JP5503601B2 - 処理液供給装置、処理液供給方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Description
2 カセットステーション
3 処理ステーション
4 露光装置
5 インターフェイスステーション
6 制御装置
10 カセット搬入部
11 ウェハ搬送部
12 カセット載置台
13 載置板
20 搬送路
21 ウェハ搬送装置
30 現像処理ユニット
31 下部反射防止膜形成ユニット
32 レジスト塗布ユニット
33 上部反射防止膜形成ユニット
34 ケミカル室
40 熱処理ユニット
41 アドヒージョンユニット
42 周辺露光ユニット
70 ウェハ搬送装置
80 シャトル搬送装置
90 ウェハ搬送装置
100 ウェハ搬送装置
120 処理容器
130 スピンチャック
132 カップ
140 レール
141 アーム
142 現像液ノズル
150 他のアーム
151 純水ノズル
190 現像液供給装置
200 純水供給装置
201 現像液貯槽
202 現像液供給管
205 フィルタ
210 ポンプ
211 バルブ
212 電極
213 電源ユニット
214 バルブ
215 洗浄液供給管
216 洗浄液供給源
217 バルブ
220 廃液管
221 バルブ
240 電極
250 電極
W ウェハ
D ウェハ搬送領域
C カセット
P 微小パーティクル
Claims (11)
- 基板に対して処理液を供給する供給ノズルに、処理液供給源から処理液供給管を通じて処理液を供給する処理液供給装置であって、
前記処理液供給管に設けられ、当該処理液供給管中の処理液に直流電圧を印加する電極と、
前記電極に対して、極性反転自在に直流電圧を印加する電源ユニットと、
前記処理液供給管に接続され、洗浄液供給源から当該処理液供給管に洗浄液を供給するための洗浄液供給管と、を有することを特徴とする、処理液供給装置。 - 前記電極の正極と負極は、前記処理液供給管に沿って当該処理液供給管中の処理液の流れ方向に延存し且つ互いに対向して設けられることを特徴とする、請求項1に記載の処理液供給装置。
- 前記電極は、前記処理液供給管の中心軸と同心円状に設けられることを特徴とする、請求項1に記載の処理液供給装置。
- 前記電極の正極又は負極の少なくともいずれか一方の極は、前記処理液供給管の内側に設けられることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
- 複数の前記処理液供給管が互いに平行に設けられ、
隣り合う複数の前記処理液供給管の間に、前記電極の正極と負極が交互に前記各処理液供給管を挟んで設けられることを特徴とする、請求項2に記載の処理液供給装置。 - 前記処理液供給管における前記電極が設けられた位置を通過した洗浄液を、前記処理液供給管から排出する廃液管を有することを特徴とする、
請求項1〜5のいずれか一項に記載の処理液供給装置。 - 前記洗浄液供給管は、前記処理液供給管における前記電極の下流に接続され、
前記廃液管は、前記処理液供給管における前記電極の上流側に接続されていることを特徴とする、請求項6に記載の処理液供給装置。 - 基板に対して処理液を供給する供給ノズルに、処理液供給源から処理液供給管を通じて処理液を供給する処理液供給方法であって、
前記処理液供給管に設けられた電極を介して当該処理液供給管中の処理液に直流電圧を印加することで、処理液中の異物を電極で捕集しながら基板に処理液を供給することを特徴とする、処理液供給方法。 - 前記処理液の供給後に、当該処理液の供給を停止し、
その後、前記電極に印加した直流電圧の極性を反転又は前記電極への電圧の印加を停止した状態で、前記処理液供給管に洗浄液を供給することを特徴とする、請求項8に記載の処理液供給方法。 - 請求項8または9に記載の処理液供給方法を処理液供給装置によって実行させるように、当該処理液供給装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項10に記載のプログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
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