JP2001160499A - 金属プラズマ放電型ｘ線発生装置 - Google Patents
金属プラズマ放電型ｘ線発生装置Info
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- JP2001160499A JP2001160499A JP34457499A JP34457499A JP2001160499A JP 2001160499 A JP2001160499 A JP 2001160499A JP 34457499 A JP34457499 A JP 34457499A JP 34457499 A JP34457499 A JP 34457499A JP 2001160499 A JP2001160499 A JP 2001160499A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体リソグラフィー、ラジオグラフィー、
医療診断、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線蛍光分析、材料表面改質及
び透過画像計測等を行うＸ線応用の産業技術、医療診断
技術分野で利用できる、Ｘ線パルスの輝度、ピーク出力
が高く、かつ指向性の良いＸ線または軟Ｘ線を形成す
る。 【解決手段】 真空容器内の対向金属電極の片側にレー
ザー光を照射して金属蒸気プラズマを生成させ、それを
予備電離プラズマとして大電流ピンチ放電を行いプラズ
マを圧縮して高密度、高温にし、プラズマから特性Ｘ
線、または制動放射Ｘ線パルスを発生させることを可能
とする金属プラズマ放電型Ｘ線発生装置。
医療診断、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線蛍光分析、材料表面改質及
び透過画像計測等を行うＸ線応用の産業技術、医療診断
技術分野で利用できる、Ｘ線パルスの輝度、ピーク出力
が高く、かつ指向性の良いＸ線または軟Ｘ線を形成す
る。 【解決手段】 真空容器内の対向金属電極の片側にレー
ザー光を照射して金属蒸気プラズマを生成させ、それを
予備電離プラズマとして大電流ピンチ放電を行いプラズ
マを圧縮して高密度、高温にし、プラズマから特性Ｘ
線、または制動放射Ｘ線パルスを発生させることを可能
とする金属プラズマ放電型Ｘ線発生装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線パルスの輝
度、ピーク出力が高く、かつ指向性の良いＸ線または軟
Ｘ線を必要とする半導体リソグラフィー、ラジオグラフ
ィー、医療診断、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線蛍光分析、材料表面
改質及び透過画像計測等を行うＸ線応用の産業技術、医
療診断技術分野で利用できる。
度、ピーク出力が高く、かつ指向性の良いＸ線または軟
Ｘ線を必要とする半導体リソグラフィー、ラジオグラフ
ィー、医療診断、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線蛍光分析、材料表面
改質及び透過画像計測等を行うＸ線応用の産業技術、医
療診断技術分野で利用できる。
【０００２】
【従来の技術】従来技術では、金属蒸気プラズマを用い
てピンチ放電によるＸ線発生を行う方法として、電極間
に金属化合物製または金属製の細管を用いるものがあ
る。これらは、細管中にバッファーガス等を介して放電
を行い、その放電衝撃、放電熱等で細管を形成する金属
化合物または金属を蒸発させて金属プラズマを生成させ
る。さらにこの金属蒸気生成のための放電と同時にピン
チ放電によりＸ線を発生させるものである。
てピンチ放電によるＸ線発生を行う方法として、電極間
に金属化合物製または金属製の細管を用いるものがあ
る。これらは、細管中にバッファーガス等を介して放電
を行い、その放電衝撃、放電熱等で細管を形成する金属
化合物または金属を蒸発させて金属プラズマを生成させ
る。さらにこの金属蒸気生成のための放電と同時にピン
チ放電によりＸ線を発生させるものである。
【０００３】一方、セラミックまたはプラスティック等
の絶縁物の細管中に金属化合物または金属を少量設置し
て、同様の放電を行って金属ピンチプラズマからＸ線を
発生させる場合がある。
の絶縁物の細管中に金属化合物または金属を少量設置し
て、同様の放電を行って金属ピンチプラズマからＸ線を
発生させる場合がある。
