JPH09298032A - 電子ビーム発生装置 - Google Patents

電子ビーム発生装置

Info

Publication number
JPH09298032A
JPH09298032A JP10986796A JP10986796A JPH09298032A JP H09298032 A JPH09298032 A JP H09298032A JP 10986796 A JP10986796 A JP 10986796A JP 10986796 A JP10986796 A JP 10986796A JP H09298032 A JPH09298032 A JP H09298032A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photocathode
electron beam
alloy
laser
cathode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10986796A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiki Iigami
芳樹 飯上
Jiyun Sasabe
順 佐々部
Junichi Imagama
潤一 今釜
Rei Suzuki
例 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hamamatsu Photonics KK
Original Assignee
Hamamatsu Photonics KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hamamatsu Photonics KK filed Critical Hamamatsu Photonics KK
Priority to JP10986796A priority Critical patent/JPH09298032A/ja
Publication of JPH09298032A publication Critical patent/JPH09298032A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 短波長の駆動用レーザ光源を用いることな
く、また高いレーザ光出力としなくても、量子効率が高
く、ダーク電流がほとんどなく、ピーク電流の揺らぎが
小さい電子ビーム発生装置を得る。 【解決手段】 モードロックYAGレーザ13の駆動用
レーザ光が照射される光電陰極12を、アルカリ金属と
Pbとの合金により形成する。これにより、室温〜20
0℃で、1×10ー3〜10ー4の量子効率が得られ、駆動
用レーザ装置の出力が小さくて済む。また、モードロッ
クYAGレーザ(3倍波)のレーザ光強度の揺らぎが小
さいので、自由電子レーザのレーザ発振の効率が高くな
る。さらに、長寿命動作が実現できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、自由電子レーザ用
などの電子ビームを発生する電子ビーム発生装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】一般に、例えば自由電子レーザ(Free E
lectron Laser;FEL)用の電子ビームとしては、高い
ピーク電流、低いエミッタンス等の特性を持つ高輝度な
ビームが要求されており、加速器への入射系として、駆
動用のレーザ光を照射するレーザ装置と、半導体、金属
単体、金属化合物からなる光電陰極を用いた光電子源と
が利用されている。そして、光電陰極の材料の特性とし
ては、高い量子効率、長い動作寿命、放出光電流の安定
性、ps電子パルスの発生が可能な応答性等が要求さ
れ、このような要求を満足する実用的な光電陰極につい
て種々の研究が続けられている。
【0003】従来では、自由電子レーザの入射系用の光
電陰極として、寿命、安定性、応答性の点で他の材料と
比較して大きな優位性を持つ金属または金属化合物から
なる光電陰極が注目されている。例えば、Nuclear Inst
ruments and Methods in Physics Research A358(1995)
272-275には、Mg、Cu、Sm、Y、Ba等の単体金
属や金属化合物からなる光電陰極が開示され、レーザー
研究,第23巻第1号,p55-67(1995年1月)には、LaB
6のような金属化合物からなる光電陰極が開示されてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】Mg、Cu、Sm、
Y、Ba等の単体金属を用いると、確かに長寿命とな
り、ダーク電流(熱電流)がほとんどないものの、比較
的仕事関数が高く、例えば、YAGレーザの4倍高調波
の266nmの短波長の駆動用レーザ光源が必要とな
り、レーザの種類が限られるという問題があった。特
に、パルス列で電子ビームが要求される自由電子レーザ
への応用の場合、モードロックYAGレーザの4倍高調
波のレーザ光源では光強度の揺らぎが大きいため、レー
