JP2005276605A - 軟x線発生装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 この発明は、デブリスが軟X線取り出し部へ向かって飛翔することを防ぐことにより、取り出せる軟X線の強度を保つことが可能な軟X線発生装置を提供するものである。
【解決手段】 第1電極部41と第2電極部42との間を流れる電流により、放電管1の内部に磁束を発生する。放電管1の内面100にテーパ面101を形成しているので、広口部102から狭口部103にかけて、徐々に磁束密度の大きさが大きくなる。これにより、プラズマ7を、狭口部103から広口部102に向けて、磁束の力によって送り出すことができる。このため、プラズマ7から生成したデブリス10も、広口部102に向けて進む。
したがって、デブリス10が軟X線取り出し部9に向けて進むことを防止することができる。すると、デブリス10が軟X線光学系11に付着することを防止できる。
【選択図】図2
【解決手段】 第1電極部41と第2電極部42との間を流れる電流により、放電管1の内部に磁束を発生する。放電管1の内面100にテーパ面101を形成しているので、広口部102から狭口部103にかけて、徐々に磁束密度の大きさが大きくなる。これにより、プラズマ7を、狭口部103から広口部102に向けて、磁束の力によって送り出すことができる。このため、プラズマ7から生成したデブリス10も、広口部102に向けて進む。
したがって、デブリス10が軟X線取り出し部9に向けて進むことを防止することができる。すると、デブリス10が軟X線光学系11に付着することを防止できる。
【選択図】図2
Description
本発明は、軟X線発生装置に関するものである。
従来の軟X線発生装置の概要を、図1を用いて説明する。この装置では、放電管1が真空容器2中に配置されている。高電圧発生装置(電源)3により発生させた高電圧を放電管1の電極4へ印加する。これと同期させて、ガス導入口5よりガス6を放電管内に導入する。これによりプラズマ7が生成し、プラズマ7から軟X線8が発生する。発生した軟X線8は、軟X線取り出し部9へ向かって進む。
しかしながら、この方法では、デブリス10がプラズマ7より発生し、軟X線取り出し部9へ向かって飛翔する。すると、軟X線光学系11が、デブリス10の付着により汚染され、取り出せる軟X線の強度が低下するという問題があった。
そこで、本発明は、デブリスが軟X線取り出し部へ向かって飛翔することを防ぐことにより、取り出せる軟X線の強度を保つことが可能な軟X線発生装置を提供することを目的とする。
本発明に係る軟X線発生装置は、真空容器と、放電管と、電極と、電源とを備えている。前記真空容器は、軟X線取り出し部を有している。前記放電管は、略筒状の内面を有している。前記内面には、前記内面の軸方向に沿う縦断面において傾斜するテーパ面が形成されている。前記テーパ面の一端には、径の大きい広口部が形成されている。前記テーパ面の他端には、径の小さい狭口部が形成されている。前記広口部は、前記軟X線取り出し部とはほぼ反対側を向く位置に配置されている。前記電極は、第1電極部と第2電極部とを備えている。前記第1電極部と第2電極部は、前記テーパ面の軸方向において離間して配置されている。前記電源は、前記第1電極部と第2電極部との間に電流を流す構成となっている。
前記第1電極部を、前記広口部の近傍に配置し、前記第2電極部を、前記狭口部の近傍に配置しても良い。
前記狭口部を、前記軟X線取り出し部に向けて配置してもよい。
前記テーパ面を、横断面略円形状に形成してもよい。
前記真空容器が、プラズマ生成用のガスを導入するためのガス導入口を備えていてもよい。
前記第1および第2電極部を、環状に形成し、かつ、前記内面とほぼ同軸となる位置に配置してもよい。
前記電極が、さらに第3電極部を備えていてもよい。前記第3電極部は、前記第1電極部と前記第2電極部の間に配置される。前記電源は、前記第3電極部と前記第1電極部および第2電極部との間に電流を流す。
本発明によれば、デブリスが軟X線取り出し部へ向かって飛翔することを防ぐことにより、取り出せる軟X線の強度を保つことが可能な軟X線発生装置を提供することができる。
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態に係る軟X線発生装置を、図2を参照しながら説明する。なお、本実施形態の説明においては、従来の装置と基本的に共通する構成については、同一符号を付して説明を簡略化する。
本発明の第1実施形態に係る軟X線発生装置を、図2を参照しながら説明する。なお、本実施形態の説明においては、従来の装置と基本的に共通する構成については、同一符号を付して説明を簡略化する。
本実施形態の軟X線発生装置は、真空容器2と放電管1と電極4と高電圧発生装置(電源)3とを備えている。この基本的な構成は、従来の装置と同様である。
真空容器2は、ガス導入口5と軟X線取り出し部9とを有している。ガス導入口5は、プラズマ生成用のガスを真空容器2の内部に取り込むためのものである。プラズマ生成用のガスとしては、例えば、ヘリウム、アルゴン、クリプトンなどの不活性ガスであるが、これらには限定されない。
軟X線取り出し口9は、真空容器2の側面に設けられた開口により構成されている。軟X線取り出し口9の外側には、従来と同様に、軟X線を取得して利用するための軟X線光学系11が配置されている。
放電管1は、略筒状の内面100を有している。内面100には、内面100の軸方向(図2中左右方向)に沿う縦断面において傾斜するテーパ面101が形成されている。ただし、この実施形態では、内面100の全体がテーパ面101となっている。テーパ面101は、横断面円形に形成されている。放電管1全体、あるいは、その内面100は、後述する第1電極部41と第2電極部42との間の通電を可能にする導電性の材料により構成されている。ただし、導電度は、必ずしも高くなくとも良い。
テーパ面(内面)101の一端には、径の大きい広口部102が形成されている。テーパ面101の他端には、径の小さい狭口部103が形成されている。広口部102は、軟X線取り出し部9とはほぼ反対側を向く位置に配置されている。狭口部103は、軟X線取り出し部9に向けて配置されている。