【０００４】または、特開平６−３２５７０８号公報の
ように真空中の対向電極間にレーザー光照射専用の金属
ターゲットを設置して、このターゲットからレーザー光
照射により金属蒸気プラズマを蒸発させ電極間に横方向
から金属プラズマを送り込む方法がある。
ように真空中の対向電極間にレーザー光照射専用の金属
ターゲットを設置して、このターゲットからレーザー光
照射により金属蒸気プラズマを蒸発させ電極間に横方向
から金属プラズマを送り込む方法がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】金属蒸気プラズマを用
いたピンチ放電型Ｘ線発生装置において、ピンチ放電に
よるピンチプラズマからの高いＸ線発生効率を得るため
には、安定なピンチ放電が必要である。そのためには、
ピンチ放電に移行する直前の電極間のプラズマ密度分布
が軸に対してより対称であることが要求される。
いたピンチ放電型Ｘ線発生装置において、ピンチ放電に
よるピンチプラズマからの高いＸ線発生効率を得るため
には、安定なピンチ放電が必要である。そのためには、
ピンチ放電に移行する直前の電極間のプラズマ密度分布
が軸に対してより対称であることが要求される。
【０００６】細管を使用する方法では細管中にある程度
密度の高い金属プラズマを生成させることは可能である
が、細管中の放電を均一に行うことは難しくまた細管に
できる温度分布が一様でないために、軸方向及び径方向
に均一で軸対称な密度分布を作ることは困難となる。さ
らには、金属蒸気が細管内面に付着し空間的な放電イン
ピーダンスの不均一性が原因となり放電の再現性が悪化
する。これによって、この金属プラズマ密度の軸に対す
る不均一、非対称性が、ピンチ放電の不安定性を招いて
Ｘ線発生効率を低下させるという問題点がある。
密度の高い金属プラズマを生成させることは可能である
が、細管中の放電を均一に行うことは難しくまた細管に
できる温度分布が一様でないために、軸方向及び径方向
に均一で軸対称な密度分布を作ることは困難となる。さ
らには、金属蒸気が細管内面に付着し空間的な放電イン
ピーダンスの不均一性が原因となり放電の再現性が悪化
する。これによって、この金属プラズマ密度の軸に対す
る不均一、非対称性が、ピンチ放電の不安定性を招いて
Ｘ線発生効率を低下させるという問題点がある。
【０００７】一方、金属ターゲットからレーザー光照射
により金属蒸気プラズマを電極間に送りこむ方法は、電
極間に十分な密度の金属プラズマを送り込むことができ
るが、対向電極の軸上に横方向からプラズマを入射させ
るために軸対称な密度分布を持つ予備電離金属プラズマ
を電極間に生成させることは困難となる。同様に、ピン
チ放電に移行する直前の予備電離プラズマの軸に対する
密度分布の非対称性が問題となり、ピンチ放電が不安定
になりＸ線発生効率を悪化させるという問題点がある。
により金属蒸気プラズマを電極間に送りこむ方法は、電
極間に十分な密度の金属プラズマを送り込むことができ
るが、対向電極の軸上に横方向からプラズマを入射させ
るために軸対称な密度分布を持つ予備電離金属プラズマ
を電極間に生成させることは困難となる。同様に、ピン
チ放電に移行する直前の予備電離プラズマの軸に対する
密度分布の非対称性が問題となり、ピンチ放電が不安定
になりＸ線発生効率を悪化させるという問題点がある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めには、同じ軸上にある円筒状または円柱状の対向電極
間で安定なピンチ放電を行うためには、空間対称性に優
れ、かつ軸に対して対称な密度分布を有する金属予備電
離プラズマを生成させる必要がある。これを行うため
に、本発明は、対向電極の先端に軸に対して浅い角度で
もう片方の電極側からレーザー光を照射し、電極に金属
レーザープラズマを生成させ、電極間に軸の径方向に対
して対称な密度分布を有する予備電離プラズマを生成す
るものである。
めには、同じ軸上にある円筒状または円柱状の対向電極
間で安定なピンチ放電を行うためには、空間対称性に優
れ、かつ軸に対して対称な密度分布を有する金属予備電
離プラズマを生成させる必要がある。これを行うため
に、本発明は、対向電極の先端に軸に対して浅い角度で
もう片方の電極側からレーザー光を照射し、電極に金属
レーザープラズマを生成させ、電極間に軸の径方向に対
して対称な密度分布を有する予備電離プラズマを生成す
るものである。
【０００９】本発明においては、斜め入射したレーザー