ザ発振の効率が下がるという問題があった。また、上記
単体金属の仕事関数が高いことから、その量子効率はほ
とんどが10-4以下と低く、より高い駆動用レーザ光出
力が必要であった。
【0005】一方、LaB6の金属化合物を用いる場
合、その光電陰極を加熱することで量子効率の向上を図
っており、波長355nmで、10-4台(1000℃)
の量子効率を得ている。しかし、室温における量子効率
は低い。量子効率を上げるために加熱しているので、パ
ルス的な光電流のみでなく、熱電子放出によるダーク電
流が発生する。例えば、1000℃の加熱で、光電流の
1/100もの熱電流が発生してしまう。これは、不必
要な電子ビームであり、実用上好ましくない。また、高
温加熱しながら、同時に駆動用レーザ光も照射している
ので、温度を一定に維持することが難しく、発生する電
子ビームのピーク電流強度が揺らぐという問題があっ
た。
【0006】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、短波長の駆動用レーザ光源を用いること
なく、また高いレーザ光出力としなくても、量子効率が
高く、ダーク電流がほとんどなく、ピーク電流の揺らぎ
が小さい電子ビーム発生装置を提供することを目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1に係る発明は、電子ビーム発生装置におい
て、駆動用レーザ光が照射される光電陰極をアルカリ金
属とPbとの合金により形成することとした。
【0008】Na、K、Rb、Cs等のアルカリ金属と
Pbとの金属化合物(合金)により形成した光電陰極
は、例えばイオンポンプで排気した真空チャンバ内で用
いる。この光電陰極は、化学的に安定で、残留ガスの影
響が少なく、長寿命であり、量子効率が良好で、ダーク
電流がほとんどなく、ピーク電流の揺らぎが小さい。
【0009】駆動用レーザ光源としては、YAGレー
ザ、YLFレーザ、N2レーザ、KrFエキシマレー
ザ、XeClエキシマレーザ等のパルスレーザ光源、A
rイオンレーザのようなCWレーザ光源等を用いること
ができる。
【0010】請求項2に係る発明は、請求項1に係る電
子ビーム発生装置において、アルカリ金属とPbとの合
金をCsにより活性化したことを特徴とする。
【0011】アルカリ金属とPbとの合金をCsにより
活性化することによって、更に量子効率が向上する。
【0012】請求項3に係る発明は、請求項1または2
に係る発明において、光電陰極を2種以上のアルカリ金
属とPbとの複合合金により形成することを特徴とす
る。
【0013】
【発明の実施の形態】まず、実施形態で用いるCsーP
b合金の製造方法について、図4に基づき説明する。
【0014】予め、ガラス容器にCs片1を収容したC
sアンプル2と、有底円筒状の底部中央を開口したガラ
スチューブ内にショット状のPb片3を収容したPb試
料管4とを用意する。また、最終的にCsーPb合金を
入れる金属カソード容器5を用意する。この金属カソー
ド容器5は、Pb試料管4と同一径の有底円筒状に形成
され、その底部には保持棒6が取り付けられている。そ
して、図4に示すように、金属カソード容器5上にPb
試料管4を載せ、さらにその上方にCsアンプル2を配
置する。また、これらの外側をガラス容器7で囲み、下
方からArガスを供給できるようにしておく。
【0015】このような準備を完了した後、Cs片1や
Pb片3を溶かす前に、ガラス容器7の下からArガス
を流し、酸化を防ぐようにする。次に、図示を省略した
高周波コイルによって、ショット状のPb片3を溶ける
寸前まで加熱し、水分、酸素を取り除く。さらに、Cs
アンプル2を加熱し、Cs片1が溶けたCs融液をPb
片3の中に溶かし込み、両者が混ざったところで、最後
にPb試料管4を加熱して、全体を完全に溶かし、金属
カソード容器5に入れて、冷えるまで放置する。
【0016】ここで、アルカリ金属とPbとの合金の組
成比は、例えばCsーPb合金の場合、作成時の重量
を、Cs:1g、Pb:20g(重量比はCs:4.8
%、Pb:95.2%、原子数比はCs:7.2%、P
b:92.8%)とする。また、Na/KーPb複合合
金の場合、作成時の重量を、Na:10g、K:25
g、Pb:478g(重量比はNa:1.9%、K:
4.9%、Pb:93.2%、原子数比はNa:2.5
%、K:21.2%、Pb:76.3%)とする。
【0017】図5および図6に、上記のような作製方法
で得たCsーPb合金およびNa/KーPb複合合金
(Cs活性を行ったもの)の各テスト管の量子効率と放
射感度の測定結果を示す。図5および図6ともに、縦軸
に量子効率(%)と放射感度(mA/w)をとり、横軸
に波長(nm)をとったもので、実線が量子効率を、破
線が放射感度を示す。
【0018】図から判るように、350nmの波長で、
CsーPb管では1.4×10ー4(図5参照)、Csに
より活性化したNa/KーPb管では1.2×10
ー3(図6参照)の量子効率が得られた。
【0019】また、実験では、CsーPb管を加熱する