電極4は、第1電極部41と第2電極部42とを備えている。第1電極部41と第2電極部42は、放電管1の内面100の軸方向(図2中左右方向)において離間して配置されている。第1および第2の電極部41および42は、いずれも環状に形成されている。第1および第2の電極部41および42の軸心は、この実施形態では、内面100の軸心とほぼ一致している。また、この実施形態では、第1の電極部41は、広口部102側におけるテーパ面101の端部に配置され、第2の電極部42は、狭口部103側におけるテーパ面101の端部に配置されている。
電源3は、第1電極部41と第2電極部42とに電気的に接続されており、これらの電極部に高電圧を印加する構成となっている。これにより、電源3は、放電管1の内部に放電を起こすとともに、内面100を介して、第1電極部41と第2電極部42との間に電流を流す構成となっている。電源3が印加する電流としては、通常パルス電流であるが、直流電流を用いることも可能である。
つぎに、本実施形態に係る装置の動作について説明する。この装置においても、従来と同様に、ガス導入口5から、プラズマ生成用のガス6を、真空容器2の内部に導入する。一方、電源3から、第1電極部41および第2電極部42に高電圧を印加する。すると、電極部の間で放電を生じてプラズマが生成し、このプラズマから軟X線8が発生する。発生した軟X線8は、軟X線取り出し部9へ向けて進み、軟X線光学系11に照射される。ここまでの動作は従来と同様である。
本実施形態では、第1電極部41と第2電極部42との間の内面100を流れる電流により、放電管1の内部に磁束を発生する。この磁束の磁束密度は
と表記できる。ここでθは、放電管1の軸線回りの回転角である。この磁束密度の大きさ
は、放電管1の内面100の径によって変わる。なぜなら、電流が流れる導体の距離により磁束密度の大きさが変わるからである。
と表記できる。ここでθは、放電管1の軸線回りの回転角である。この磁束密度の大きさ
は、放電管1の内面100の径によって変わる。なぜなら、電流が流れる導体の距離により磁束密度の大きさが変わるからである。
この実施形態では、放電管1の内面100にテーパ面101を形成しているので、広口部101から狭口部102にかけて、徐々に磁束密度の大きさが大きくなる。これにより、本実施形態では、図2に示されているように、プラズマ7を、狭口部103から広口部102に向けて、磁束の力によって、絞り出すように送り出すことができる。このため、プラズマ7から生成したデブリス10も、広口部102に向けて進む。
したがって、本実施形態によれば、デブリス10を広口部102に向けて送り出すことにより、デブリス10が軟X線取り出し部9に向けて進むことを防止することができる。すると、デブリス10が軟X線光学系11に付着することを防止し、取り出せる軟X線の強度を保つことが可能となるという利点がある。
(第2実施形態)
つぎに、本発明の第2実施形態に係る軟X線発生装置を、図3に基づいて説明する。この実施形態では、電極4が、第3電極部43をさらに備えている。第3電極部43は、電源3に接続されている。この実施形態では、電源3は、第3電極部43と第1電極部41との間、および、第3電極部43と第2電極部42との間に電流が流れるように、これらに電圧を印加するようになっている。電流の向きは任意であるが、例えば、第3電極部43から他の二つの電極部への電流であってもよく、また、これと逆向きの電流であってもよい。
つぎに、本発明の第2実施形態に係る軟X線発生装置を、図3に基づいて説明する。この実施形態では、電極4が、第3電極部43をさらに備えている。第3電極部43は、電源3に接続されている。この実施形態では、電源3は、第3電極部43と第1電極部41との間、および、第3電極部43と第2電極部42との間に電流が流れるように、これらに電圧を印加するようになっている。電流の向きは任意であるが、例えば、第3電極部43から他の二つの電極部への電流であってもよく、また、これと逆向きの電流であってもよい。
第2実施形態においても、第1実施形態と同様に、デブリス10が軟X線取り出し部9に向けて進むことを防止し、取り出せる軟X線の強度を保つことが可能になる。
第2実施形態における他の構成および利点は、前記した第1実施形態と同様なので、同一符号を付して説明を簡略化する。
なお、本発明は、上記した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得るものである。
例えば、前記各実施形態では、各電極部を電源に接続するものとしたが、一方の電極部を接地とし、残りの電極部のみを電源に接続しても良い。
また、前記各実施形態では、テーパ面101の横断面形状を略円形状としたが、楕円状、多角形状、四角形状、三角形状などの任意の形状でよい。
さらに、前記実施形態では、第1の電極部41と第2の電極部42とを、テーパ面101の両端部に配置したが、必ずしも両端部でなくてもよい。要するに、テーパ面101の軸方向への方向成分を持つ電流を流すことができる位置に配置すればよい。
また、前期実施形態では、放電管1の内面100の全体をテーパ面101により構成したが、内面100の一部のみをテーパ面101としてもよい。例えば、内面100の両端部近傍を除く部分をテーパ面101とすることもできる。
1 放電管
100 内面
101 テーパ面
102 広口部
103 狭口部
2 真空容器
3 高電圧発生装置(電源)
4 電極
41 第1電極部
42 第2電極部
43 第3電極部
5 ガス導入口
6 ガス
7 プラズマ
8 軟X線
9 軟X線取り出し部
10 デブリス
11 軟X線光学系
100 内面
101 テーパ面
102 広口部
103 狭口部
2 真空容器
3 高電圧発生装置(電源)
4 電極
41 第1電極部
42 第2電極部
43 第3電極部
5 ガス導入口
6 ガス
7 プラズマ
8 軟X線
9 軟X線取り出し部
10 デブリス
11 軟X線光学系
Claims (7)
