JP5464497B2 - 基板研磨方法及びその装置 - Google Patents
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Description
W 円形状基板
M 内周端面
N 外周端面
A 保持回転機構
B 研磨加工機構
T 研磨テープ
C テープ移送機構
C1 行案内部
C2 戻案内部
C3 迂回案内部
K 迂回研磨部
D テープ研磨機構
E 圧接機構
F 研磨部揺動機構
H 内側圧接位置
L 外側圧接位置
G 切替移動機構
T1 行側部分
T2 戻側部分
T3 側方迂回部分
S 回転機構
3 ロール列
Claims (4)
- 中心部に円孔を有する円形状基板を保持して回転させる保持回転機構と、該円形状基板の円孔の内周端面及び該円形状基板の外周端面を研磨する研磨加工機構とからなり、上記保持回転機構は、円形状基板の外周端面を保持可能な複数個のロール列及び該円形状基板の外周端面を該ロール列により保持した状態で円形状基板を円孔の中心を回転軸線として回転させる回転機構を備えてなり、上記研磨加工機構には、研磨テープを間欠的又は連続的に移送させるテープ移送機構と、該研磨テープを行戻移送案内可能な行案内部及び戻案内部を有すると共に該行戻移送案内される研磨テープの折返部分を側方に迂回案内可能な迂回案内部を有し、該迂回案内部には上記研磨テープの行側部分及び戻側部分のうちの行側部分を行案内部から側方に折返すと共に戻側部分を側方から戻案内部に折返す二つの折返面部及び該両折返面部により側方に折り返された研磨テープを迂回案内すると共に研磨圧力を受ける遊転ロール状の受圧面部を設けてなり、該迂回案内部により側方に迂回案内された研磨テープの側方迂回部分を上記円形状基板の円孔の内周端面又は該円形状基板の外周端面を研磨可能な迂回研磨部とするテープ研磨機構と、該迂回研磨部又は円形状基板を圧接移動して該迂回研磨部と該円孔の内周端面又は該迂回研磨部と該円形状基板の外周端面とを圧接可能な圧接機構と、該圧接機構により該迂回研磨部を該円孔の内周端面に圧接した状態において、該迂回研磨部を該円孔の内周端面に対向する方向に間欠的又は連続的に揺動運動させて該迂回研磨部により該円孔の内周端面をC面又はR面に研磨すると共に該圧接機構により該迂回研磨部を円形状基板の外周端面に圧接した状態において、該迂回研磨部を円形状基板の外周端面に対向する方向に間欠的又は連続的に揺動運動させて該迂回研磨部により該円形状基板の外周端面をC面又はR面に研磨するための研磨部揺動機構と、上記保持回転機構又は、上記研磨加工機構のうち、少なくとも上記テープ研磨機構と上記研磨部揺動機構とを、上記迂回研磨部と上記円孔の内周端面とが圧接する内側圧接位置から該迂回研磨部と該円形状基板の外周端面とが圧接する外側圧接位置へと切替移動させて該円形状基板の内周端面及び外周端面を研磨するための切替移動機構とを備えてなることを特徴とする基板研磨装置。
- 上記テープ研磨機構を上記迂回研磨部での上記研磨テープの移送方向と交差する方向に揺振運動させる揺振機構を設けてなることを特徴とする請求項1記載の基板研磨装置。
- 上記遊転ロール状の受圧面部はゴム又は合成樹脂等の弾性材或いは硬質材からなることを特徴とする請求項1又は2記載の基板研磨装置。
- 上記研磨テープからなる上記迂回研磨部による研磨構造は乾式構造又は湿式構造であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の基板研磨装置。
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