光によって発生した金属蒸気プラズマは、生成された対
向電極の先端から軸に対して径方向の密度分布を空間的
に対称に維持した状態でもう片方の電極方向に膨張す
る。これにより電極間に、安定なピンチ放電に必要な軸
に対して対称な密度分布を有する予備電離金属蒸気プラ
ズマを生成させることができる。
光によって発生した金属蒸気プラズマは、生成された対
向電極の先端から軸に対して径方向の密度分布を空間的
に対称に維持した状態でもう片方の電極方向に膨張す
る。これにより電極間に、安定なピンチ放電に必要な軸
に対して対称な密度分布を有する予備電離金属蒸気プラ
ズマを生成させることができる。
【００１０】本発明により、予備電離プラズマの径方向
密度分布が軸に対して対称となるため、従来の方法と比
して安定なピンチプラズマを生成できる。これにより、
高い効率でＸ線を発生させることが可能となる。
密度分布が軸に対して対称となるため、従来の方法と比
して安定なピンチプラズマを生成できる。これにより、
高い効率でＸ線を発生させることが可能となる。
【００１１】
【発明の実施の形態】図１に示されるように、本発明の
金属プラズマ放電型Ｘ線発生装置は、マルクスジェネレ
ータ１（パルス電圧発生装置）、ピンチ放電電極が内蔵
されている円筒形真空容器２、ＹＡＧレーザー装置１０
及び同期制御装置１２から構成される。円筒形真空容器
２は、容器内を高真空に保持する排気装置とレーザー光
８を高圧電極先端３に導くためのＹＡＧレーザー光入射
窓７を備えている。ピンチ放電が行われる電極は、高圧
電極（陽極）３と陰極５に分かれ、先端が約２ｍｍφ、
長さ１ｃｍのピン状対向電極である。高圧電極（陽極）
３の先端ピンは、金蒸気レーザープラズマ生成のため材
質は金が使用されている。陰極はステンレス製である。
金属プラズマ放電型Ｘ線発生装置は、マルクスジェネレ
ータ１（パルス電圧発生装置）、ピンチ放電電極が内蔵
されている円筒形真空容器２、ＹＡＧレーザー装置１０
及び同期制御装置１２から構成される。円筒形真空容器
２は、容器内を高真空に保持する排気装置とレーザー光
８を高圧電極先端３に導くためのＹＡＧレーザー光入射
窓７を備えている。ピンチ放電が行われる電極は、高圧
電極（陽極）３と陰極５に分かれ、先端が約２ｍｍφ、
長さ１ｃｍのピン状対向電極である。高圧電極（陽極）
３の先端ピンは、金蒸気レーザープラズマ生成のため材
質は金が使用されている。陰極はステンレス製である。
【００１２】同期制御装置１２より、最初にＹＡＧレー
ザー装置１０にＹＡＧレーザー用同期制御トリガーパル
ス１１が投入され、４倍波（波長２６６ｎｍ）、レーザ
ーエネルギー約６０ｍＪのＹＡＧレーザーパルス光８が
発生する。ＹＡＧレーザーパルス光８は、レーザー反射
ミラー９により高真空に保持されている円筒形真空容器
２内の高圧電極先端３にＹＡＧレーザー光入射窓７をと
うして電極軸に対して浅い角度で照射される。高圧電極
先端３で生成されたレーザープラズマ４は、対向電極の
軸を中心に対称に膨張し、また陰極方向に拡散してい
く。このレーザー生成プラズマ４が陰極に達する時間を
見越して同期制御装置１２よりマルクスジェネレータ１
にマルクスジェネレータ用同期制御トリガーパルス１３
が投入されピンチ高圧電極（陽極）３に高圧パルスが印
加される。このときピンチ高圧電極３と陰極５間でレー
ザー生成プラズマ４をもとにピンチ放電が行われ、ピン
チプラズマ４が生成される。ピンチ放電により高温、高
密度となったピンチプラズマ４からは陰極５の穴をとう
してＸ線パルス６が放出される。
ザー装置１０にＹＡＧレーザー用同期制御トリガーパル
ス１１が投入され、４倍波（波長２６６ｎｍ）、レーザ
ーエネルギー約６０ｍＪのＹＡＧレーザーパルス光８が
発生する。ＹＡＧレーザーパルス光８は、レーザー反射
ミラー９により高真空に保持されている円筒形真空容器
２内の高圧電極先端３にＹＡＧレーザー光入射窓７をと
うして電極軸に対して浅い角度で照射される。高圧電極
先端３で生成されたレーザープラズマ４は、対向電極の
軸を中心に対称に膨張し、また陰極方向に拡散してい
く。このレーザー生成プラズマ４が陰極に達する時間を
見越して同期制御装置１２よりマルクスジェネレータ１
にマルクスジェネレータ用同期制御トリガーパルス１３
が投入されピンチ高圧電極（陽極）３に高圧パルスが印
加される。このときピンチ高圧電極３と陰極５間でレー
ザー生成プラズマ４をもとにピンチ放電が行われ、ピン
チプラズマ４が生成される。ピンチ放電により高温、高