ことにより、量子効率が向上し、187℃で4.5×1
ー4(平均電流12.8μA)が得られ、この合金の場
合、加熱により量子効率が向上することが判った。
【0020】上記のようにして製造したアルカリ金属と
Pbとの合金を材料として光電陰極を作製した電子ビー
ム発生装置は、図1に示すような自由電子レーザ用の電
子ビーム発生装置として利用される。
【0021】自由電子レーザに用いる場合に要求される
電子源(光電陰極)の性能としては、例えば、電流密度
300A/cm2、ビームサイズφ3mm以下、パルス
幅10ps、電子数1.3×109個/パルス、光電子
エネルギー幅0.3eV未満である。
【0022】図1の装置は、加熱・Cs活性用の真空チ
ャンバ11内に、アルカリ金属とPbとの合金により形
成した光電陰極12を配置し、この光電陰極12にモー
ドロックYAGレーザ(3倍波)13からミラー14を
介して駆動用レーザ光を照射することができる構成とな
っている。また、光電陰極12には、自由電子レーザ用
加速器15が対向して配置されている。
【0023】この装置では、真空チャンバ11中の光電
陰極12上に、ミラー14を介してモードロックYAG
レーザ13からのパルス列状の駆動用レーザ光(波長3
55nm)を照射し、この光電陰極12からパルス列状
の電子ビームを放出させ、これを自由電子レーザ用加速
器15に入射する。
【0024】図2に、加熱・Cs活性用の真空チャンバ
11の詳細を示す。
【0025】チャンバ20内には、軸方向に進退自在の
トランスファロッド21がベローズ22を介して気密に
導入されている。このトランスファロッド21の内端部
には、カソードホルダ23が取り付けられており、カソ
ードホルダ23の先端には、アルカリ金属とPbとの合
金からなる光電陰極12が取り付けられている。また、
カソードホルダ23には、電流フィードスルー24aに
接続されたヒータ25が内蔵されており、光電陰極12
を加熱することができるようになっている。
【0026】さらに、チャンバ20内には、カソードホ
ルダ23が後退したときのホルダ先端近傍に、電流フィ
ードスルー24b,24cを介して通電することにより
Csを蒸発することができるようにCs源26が設置さ
れており、光電陰極12を加熱しながらCs活性を行う
ことができるようになっている。また、チャンバ20に
おけるCs源26の下方には、光電陰極12の量子効率
を測定できるように、感度モニタ用の窓27が形成され
ている。
【0027】チャンバ20のゲートバルブ28側には、
光電陰極12を取り付けたカソードホルダ23の先端部
を挿入してこれを保持することができるようなカソード
保持孔29が形成されている。そして、カソード保持孔
29の近傍には、加速電極30が配置されており、この
加速電極30を通してレーザ光31を光電陰極12に照
射できるようになっている。
【0028】なお、図2において破線で示すように、チ
ャンバ20全体は加熱(ベーキング)することができる
ようになっている。32は、チャンバ20の真空排気用
穴である。
【0029】このような構成の装置において光電子を放
出させるには、まず、ゲートバルブ28を閉め、真空排
気用穴32を通じて、チャンバ20内を10ー8Torrの真
空度まで排気する。排気後、チャンバ20全体のベーキ
ング処理を行う。ベーキングの温度は、光電陰極12を
形成する合金の融点の関係で、200℃程度を限界値と
する。また、Cs活性を行うには、電流フィードスルー
24b,24cを介して通電し、Csの蒸発を行う。次
に、感度モニタ用の窓27から光電陰極12にレーザ光
を入射し、光電陰極12の量子効率を測定する。量子効
率を確認した後、ゲートバルブ28を開け、トランスフ
ァロッド21により、カソードホルダ23をカソード保
持孔29まで移動させて、光電陰極12を加速電極30
側に露出させる。
【0030】光電子を放出させる際は、加速電極30側
から駆動用のレーザ光31を光電陰極12に照射する。
【0031】なお、量子効率を上げるために、光電陰極
12の加熱が必要なときは、カソードホルダ23内のヒ
ータ25に電流フィードスルー24aから通電し、光電
陰極12を加熱する。この場合、光電陰極12の加熱温
度は、ベーキングと同様に、その合金の融点の関係で、
200℃程度を限界値とする。
【0032】また、Cs活性処理を行った光電陰極12
で、通常運転後、かなり感度が下がってきた場合には、
光電陰極12をトランスファロッド21により引き戻し
(後退させ)、最初と同じ工程により、Cs活性化を行
うとよい。
【0033】本実施形態の電子ビーム発生装置を用いれ
ば、室温〜200℃で、1×10ー3〜10ー4の量子効率
が得られ、駆動用レーザ装置の出力が小さくて済む。ま
た、モードロックYAGレーザ(3倍波)のレーザ光強
度の揺らぎが小さいので、FELのレーザ発振の効率が
高くなる。さらに、開放系(真空チャンバ内)における
長寿命動作が実現できる。
【0034】また、本実施形態の電子ビーム発生装置
は、表面分析装置として、図3に示すような時間分解電
子線回折装置への応用ができる。
【0035】図3に示す装置において、加熱・Cs活性
