JP5503108B2 - 約1nmから約30nmの波長範囲の放射線を発生させる方法および機器、ならびにリソグラフィー装置 - Google Patents
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Description
Claims (24)
- 少なくとも一つの第1の電極および該第1の電極からある距離にある少なくとも一つの第2の電極を用いて、電気的に操作された放電によって、波長範囲が約1nmから約30nmの放射線を発生させる方法であって、
前記電極間には、少なくとも一つの作動ガスが提供され、該作動ガス中でプラズマが発生し、該プラズマの発生放射線は、第1の開口を介して進行し、
少なくとも一つの前記電極の少なくとも一つの領域で、破片粒子が発生し、
少なくとも前記領域は、前記破片粒子が、前記少なくとも一つの領域と前記第1の開口によって定められた領域の間の移動経路を、直進して移動することができないように、前記電極の凹部、もしくは前記電極の突起部の前記第1の開口に対して遠ざかる側に配置され、または前記電極自身の前記第1の開口に対して遠い側に配置されることを特徴とする方法。 - 前記電極間に伝送される、前記プラズマを通る電流の電流起点が、前記領域内に配置されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記領域に直接高エネルギーが伝送されるように、エネルギービームが、少なくとも一つの前記電極の前記領域に向かって配向されることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 前記エネルギービームとして、光ビームが使用されることを特徴とする請求項3に記載の方法。
- 前記領域は、前記電極間に存在する少なくとも一つの絶縁体が、発生した前記破片粒子の前記移動経路の外側に設置されるように、配置されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一つに記載の方法。
- 前記エネルギービームは、前記電極の前記第1の開口から離れている側に向かって、前記第1の開口の方向に配向されることを特徴とする請求項3に記載の方法。
- 少なくとも一つの前記電極は、前記作動ガスを提供する材料の融点とほぼ等しい温度またはこれよりも高い温度にされることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一つに記載の方法。
- 前記エネルギービームは、前記電極が相互に小さな距離にある前記領域に向かって配向されることを特徴とする請求項3に記載の方法。
- 前記放射線は、該放射線の伝播方向に配置された光学装置に向かって進行し、前記破片粒子の前記移動経路の外側を進行することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一つに記載の方法。
- 一つの電極の少なくとも一つの遠い側は、この遠い側の表面に沿って延伸する線が、他の電極の表面と接するように、該他の電極に対して配置されることを特徴とする請求項5乃至9のいずれか一つに記載の方法。
- 少なくとも一つの第1の電極および該第1の電極からある距離にある少なくとも一つの第2の電極を有し、電気的に操作された放電によって、波長範囲が約1nmから約30nmの放射線を発生させる機器であって、
前記電極間には、少なくとも一つの作動ガスが提供され、該作動ガス中でプラズマが発生し、該プラズマの発生放射線の少なくとも一部は、第1の開口を介して進行し、
少なくとも一つの前記電極の少なくとも一つの領域で、破片粒子が発生し、
少なくとも前記領域は、前記破片粒子が、前記少なくとも一つの領域と前記第1の開口によって定められた領域の間の移動経路を、直進して移動することができないように、前記電極の凹部もしくは突起部に配置され、または前記電極の前記第1の開口から離れた側に配置されることを特徴とする機器。 - 前記電極間に伝送される、前記プラズマを通る電流の電流起点が、前記領域内に配置されることを特徴とする請求項11に記載の機器。
- 前記領域に直接高エネルギーが伝送されるように、エネルギービームが、少なくとも一つの前記電極に向かって配向されることを特徴とする請求項11または12に記載の機器。
- 前記エネルギービームとして、光ビームが使用されることを特徴とする請求項13に記載の機器。
- 前記領域は、前記電極間に存在する少なくとも一つの絶縁体が、発生した前記破片粒子の前記移動経路の外側に設置されるように、配置されることを特徴とする請求項11乃至14のいずれか一つに記載の機器。
- 前記エネルギービームは、前記電極の前記第1の開口から離れている側に向かって、前記第1の開口の方向に配向されることを特徴とする請求項13に記載の機器。
- 少なくとも一つの前記電極には、前記作動ガスを提供する材料の融点とほぼ等しい温度またはこれよりも高い温度に温度を設定する装置が設けられることを特徴とする請求項11乃至16のいずれか一つに記載の機器。
- 前記エネルギービームは、前記電極の相互からの距離が短くなる前記領域に向かって配向されることを特徴とする請求項13に記載の機器。
- 前記第1の開口の後方に、光学装置が配置され、該光学装置は、前記放射線の前記伝播方向であって、前記破片粒子の前記移動経路の外側に配置されることを特徴とする請求項11乃至18のいずれか一つに記載の機器。
- 一つの電極の少なくとも一つの遠い側は、この遠い側の表面に沿って延伸する線が、他の電極の表面と接するように、該他の電極に対して配置されることを特徴とする請求項16乃至19のいずれか一つに記載の機器。
- 前記電極は、第1のモジュール内に配置されることを特徴とする請求項13、14、16、または18に記載の機器。
- 前記第1のモジュールには、前記エネルギービームを提供するエネルギービーム源が、固定状態でまたは取り外し可能な状態で設置されることを特徴とする請求項21に記載の機器。
- 前記第1の開口の後方に、光学装置が配置され、該光学装置は、前記放射線の前記伝播方向であって、前記破片粒子の前記移動経路の外側に配置され、
前記光学装置は、第2のモジュール内に配置されることを特徴とする請求項21または22に記載の機器。 - 請求項11乃至23のいずれか一つに記載の機器を有するリソグラフィー装置。
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