密度となったピンチプラズマ４からは陰極５の穴をとう
してＸ線パルス６が放出される。
【００１３】レーザー光が電極３に照射される浅い角度
とは、具体的に電極３の電極軸に対して０〜４５°の角
度内であり、この角度以外では電極３、５間にその径方
向に対して対称な密度分布の予備電離プラズマを発生さ
せることができない。又この角度は、効率の良いプラズ
マ発生の観点から好ましくは０〜３０°であり、最も好
ましくは０〜１５°でありできる限り小さい方が良い。
とは、具体的に電極３の電極軸に対して０〜４５°の角
度内であり、この角度以外では電極３、５間にその径方
向に対して対称な密度分布の予備電離プラズマを発生さ
せることができない。又この角度は、効率の良いプラズ
マ発生の観点から好ましくは０〜３０°であり、最も好
ましくは０〜１５°でありできる限り小さい方が良い。
【００１４】図２に、本発明による典型的なＸ線パルス
波形、並びにレーザーパルス光、放電電圧及び放電電流
の波形が示される。グラフ上部の波形より、レーザーパ
ルス光１、放電電圧２、放電電流３及びＸ線パルス４を
示す。レーザーパルス光１が入射された後、約１．７μ
ｓ後にピンチ放電が実施されピンチ電極間のレーザー生
成プラズマに放電電圧２が印加され、放電電流３が流れ
る。この放電によってレーザープラズマが高温高密度の
ピンチプラズマになりパルス幅約２５０ｎｓのＸ線パル
ス４を発生する。
波形、並びにレーザーパルス光、放電電圧及び放電電流
の波形が示される。グラフ上部の波形より、レーザーパ
ルス光１、放電電圧２、放電電流３及びＸ線パルス４を
示す。レーザーパルス光１が入射された後、約１．７μ
ｓ後にピンチ放電が実施されピンチ電極間のレーザー生
成プラズマに放電電圧２が印加され、放電電流３が流れ
る。この放電によってレーザープラズマが高温高密度の
ピンチプラズマになりパルス幅約２５０ｎｓのＸ線パル
ス４を発生する。
【００１５】図３に、Ｘ線パルスエネルギーのマルクス
ジェネレータの充電電圧依存性を示す。Ｘ線のパルスエ
ネルギーは、放電エネルギーの増大に伴って増加した。
これにより、本発明では安定なピンチ放電を容易に行う
ことができ、さらに放電エネルギーを上昇させることで
より大きなＸ線パルスのエネルギーを取り出せることが
わかる。以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
ジェネレータの充電電圧依存性を示す。Ｘ線のパルスエ
ネルギーは、放電エネルギーの増大に伴って増加した。
これにより、本発明では安定なピンチ放電を容易に行う
ことができ、さらに放電エネルギーを上昇させることで
より大きなＸ線パルスのエネルギーを取り出せることが
わかる。以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
【００１６】
【実施例】本発明の金属蒸気プラズマ放電型ピンチＸ線
発生装置は、図１に示されるように、コンデンサー容
量：３．４ｎＦのピンチ放電用マルクスジェネレータ
（パルス電圧発生装置）、レーザープラズマ生成用のＹ
ＡＧレーザー装置（４倍波：２６６ｎｍ、パルスエネル
ギー；６０ｍＪ、パルス幅：５０ｎｓ）及び真空排気装
置を含めたＸ線発生用真空容器から構成される。
発生装置は、図１に示されるように、コンデンサー容
量：３．４ｎＦのピンチ放電用マルクスジェネレータ
（パルス電圧発生装置）、レーザープラズマ生成用のＹ
ＡＧレーザー装置（４倍波：２６６ｎｍ、パルスエネル
ギー；６０ｍＪ、パルス幅：５０ｎｓ）及び真空排気装
置を含めたＸ線発生用真空容器から構成される。
【００１７】ピンチ放電用ピン状対向電極は、円筒形真
空容器内の軸上に設置されている。陽極はマルクスジェ
ネレータ側に接続され、高圧パルスが印加される。陰極
は、中空の管状の電極構造を有しグランド側の真空容器
に接続されている。また、装置にはＹＡＧレーザー装置
とマルクスジェネレータの同期を制御する同期制御シス
テムが装備されている。Ｘ線パルスは、レーザー光が照
射されない側の陰極側の管状ピン電極（穴径：１．５ｍ
ｍφ）をとうしてピンチプラズマから放出される。
空容器内の軸上に設置されている。陽極はマルクスジェ
ネレータ側に接続され、高圧パルスが印加される。陰極
は、中空の管状の電極構造を有しグランド側の真空容器
に接続されている。また、装置にはＹＡＧレーザー装置
とマルクスジェネレータの同期を制御する同期制御シス
