JP5503602B2 - 処理液供給装置、処理液供給方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Description
2 カセットステーション
3 処理ステーション
4 露光装置
5 インターフェイスステーション
6 制御装置
10 カセット搬入部
11 ウェハ搬送部
12 カセット載置台
13 載置板
20 搬送路
21 ウェハ搬送装置
30 現像処理ユニット
31 下部反射防止膜形成ユニット
32 レジスト塗布ユニット
33 上部反射防止膜形成ユニット
34 ケミカル室
40 熱処理ユニット
41 アドヒージョンユニット
42 周辺露光ユニット
70 ウェハ搬送装置
80 シャトル搬送装置
90 ウェハ搬送装置
100 ウェハ搬送装置
120 処理容器
130 スピンチャック
132 カップ
140 レール
141 アーム
142 塗布ノズル
190 現像液供給装置
200 純水供給装置
201 現像液貯槽
202 現像液供給管
203 中間貯槽
204 電極
205 電源ユニット
210 洗浄液供給管
211 洗浄液供給源
212 バルブ
220 廃液管
221 バルブ
222 廃液部
223 撹拌機
230 ポンプ
231 バルブ
240 電極
241 昇降機構
250 回転軸
251 電極
252 回転機構
260 電極
W ウェハ
D ウェハ搬送領域
C カセット
P 微小パーティクル
Claims (11)
- 基板に対して処理液を供給する供給ノズルに、処理液供給源から処理液供給管を通じて処理液を供給する処理液供給装置であって、
前記処理液供給管における前記処理液供給源と前記供給ノズルとの間に設けられ、前記処理液供給源から供給された処理液を一旦貯留する中間貯槽を有し、
前記中間貯槽は、当該中間貯槽の内部に貯留された処理液に直流電圧を印加する電極と、
前記電極に対して、極性反転自在に直流電圧を印加する電源ユニットと、
前記中間貯槽へ洗浄液を供給する洗浄液供給管と、を有することを特徴とする、処理液供給装置。 - 前記中間貯槽には、前記中間貯槽内部に貯留された処理液と前記電極とを相対的に移動させる撹拌機構が設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の処理液供給装置。
- 前記電極は、メッシュ状に形成されていることを特徴とする、請求項1または2のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
- 前記電極の正極又は負極のいずれか一方の極は、前記中間貯槽の底面に平行なメッシュ板状に形成されて、且つ前記中間貯槽の内側に設けられ、
他方の極は、前記中間貯槽の外側に設けられ、
前記撹拌機構は、前記中間貯槽の内部に設けられた方の極を上下方向に昇降させる昇降機構であることを特徴とする、請求項2に記載の処理液供給装置。 - 前記電極の正極又は負極のいずれか一方の極は、メッシュ板状に形成され、且つ前記中間貯槽の内側に、鉛直方向に延伸して設けられた回転軸に沿って設けられ、
他方の極は、前記中間貯槽の外側に設けられ、
前記撹拌機構は、前記回転軸を回転させる回転機構であることを特徴とする請求項2に記載の処理液供給装置。 - 前記中間貯槽から洗浄液を排出する廃液管を有することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
- 前記処理液供給管に複数の前記中間貯槽が並列に配置されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
- 基板に対して処理液を供給する供給ノズルに、処理液供給源から処理液供給管を通じて処理液を供給する処理液供給方法であって、
前記処理液供給源から供給された処理液を、前記処理液供給管における、前記処理液供給源と前記供給ノズルとの間に設けられた中間貯槽に一旦貯留し、
その後、前記中間貯槽に設けられた電極を介して、前記中間貯槽中の処理液に直流電圧を印加して処理液中の異物を電極に捕集し、
その後、異物が除去された前記中間貯槽内の処理液を前記供給ノズルに供給し、
前記供給ノズルへの処理液の供給を停止した後に、前記電極に印加した直流電圧の極性を反転又は前記電極への電圧の印加を停止し、
その後、前記中間貯槽に洗浄液を供給して前記中間貯槽内を洗浄することを特徴とする、処理液供給方法。 - 少なくとも前記電極に電圧を印加している間は、前記中間貯槽内部に貯留された処理液と前記電極とを相対的に移動させることを特徴とする、請求項8に記載の処理液供給方法。
- 請求項8または9に記載の処理液供給方法を処理液供給装置によって実行させるように、当該処理液供給装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項10に記載のプログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
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