JP5502450B2 - 反射型露光用マスク、反射型露光用マスクの検査方法、及び反射型露光用マスクの洗浄方法 - Google Patents
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Description
図1を用いて、第1の実施形態に係る反射型露光用マスクの基本的な構造について説明する。図1(a)は、本発明の第1の実施形態に係る反射型露光用マスクの基本的な構造を模式的に示した上面図であり、図1(b)は、図1(a)のA−A線に沿った断面図である。
次に、図13〜18を用いて第1の実施形態の変形例に係る反射型マスク10の基本的な製造方法を概略的に説明する。図13〜図18は、本発明の第1の実施形態の変形例に係る反射型マスク10の基本的な製造方法を模式的に示した断面図である。なお、基本的な構造及び、基本的な製造方法は、上述した実施形態と同様である。したがって、上述した実施形態で説明した事項及び上述した実施形態から容易に類推可能な事項についての説明は省略する。
次に、図19を用いて、第2の実施形態に係る反射型露光用マスクの基本的な構造について説明する。図19(a)は、本発明の第2の実施形態に係る反射型露光用マスクの基本的な構造を概略的に示した上面図であり、図19(b)は、図19(a)のA−A線に沿った断面図である。
11…反射型マスクブランクス
20…反射型マスク
100…支持基板
101…反射多層膜
102…保護層
103…バッファ層
104…吸収体
105…低反射層
106…レジスト層
107…レジスト層
110…反射層
120…吸収体層
130…コンタミ
140…低反射加工領域
150…コンタミ
Claims (6)
- 基板上に形成され、露光光を吸収する第1の光吸収部と露光光を反射する光反射部とを有する第1の層と、
前記光反射部上に形成され、露光光を吸収する第2の光吸収部を有する第2の層と
を備え、
前記光反射部は、
前記第2の光吸収部によって覆われる、非露出部と、
前記第2の光吸収部によって覆われない、露出部と、
を具備し、
前記第1の光吸収部は、前記露出部によって囲まれる
ことを特徴とする反射型露光用マスク。 - 前記第1の光吸収部は凹型のパターンであることを特徴とする請求項1記載の反射型露光用マスク。
- 前記第1の光吸収部の表面の高さは、前記光反射部の表面の高さと略同一であることを特徴とする請求項1記載の反射型露光用マスク。
- 基板上に形成され、露光光を吸収する第1の光吸収部と露光光を反射する光反射部とを有する第1の層と、前記光反射部上に形成され、露光光を吸収する第2の光吸収部を有する第2の層とを備える反射型露光用マスクを用意する工程と、
前記反射型露光用マスクに露光光を照射して、前記第1の吸収部に対応する第1のパターンと、前記第2の吸収部に対応する第2のパターンとを得る工程と、
前記第1のパターンと前記第2のパターンとのパターン間の寸法の変動量または前記第1のパターンと前記第2のパターンの位置の変動量から、前記反射型露光用マスクに堆積されたコンタミネーションの堆積量を導出する工程と
を備えることを特徴とする反射型露光用マスクの検査方法。 - 請求項4の方法によって導出されたコンタミネーションの堆積量が所定の量を超えた場合、前記コンタミネーションを除去することを特徴とする反射型露光用マスクの洗浄方法。
- 請求項4の方法によって導出されたコンタミネーションの堆積量を記録し、前記コンタミネーションを除去するタイミングを決定する工程と、
前記決定されたタイミングで前記コンタミネーションを除去する工程と
を有することを特徴とする反射型露光用マスクの洗浄方法。
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