テムが装備されている。Ｘ線パルスは、レーザー光が照
射されない側の陰極側の管状ピン電極（穴径：１．５ｍ
ｍφ）をとうしてピンチプラズマから放出される。
【００１８】図２には、本発明によって発生したＸ線パ
ルス波形、並びに入射したレーザーパルス光、ピンチ放
電時の放電電流及び放電電圧のパルス波形が示される。
レーザープラズマは陽極先端上で生成されると同時に陰
極方向に膨張し始める。プラズマが十分陰極に到達した
ところで、レーザーパルス入射から放電が開始されるま
での時間間隔の後、図に示すようなパルス放電を行っ
た。このときにピンチプラズマが生成され、図２のよう
なＸ線パルスが発生した。
ルス波形、並びに入射したレーザーパルス光、ピンチ放
電時の放電電流及び放電電圧のパルス波形が示される。
レーザープラズマは陽極先端上で生成されると同時に陰
極方向に膨張し始める。プラズマが十分陰極に到達した
ところで、レーザーパルス入射から放電が開始されるま
での時間間隔の後、図に示すようなパルス放電を行っ
た。このときにピンチプラズマが生成され、図２のよう
なＸ線パルスが発生した。
【００１９】陽極のピン電極材質に金を用いたところ、
実効平均光子エネルギー約１ｋｅＶのＸ線パルスが得ら
れた。また、円筒形真空容器内壁であるピン電極軸の径
方向においてもピンチプラズマから同様の光子エネルギ
ーのＸ線を観測することができた。陰極の中空の管より
放電エネルギー約３８Ｊで約１μＪ程度（光子数１０ 9
〜１０10個）のＸ線パルスを取り出すことができた。
実効平均光子エネルギー約１ｋｅＶのＸ線パルスが得ら
れた。また、円筒形真空容器内壁であるピン電極軸の径
方向においてもピンチプラズマから同様の光子エネルギ
ーのＸ線を観測することができた。陰極の中空の管より
放電エネルギー約３８Ｊで約１μＪ程度（光子数１０ 9
〜１０10個）のＸ線パルスを取り出すことができた。
【００２０】図３には、Ｘ線パルスエネルギーのマルク
スジェネレータの充電電圧依存性が示される。Ｘ線のパ
ルスエネルギーは、放電エネルギーの増大に伴って増加
した。これにより、本発明では安定なピンチ放電を容易
に行うことができ、さらに放電エネルギーを上昇させる
ことでより大きなＸ線パルスのエネルギーを取り出せる
ことがわかる。
スジェネレータの充電電圧依存性が示される。Ｘ線のパ
ルスエネルギーは、放電エネルギーの増大に伴って増加
した。これにより、本発明では安定なピンチ放電を容易
に行うことができ、さらに放電エネルギーを上昇させる
ことでより大きなＸ線パルスのエネルギーを取り出せる
ことがわかる。
【００２１】
【発明の効果】本発明により、従来の方法に比して蒸気
発生が困難である金属蒸気プラズマから効率良くＸ線を
発生させることが可能となる。このため、放電型Ｘ線装
置の小規模化及び高出力化に貢献することができる。ま
た放電型Ｘ線発生装置を利用するＸ線応用の技術開発分
野においても、システム効率を向上させることができ
る。
発生が困難である金属蒸気プラズマから効率良くＸ線を
発生させることが可能となる。このため、放電型Ｘ線装
置の小規模化及び高出力化に貢献することができる。ま
た放電型Ｘ線発生装置を利用するＸ線応用の技術開発分
野においても、システム効率を向上させることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明を実施した金属プラズマ放電型Ｘ線発
生装置を示す図である。
生装置を示す図である。
【図２】 本発明による典型的なＸ線パルス波形及びレ
ーザーパルス、放電電圧及び電流波形を示す図である。
ーザーパルス、放電電圧及び電流波形を示す図である。
【図３】 本発明によるＸ線パルス強度のマルクスジェ
ネレータの充電電圧依存性を示す図である。
ネレータの充電電圧依存性を示す図である。
１ マルクスジェネレータ（パルス電圧発生装置） ２ 円筒形真空容器 ３ 高圧電極（陽極） ４ レーザー生成プラズマ及びピンチプラズマ ５ 陰極（グランド） ６ Ｘ線パルス ７ ＹＡＧレーザー光入射窓 ８ ＹＡＧレーザー光 ９ レーザー反射ミラー １０ ＹＡＧレーザー装置 １１ ＹＡＧレーザー用同期制御トリガーパルス １２ 同期制御装置 １３ マルクスジェネレータ用同期制御トリガーパルス
Claims (9)
- 【請求項１】 真空容器内の対向金属電極の片側にレー
ザー光を照射して金属蒸気プラズマを生成させ、それを
予備電離プラズマとして大電流ピンチ放電を行いプラズ
マを圧縮して高密度、高温にし、プラズマから特性Ｘ