用の真空チャンバ11内に、アルカリ金属とPbとの合
金により形成した光電陰極12を配置する構成、この光
電陰極12にモードロックYAGレーザ(3倍波)13
からミラー14を介して駆動用レーザ光を照射する構成
は、それぞれ図1に示す装置と同様である。この装置で
は、光電陰極12から放出される電子ビームを試料40
に照射し、回折像検出器41により情報を得ることを特
徴とする。
【0036】つまり、モードロックYAGレーザ3か
ら、よりエネルギーが高く、ピーク強度の少ないYAG
第三高調波(355nm)の駆動用レーザ光を光電陰極
12に照射し、psのパルス電子ビームを発生させ、こ
のビームを固体・気体試料40に照射し、回折像検出器
41で検出し、電子線回折像の時間変化を測定すること
で、試料40の原子・分子構造変化(相転移、分子振動
等)に関する情報を引き出すものである。
【0037】本実施形態の電子ビーム発生装置を用いれ
ば、ps電子パルスの発生が可能な応答性を満足し、良
好な電子線回折像を得ることができる。
【0038】
【発明の効果】以上のように、本発明の電子ビーム発生
装置によれば、短波長の駆動用レーザ光源を用いること
なく、また高いレーザ光出力としなくても、量子効率が
高く、低温(200℃以下)動作のために、ダーク電流
が非常に少なく、ピーク電流の揺らぎが小さい。
【0039】また、Csにより活性化を行なった場合
は、より高い量子効率が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電子ビーム発生装置を自由電子レーザ
に適用した例を示す概略構成図である。
【図2】本発明の電子ビーム発生装置における加熱・C
s活性用のチャンバを示す概略構成図である。
【図3】本発明の電子ビーム発生装置を時間分解能電子
線回折装置に適用した例を示す概略構成図である。
【図4】アルカリ金属とPbとの合金を製造する装置を
示す縦断面図である。
【図5】CsーPb合金の量子効率および放射感度を示
すグラフである。
【図6】Na/KーPb複合合金(Cs活性したもの)
の量子効率および放射感度を示すグラフである。
【符号の説明】
1…Cs片、3…Pb片、11…真空チャンバ、12…
光電陰極、13…モードロックYAGレーザ、15…自
由電子レーザ用加速器、26…Cs源、31…レーザ光
フロントページの続き (72)発明者 鈴木 例 静岡県浜松市市野町1126番地の1 浜松ホ トニクス株式会社内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 駆動用レーザ光が照射される光電陰極を
    アルカリ金属とPbとの合金により形成したことを特徴
    とする電子ビーム発生装置。
  2. 【請求項2】 前記合金をCsにより活性化したことを
    特徴とする請求項1記載の電子ビーム発生装置。
  3. 【請求項3】 前記合金は、2種以上のアルカリ金属と
    Pbとの複合合金であることを特徴とする請求項1また
    は2記載の電子ビーム発生装置。
JP10986796A 1996-04-30 1996-04-30 電子ビーム発生装置 Pending JPH09298032A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10986796A JPH09298032A (ja) 1996-04-30 1996-04-30 電子ビーム発生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10986796A JPH09298032A (ja) 1996-04-30 1996-04-30 電子ビーム発生装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09298032A true JPH09298032A (ja) 1997-11-18

Family

ID=14521217

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10986796A Pending JPH09298032A (ja) 1996-04-30 1996-04-30 電子ビーム発生装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09298032A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003045368A (ja) * 2001-07-27 2003-02-14 Hamamatsu Photonics Kk 電子線発生装置及び光電面収容カートリッジ
KR101104484B1 (ko) * 2009-07-06 2012-01-12 포항공과대학교 산학협력단 펨토초 전자빔 발생장치
