JP2011529619A - Euv放射又は軟x線を生成する方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
2 電極
3 回転軸
4 容器
5 容器
6 金属溶融物
7 コンデンサバンク
8 フィードスルー
9 レーザパルス
10 破片緩和ユニット
11 ストリッパ
12 遮蔽
13 金属遮蔽
14 ハウジング
15 ピンチプラズマ
16 衝突点
17 パターン
18 マップされた放出ボリューム
19 アパーチャ開口
20 放射センサ
21 レーザ
22 回転又は走査光学部品
23 制御ユニット
Claims (15)
- 電気的に動作される放電によって光学放射を生成する装置であって、
少なくとも2つの電極であって、前記電極間のガス媒体内のプラズマの点火を可能にする互いから離間されて放電空間内に配されている少なくとも2つの電極と、
前記放電空間を通って移動する表面に液体材料を供給する装置と、
供給された前記液体材料を少なくとも部分的に蒸発させている前記表面上への1つ又は複数のパルスエネルギビームを指向するエネルギビーム装置であって、これにより前記ガス媒体の少なくとも一部を生成するエネルギビーム装置と、
を有する装置であって、前記エネルギビーム装置は前記表面の移動方向に対して異なる横方向の場所においてパルスエネルギビームのパルスを供給するように設計されている、装置。 - 前記エネルギビーム装置は、前記装置の動作の間、前記表面における衝突点の周期的な繰り返しパターンを達成するように前記パルスエネルギビームのパルスを供給するように設計されている、請求項1に記載の装置。
- 前記エネルギビーム装置は、前記表面の移動方向に対して異なる横方向の場所において前記パルスエネルギビームのパルスを供給する回転又は走査光学部品を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記液体材料を供給する装置は、前記液体材料を少なくとも1つの前記電極の表面に供給し、前記少なくとも1つの電極は、動作の間、回転において位置されることができる回転可能な車輪として設計されている、請求項1に記載の装置。
- 生成される前記光学放射の特性を測定する放射センサを更に有する、請求項1に記載の装置。
- 生成される前記光学放射の通路内に配されている光学アパーチャを更に有し、前記放射センサの幾つかは、このアパーチャ開口の周りに又は前記アパーチャ開口の境界に配されている、請求項5に記載の装置。
- 前記エネルギビーム装置に接続されていると共に、前記放射センサの測定データに依存して、前記放電を電気的に動作させる電流パルスのエネルギ及び形態又はコンデンサユニットの充電電圧を制御する制御ユニットを更に有する、請求項5又は6に記載の装置。
- 前記放射センサの測定データに依存して、前記パルスエネルギの個々のパルスの各々のパルスエネルギ及び前記放電を電気的に動作させる電流パルスのエネルギ及び形態並びに又はコンデンサユニットの充電電圧を制御する制御ユニットを更に有する、請求項5又は6に記載の装置。
- 電気的に動作される放電によって光学放射を生成する方法であって、
生成されるべき放射を発するプラズマが、放電空間における少なくとも2つの電極間のガス媒体において点火され、
前記ガス媒体は、少なくとも部分的に液体材料から生成され、前記液体材料は、前記放電空間内で移動する表面に供給され、少なくとも部分的に1つ又は複数のパルスエネルギビームによって蒸発され、
前記パルスエネルギビームのパルスは、前記表面の移動方向に対して異なる横方向の場所に指向されている、
方法。 - 前記複数のパルスエネルギビームの各々は、異なるエネルギビーム源によって生成されると共に、前記表面の移動方向に対して異なる横方向の場所に指向される、請求項9に記載の方法。
- 前記表面の移動の間、前記1つのパルスエネルギビームが、前記異なる横方向の場所に前記パルスエネルギビームのパルスを供給するために、前記表面の移動方向全体において前後に移動される、請求項9に記載の方法。
- 前記パルスエネルギビームのパルスが、衝突点の周期的に繰り返しているパターンが、前記表面の移動の間、前記表面において達成されるように、前記表面に供給される、請求項9に記載の方法。
- 生成される前記光学放射の特性が検出され、コンデンサユニットの充電電圧又は前記放電を電気的に動作させる電流パルスのエネルギ及び形態は、前記検出の測定データに依存して制御される、請求項9に記載の方法。
- 生成される前記光学放射の特性が検出され、コンデンサユニットの充電電圧又は放電を電気的に動作させるための電流パルスのエネルギ及び形態並びに前記パルスエネルギビームの各々の個々のパルスのパルスエネルギは、前記検出の測定データに基づいて制御される、請求項9に記載の方法。
- 前記電極の少なくとも一方は、動作の間の回転において設定され、前記液体材料は、前記電極の前記少なくとも一方の表面に供給される、請求項9に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP08104888 | 2008-07-28 | ||
EP08104888.6 | 2008-07-28 | ||
PCT/IB2009/053146 WO2010013167A1 (en) | 2008-07-28 | 2009-07-21 | Method and device for generating euv radiation or soft x-rays |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011529619A true JP2011529619A (ja) | 2011-12-08 |
JP5588439B2 JP5588439B2 (ja) | 2014-09-10 |
Family
ID=41170903
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011520626A Active JP5588439B2 (ja) | 2008-07-28 | 2009-07-21 | Euv放射又は軟x線を生成する方法及び装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8519368B2 (ja) |
EP (1) | EP2308272B1 (ja) |
JP (1) | JP5588439B2 (ja) |
CN (1) | CN102119583B (ja) |
TW (1) | TW201010517A (ja) |
WO (1) | WO2010013167A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9242298B2 (en) | 2012-06-26 | 2016-01-26 | Empire Technology Development Llc | Method and system for preparing shaped particles |
WO2014003721A1 (en) * | 2012-06-26 | 2014-01-03 | Empire Technology Development Llc | Method and system for preparing shaped particles |
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US8766212B2 (en) | 2006-07-19 | 2014-07-01 | Asml Netherlands B.V. | Correction of spatial instability of an EUV source by laser beam steering |
-
2009
- 2009-07-21 JP JP2011520626A patent/JP5588439B2/ja active Active
- 2009-07-21 WO PCT/IB2009/053146 patent/WO2010013167A1/en active Application Filing
- 2009-07-21 EP EP09786648A patent/EP2308272B1/en active Active
- 2009-07-21 CN CN2009801297008A patent/CN102119583B/zh active Active
- 2009-07-21 US US13/054,807 patent/US8519368B2/en active Active
- 2009-07-27 TW TW098125231A patent/TW201010517A/zh unknown
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2010013167A1 (en) | 2010-02-04 |
CN102119583A (zh) | 2011-07-06 |
EP2308272A1 (en) | 2011-04-13 |
US20110127442A1 (en) | 2011-06-02 |
CN102119583B (zh) | 2013-09-11 |
TW201010517A (en) | 2010-03-01 |
JP5588439B2 (ja) | 2014-09-10 |
US8519368B2 (en) | 2013-08-27 |
EP2308272B1 (en) | 2012-09-19 |
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