線、または制動放射Ｘ線パルスを発生させることを可能
とする金属プラズマ放電型Ｘ線発生装置。 - 【請求項２】 ピンチ放電を行う対向電極は、円筒形ま
たは円柱状のピン電極構造を有し、それらの軸は陰極、
陽極とも同一軸上にあることを特徴とする請求項１記載
の放電型Ｘ線発生装置。 - 【請求項３】 対向電極の片側にパイプ状の電極または
穴を有する電極を用い、その穴から対向電極間のピンチ
プラズマから電極軸方向に発生、増幅されるＸ線を取り
出すことを特徴とする請求項１記載の放電型Ｘ線発生装
置。 - 【請求項４】 レーザー光により金属表面に生成される
金属蒸気プラズマは、円柱または円筒状電極の軸に対し
て径方向に対称に膨張することを特徴とする請求項１記
載の放電型Ｘ線発生装置。 - 【請求項５】 発生するＸ線の光子エネルギーは、金属
電極の材質を変えることによって変化させることが可能
であることを特徴とする請求項１記載の放電型Ｘ線発生
装置。 - 【請求項６】 ピンチ放電は、レーザー照射により金属
蒸気プラズマが片方の電極上に生成された後、ある一定
時間経過後プラズマの膨張によりプラズマがもう片方の
電極に到達したところで開始されることを特徴とする請
求項１の放電型Ｘ線発生装置。 - 【請求項７】 Ｘ線パルス発生の繰り返し数は、金属蒸
気プラズマを生成するレーザー光とピンチ放電の繰り返
し数に依存することを特徴とする請求項１記載の放電型
Ｘ線発生装置。 - 【請求項８】 Ｘ線パルスの輝度、強度及びエネルギー
等は、ピンチ放電における放電電流及びレーザー光のパ
ルスエネルギーに依存することを特徴とする請求項１の
放電型Ｘ線発生装置。 - 【請求項９】 金属電極上に生成されるレーザープラズ
マの温度、密度及び膨張速度は、レーザー光強度及びレ
ーザー光の電極面への集光状態に依存することを特徴と
する請求項１の放電型Ｘ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34457499A JP2001160499A (ja) | 1999-12-03 | 1999-12-03 | 金属プラズマ放電型ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34457499A JP2001160499A (ja) | 1999-12-03 | 1999-12-03 | 金属プラズマ放電型ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001160499A true JP2001160499A (ja) | 2001-06-12 |
Family
ID=18370335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34457499A Pending JP2001160499A (ja) | 1999-12-03 | 1999-12-03 | 金属プラズマ放電型ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001160499A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004165155A (ja) * | 2002-09-19 | 2004-06-10 | Asml Netherlands Bv | 放射源、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 |
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| JP2010003687A (ja) * | 2008-06-16 | 2010-01-07 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置 |
| CN103874312A (zh) * | 2014-03-24 | 2014-06-18 | 西安交通大学 | 一种面向z箍缩的壳层等离子体柱产生方法及其装置 |
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1999
- 1999-12-03 JP JP34457499A patent/JP2001160499A/ja active Pending
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