トランジスタのゲート電極のPDAS/アモルファスシリコンの積層部では、後の工程のアニールによるリンのアモルファスシリコン方向への拡散により、リンの濃度が元の0.25wt%から0.14〜0.15wt%にまで低下する。
即ち、縦型トランジスタのゲート電極21のゲート絶縁膜12との界面付近のリンの濃度が、平面型のNMOSトランジスタのゲート電極22,23のゲート絶縁膜12との界面付近のリンの濃度よりも高くなる。
従って、積層構造の各電極層15,16の膜厚の制御や、PDAS(電極層15)のリンの濃度の制御により、平面型トランジスタにおいて、ゲート電極22,23,24を所望のリンの濃度に形成することが可能になる。
結晶粒の大きさは、PDASのリンの濃度に依存するため、リンの濃度を小さくすると結晶粒が小さくなり、ホウ素を注入するゲート電極24において良好なp型特性を得ることができる。
例えば、加速電圧を15eV〜22keV程度に制御すれば良い。これにより、半導体基体11へホウ素が突き抜けることを抑制しつつ、ホウ素のプロファイルをゲート絶縁膜12との界面寄りに制御することができる。
また、ロジック部のPMOSトランジスタのゲート電極24中のリンの分布は、ゲート電極24の特定の深さから表面に向かって単調に減少するプロファイルであることが好ましい。
また、フォトダイオードの面積を広げることができるので、固体撮像素子1の感度を向上することが可能になる。
従って、固体撮像素子1を備えたカメラ等の装置において、装置の小型化又は多画素化が可能になる、もしくは、感度を向上して低照度でも画像を得ることが可能になる。
即ち、縦型トランジスタを含む固体撮像素子1を、生産性良く、歩留まり良く製造することが可能になる。
縦型トランジスタでは、ゲート電極のリンの濃度が高いことが望ましく、平面型トランジスタでは、ゲート電極のリンの濃度が低いことが望ましい。本実施の形態によれば、この相反する特性を容易に実現することが可能になる。即ち、縦型トランジスタと、平面型トランジスタとで、それぞれのゲート電極の不純物濃度を調整して、各トランジスタにおいて望ましい特性を実現することが可能になる。
また、平面型のPMOSトランジスタでは、ゲート電極24のリンの濃度が低いので、ホウ素のイオン注入により、ゲート電極24をn型からp型に容易に変えることができる。
上述の実施の形態では、n型不純物としてリン(P)を、p型不純物としてホウ素(B)を、それぞれ導入していた。
本発明では、これらの不純物元素の組み合わせに限定されるものではなく、n型不純物又はp型不純物に他の元素を使用しても構わない。
本発明は、このような形成方法及び構成に限定されるものではない。
例えば、電極層15,16をアモルファスシリコン層で形成して、そのまま結晶化させないでゲート電極を形成しても構わない。この場合、最終的に形成されるゲート電極はアモルファスシリコン層である。
また例えば、電極層15,16を多結晶シリコン層で形成して、そのままゲート電極を形成しても構わない。この場合、最終的に形成されるゲート電極は多結晶シリコン層である。多結晶シリコン層を形成する場合でも、アモルファスシリコン層を形成する場合と同様に、SiH4ガス、H2ガス、PH3ガスを用いて、CVD法(化学的気相成長法)によって形成することができる。ただし、CVD法の条件(温度等)は、アモルファスシリコン層を形成する場合とは若干異なる。
また、半導体基体11に、シリコン以外の半導体を使用しても構わない。
他の回路素子としては、抵抗器、キャパシタ、メモリ素子、フォトダイオード等が挙げられる。フォトダイオードを有する半導体装置としては、画素毎にフォトダイオードを有する固体撮像素子とは違って単体のフォトダイオードから成る受光素子を備えた半導体装置、例えば、赤外線センサや、レーザ光を受光検出する装置が挙げられる。
また、他の回路素子は、縦型トランジスタの下に限らず、縦型トランジスタのゲート電極よりも上に形成しても構わない。
即ち、本発明では、縦型トランジスタが第1導電型チャネルのMOSトランジスタである場合、縦型トランジスタのゲート電極を第1導電型とするために、第1導電型不純物を導入した電極層の上に、不純物を導入していない電極層を形成する。一方、第2導電型チャネルの平面MOSトランジスタについては、電極層の積層構造に対して、第2導電型不純物をイオン注入して、ゲート電極を第2導電型にする。
Claims (15)
- 半導体基体にゲート電極が埋め込まれて形成された縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと、前記半導体基体上にゲート電極が形成された平面型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと、前記半導体基体上にゲート電極が形成された平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタとを有する半導体装置であって、
第1導電型の不純物が導入された電極層と、その上の不純物が導入されていない電極層との積層構造である前記ゲート電極を含む、前記縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと、
第1導電型の不純物が導入された電極層と、その上の不純物が導入されていない電極層との積層構造である前記ゲート電極を含む、前記平面型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと、
第1導電型の不純物と第2導電型の不純物がそれぞれ導入され、前記第2導電型の不純物が拡散されて全体が第2導電型の電極とされた前記ゲート電極を含む、前記平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタと、
前記縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタの下又は上に形成された、トランジスタ以外の他の回路素子とを含む、
半導体装置。 - 前記第1導電型がn型であり、前記第2導電型がp型である、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第1導電型の不純物がリンであり、前記第2導電型の不純物がホウ素である、請求項2に記載の半導体装置。