WO2015008561A1 (ja) * 2013-07-16 2015-01-22 国立大学法人名古屋大学 電子親和力の低下処理装置に用いられる活性化容器及びキット、該キットを含む電子親和力の低下処理装置、フォトカソード電子ビーム源、並びに、フォトカソード電子ビーム源を含む電子銃、自由電子レーザー加速器、透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、電子線フォログラフィー顕微鏡、電子線描画装置、電子線回折装置及び電子線検査装置
WO2018186294A1 (ja) * 2017-04-05 2018-10-11 株式会社Photo electron Soul 電子線発生装置、および、電子線適用装置
WO2019131410A1 (ja) * 2017-12-27 2019-07-04 株式会社Photo electron Soul 試料検査装置、および、試料検査方法
TWI696206B (zh) * 2018-09-27 2020-06-11 日商Photo Electron Soul股份有限公司 電子射線產生裝置以及電子射線應用裝置
WO2021210382A1 (ja) * 2020-04-16 2021-10-21 株式会社Photo electron Soul 電子銃、電子線適用装置、および、電子ビームの射出方法
US11842879B2 (en) 2020-09-09 2023-12-12 Photo Electron Soul Inc. Electron gun, electron gun component, electron beam applicator, and alignment method

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003045368A (ja) * 2001-07-27 2003-02-14 Hamamatsu Photonics Kk 電子線発生装置及び光電面収容カートリッジ
KR101104484B1 (ko) * 2009-07-06 2012-01-12 포항공과대학교 산학협력단 펨토초 전자빔 발생장치
WO2015008561A1 (ja) * 2013-07-16 2015-01-22 国立大学法人名古屋大学 電子親和力の低下処理装置に用いられる活性化容器及びキット、該キットを含む電子親和力の低下処理装置、フォトカソード電子ビーム源、並びに、フォトカソード電子ビーム源を含む電子銃、自由電子レーザー加速器、透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、電子線フォログラフィー顕微鏡、電子線描画装置、電子線回折装置及び電子線検査装置
JP2015022810A (ja) * 2013-07-16 2015-02-02 国立大学法人名古屋大学 電子親和力の低下処理装置に用いられる活性化容器及びキット、該キットを含む電子親和力の低下処理装置、フォトカソード電子ビーム源、並びに、フォトカソード電子ビーム源を含む電子銃、自由電子レーザー加速器、透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、電子線フォログラフィー顕微鏡、電子線描画装置、電子線回折装置及び電子線検査装置
US9934926B2 (en) 2013-07-16 2018-04-03 National University Corporation Nagoya University Activation chamber, kit used in treatment device and treatment device, for lowering electron affinity
KR20190128699A (ko) * 2017-04-05 2019-11-18 가부시키가이샤 포토 일렉트론 소울 전자선 발생 장치, 및, 전자선 적용 장치
WO2018186294A1 (ja) * 2017-04-05 2018-10-11 株式会社Photo electron Soul 電子線発生装置、および、電子線適用装置
JP6501285B2 (ja) * 2017-04-05 2019-04-17 株式会社Photo electron Soul 電子線発生装置、および、電子線適用装置
JPWO2018186294A1 (ja) * 2017-04-05 2019-06-27 株式会社Photo electron Soul 電子線発生装置、および、電子線適用装置
US11302507B2 (en) 2017-04-05 2022-04-12 Photo Electron Soul Inc. Electron beam generator and electron beam applicator
WO2019131410A1 (ja) * 2017-12-27 2019-07-04 株式会社Photo electron Soul 試料検査装置、および、試料検査方法
US11150204B2 (en) 2017-12-27 2021-10-19 Photo Electron Soul Inc. Sample inspection device and sample inspection method