- 真空容器と、放電管と、電極と、電源とを備えており、
前記真空容器は、軟X線取り出し部を有しており、
前記放電管は、略筒状の内面を有しており、前記内面には、前記内面の軸方向に沿う縦断面において傾斜するテーパ面が形成されており、前記テーパ面の一端には、径の大きい広口部が形成されており、前記テーパ面の他端には、径の小さい狭口部が形成されており、前記広口部は、前記軟X線取り出し部とはほぼ反対側を向く位置に配置されており、
前記電極は、第1電極部と第2電極部とを備えており、前記第1電極部と第2電極部は、前記テーパ面の軸方向において離間して配置されており、
前記電源は、前記第1電極部と第2電極部との間に電流を流す構成となっている
ことを特徴とする軟X線発生装置。 - 前記第1電極部は、前記広口部の近傍に配置されており、前記第2電極部は、前記狭口部の近傍に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の軟X線発生装置。
- 前記狭口部は、前記軟X線取り出し部に向けて配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載の軟X線発生装置。
- 前記テーパ面は、横断面略円形に形成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の軟X線発生装置。
- 前記真空容器は、プラズマ生成用のガスを導入するためのガス導入口を備えていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の軟X線発生装置。
- 前記第1および第2電極部は、環状に形成されており、かつ、前記内面とほぼ同軸となる位置に配置されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の軟X線発生装置。
- 前記電極は、さらに第3電極部を備えており、前記第3電極部は、前記第1電極部と前記第2電極部の間に配置されており、前記電源は、前記第3電極部と前記第1電極部および第2電極部との間に電流を流す構成となっていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の軟X線発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004087657A JP2005276605A (ja) | 2004-03-24 | 2004-03-24 | 軟x線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004087657A JP2005276605A (ja) | 2004-03-24 | 2004-03-24 | 軟x線発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005276605A true JP2005276605A (ja) | 2005-10-06 |
Family
ID=35176042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004087657A Withdrawn JP2005276605A (ja) | 2004-03-24 | 2004-03-24 | 軟x線発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005276605A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006056917A1 (en) * | 2004-11-29 | 2006-06-01 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Method and apparatus for generating radiation in the wavelength range from about 1 nm to about 30 nm, and use in a lithography device or in metrology |
JP2008016753A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-24 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
-
2004
- 2004-03-24 JP JP2004087657A patent/JP2005276605A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006056917A1 (en) * | 2004-11-29 | 2006-06-01 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Method and apparatus for generating radiation in the wavelength range from about 1 nm to about 30 nm, and use in a lithography device or in metrology |
US7688948B2 (en) | 2004-11-29 | 2010-03-30 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method and apparatus for generating radiation in the wavelength range from about 1 nm to about 30 nm, and use in a lithography device or in metrology |
JP2008016753A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-24 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070605 |