- 前記縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタの前記ゲート電極のゲート絶縁膜との界面付近のリンの濃度が0.15〜0.25wt%である、請求項3に記載の半導体装置。
- 前記縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタの前記ゲート電極のゲート絶縁膜との界面付近の第1導電型不純物の濃度が、前記平面型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタの前記ゲート電極のゲート絶縁膜との界面付近の第1導電型不純物の濃度よりも高い、請求項1に記載の半導体装置。
- 半導体基体にゲート電極が埋め込まれて形成された縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと、前記半導体基体上にゲート電極が形成された平面型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと、前記半導体基体上にゲート電極が形成された平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタとを有する半導体装置を製造する方法であって、
前記半導体基体に穴を形成し、前記穴の内部を埋めて全面的に、第1導電型不純物を導入した電極層を形成する工程と、
前記第1導電型不純物を導入した電極層の上に、不純物を導入していない電極層を形成する工程と、
2層が積層した前記電極層を、前記縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと前記平面型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと前記平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタとの、各ゲート電極のパターンにパターニングする工程と、
前記平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタの前記ゲート電極に、第2導電型の不純物をイオン注入する工程と、
アニールにより、前記平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタの前記ゲート電極に注入された前記第2導電型の不純物を拡散させて前記ゲート電極全体を第2導電型とする工程とを含む
半導体装置の製造方法。 - 前記第1導電型がn型であり、前記第2導電型がp型である、請求項6に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1導電型の不純物がリンであり、前記第2導電型の不純物がホウ素である、請求項7に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1導電型不純物を導入した電極層の厚さを、前記半導体基体に形成した前記穴の半径以上とする、請求項6に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記リンを導入した電極層を、SiH4,H2,PH3ガスを用いたCVD法により、アモルファスシリコン層として形成する、請求項8に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記リンを導入した電極層を、SiH4,H2,PH3ガスを用いたCVD法により、多結晶シリコン層として形成する、請求項8に記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体基体内に画素毎に形成されたフォトダイオードと、前記半導体基体にゲート電極が埋め込まれて形成された縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと、前記半導体基体上にゲート電極が形成された平面型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと、前記半導体基体上にゲート電極が形成された平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタとを有する固体撮像素子であって、
前記フォトダイオードと、
第1導電型の不純物が導入された電極層と、その上の不純物が導入されていない電極層との積層構造である前記ゲート電極を含み、前記フォトダイオードの上に形成された、転送ゲートとなる前記縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと、
第1導電型の不純物が導入された電極層と、その上の不純物が導入されていない電極層との積層構造である前記ゲート電極を含む、前記平面型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタと、
第1導電型の不純物と第2導電型の不純物がそれぞれ導入され、前記第2導電型の不純物が拡散されて全体が第2導電型の電極とされた前記ゲート電極を含む、前記平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタとを含む、
固体撮像素子。 - フォトダイオード及び前記縦型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタ及び前記平面型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタを有する画素部と、前記平面型の第1導電型チャネルのMOSトランジスタ及び前記平面型の第2導電型チャネルのMOSトランジスタを有するロジック部とを含む、請求項12に記載の固体撮像素子。
- 前記第1導電型がn型であり、前記第2導電型がp型である、請求項12に記載の固体撮像素子。
- 前記第1導電型の不純物がリンであり、前記第2導電型の不純物がホウ素である、請求項14に記載の固体撮像素子。
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