JP6604649B1 (ja) * 2017-12-27 2019-11-13 株式会社Photo electron Soul 試料検査装置、および、試料検査方法
TWI696206B (zh) * 2018-09-27 2020-06-11 日商Photo Electron Soul股份有限公司 電子射線產生裝置以及電子射線應用裝置
WO2021210382A1 (ja) * 2020-04-16 2021-10-21 株式会社Photo electron Soul 電子銃、電子線適用装置、および、電子ビームの射出方法
US11842879B2 (en) 2020-09-09 2023-12-12 Photo Electron Soul Inc. Electron gun, electron gun component, electron beam applicator, and alignment method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Fujisaki et al. Implantation of neutral atoms into liquid helium by laser sputtering
Chevallay et al. Photocathodes tested in the dc gun of the CERN photoemission laboratory
US5426686A (en) Compact high-intensity pulsed x-ray source, particularly for lithography
Costello et al. X-UV absorption spectroscopy with laser-produced plasmas: a review
US5930331A (en) Compact high-intensity pulsed x-ray source, particularly for lithography
WO2015008561A1 (ja) 電子親和力の低下処理装置に用いられる活性化容器及びキット、該キットを含む電子親和力の低下処理装置、フォトカソード電子ビーム源、並びに、フォトカソード電子ビーム源を含む電子銃、自由電子レーザー加速器、透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、電子線フォログラフィー顕微鏡、電子線描画装置、電子線回折装置及び電子線検査装置
JPH09298032A (ja) 電子ビーム発生装置
US4592064A (en) Inner-shell d-electron photoionization apparatus
Thiem et al. Lasers in atomic spectroscopy: selected applications
Gibson et al. CO2 laser generation of plasma for spectroscopy and spectrochemical analysis
Egbert et al. High-repetition rate femtosecond laser-driven hard-x-ray source
JP2530591B2 (ja) 大電流密度の電子放出に適するパルス状レ−ザ−光励起による電子源装置
JP3119285B2 (ja) 光陰極とこれを用いた電子銃並びに加速器
Kong et al. Performance of cesium telluride photocathodes as an electron source for the Los Alamos Advanced FEL
JPH0714503A (ja) レーザー熱陰極構造体
JP2001160499A (ja) 金属プラズマ放電型x線発生装置
JPS62224480A (ja) 二重ビ−ムガスイオンレ−ザ−
Crawford et al. Properties of a laser‐plasma x‐ray source for x‐ray lithography
Asakawa et al. Experimental studies of photocathode materials for FELs
Bollanti et al. Characteristics of a soft X-ray plasma source for different pumping laser configurations and spectral analysis
JPH03283398A (ja) X線発生装置
Lunney et al. Ion-implanted target for soft x-ray laser investigations
Bradley Some recent advances in lasers and opto-electronics
JPS6197879A (ja) 金属蒸気レ−ザ装置
US4904310A (en) Method of generating a metal vapor in a metal vapor laser