JP2002001637A - ウエハ外周の直線部用研磨装置 - Google Patents

ウエハ外周の直線部用研磨装置

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JP2002001637A
JP2002001637A JP2000184476A JP2000184476A JP2002001637A JP 2002001637 A JP2002001637 A JP 2002001637A JP 2000184476 A JP2000184476 A JP 2000184476A JP 2000184476 A JP2000184476 A JP 2000184476A JP 2002001637 A JP2002001637 A JP 2002001637A
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polishing
wafer
linear portion
linear
work surface
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JP2000184476A
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Shunji Hakomori
守 駿 二 箱
Noriyuki Terasaki
崎 紀 行 寺
Toru Asai
井 徹 浅
Noriaki Mizuno
野 憲 明 水
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SpeedFam Co Ltd
Original Assignee
SpeedFam Co Ltd
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  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハ外周の面取り加工された直線部を効率
良く研磨することが可能な直線部専用の研磨装置を得
る。 【解決手段】 面取り加工された直線部2を有する円板
形ウエハ1をウエハ保持手段11のチャックヘッド16
に非回転状態に保持させ、上記直線部2にこの直線部2
の長さと少なくとも同じ幅の作業面12aを有する研磨
部材12を接触させて、ウエハ1と研磨部材12との接
触角を変えながら上記直線部2の面取りされた斜面とこ
れに隣接する端面とを研磨する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
円板形ウエハの外周の一部に形成された直線部を鏡面研
磨するための研磨装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、シリコンウエハのような半導体
ウエハは円板形をしていて、その外周部には、エッジの
チッピング防止やエピタキシャル成長時のクラウン防止
等のために面取り加工が施されている。このような面取
り部には汚れが残り易く、その汚れがデバイスプロセス
時にウエハ全体に拡散して特性を劣化させるため、最近
では、面取りされた外周部を専用の研磨装置を使用して
鏡面研磨することが行われている。その代表的な例とし
て、例えば特開平1−71656号公報には、回転する
ウエハの外周部に回転する円筒形の研磨ドラムを押し付
けて研磨するものが記載されている。
【0003】ところが、半導体ウエハは必ずしも全てが
完全な円形をしているとは限らず、図12(A),
(B)に示すように、外周の一部にオリエンテーション
フラットと呼ばれる割線状の直線部2を有するウエハ1
もあり、この直線部2にも円周部3と同様の面取り加工
が施されている。このような直線部2を有するウエハ1
の場合、その円周部3と直線部2とを上述したような研
磨装置を使用して同時に精度良く研磨するのは困難であ
る。そこで例えば、特開平7−169721号公報に記
載されているように、内周面と外周面の両方に研磨パッ
ドを貼着した円筒形の研磨ドラムを使用して、その内周
面でウエハの円周部を研磨し、外周面で直線部を研磨す
るといった具合に、円周部と直線部とを別工程で研磨す
る方法が提案されている。
【0004】しかしながら上記方法は、ウエハの直線部
を研磨ドラムの外周面に点接触させて研磨するようにし
ているため、加工効率が悪く、加工に時間がかかること
になる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、ウエ
ハ外周の面取り加工された直線部を効率良く研磨するこ
とができる、直線部専用の研磨手段を備えた研磨装置を
提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明によれば、面取り加工された割線状の直線部
を有する円板形ウエハを非回転状態に保持可能なウエハ
保持手段と、上記直線部の長さと少なくとも同じ幅の作
業面を有し、研磨時にこの作業面が上記直線部に全長に
わたり接触するように配設された回転自在の一つの研磨
部材と、上記研磨部材を回転させるための駆動手段と、
上記直線部の面取りされた斜面とこれに隣接する端面と
を研磨すべくウエハと研磨部材との接触角を変更するた
めの接触角変更機構と、を有することを特徴とするウエ
ハ外周の直線部用研磨装置が提供される。
【0007】上記構成を有する研磨装置は、研磨部材を
ウエハの直線部に全長にわたり接触させることにより、
この研磨部材を面取りされた斜面やこれに隣接する端面
などに面接触させてそれぞれの面全体を一時に研磨する
ことができるため、研磨ドラムを直線部に点接触させて
研磨する従来方式に比べ、研磨効率が非常に良い。ま
た、ウエハと研磨部材との接触角を変えながら上記斜面
や端面を順次研磨することにより、一つの研磨部材でこ
れらの各面を確実に研磨することができ、装置の簡略化
と小形化とを実現することができる。
【0008】本発明の具体的な実施形態によれば、上記
ウエハ保持手段が、ウエハの片面を吸着により保持する
チャックヘッドを有し、このチャックヘッドが、保持し
たウエハの直線部に近接する位置において該直線部と平
行なヘッド支軸により傾動自在に支持されていて、これ
らのチャックヘッドとヘッド支軸と該チャックヘッドを
傾動させる駆動手段とによって上記接触角変更機構が構
成されている。
【0009】本発明においては、上記直線部と作業面と
の接触位置を変えるべくウエハと研磨部材とを直線部に
沿う方向に相対的に揺動させるための揺動機構を有する
ことが望ましい。
【0010】本発明の一つの具体的な実施形態によれ
ば、上記研磨部材が円筒形をした研磨ドラムであって、
外周面に研磨パッドからなる円筒状の作業面を有し、ド
ラムの回転軸線をウエハの直線部と平行に向けて配設さ
れている。この場合に上記研磨ドラムが、円筒形をした
基筒の外周面にシート状の研磨パッドを巻着することに
より形成されていて、該研磨パッド両端の継目がドラム
の母線に対して傾斜していることが望ましい。また、上
記継目の部分には、研磨液吸収時のパッドの伸長を吸収
させるための隙間を設けることができる。
【0011】本発明の他の具体的な実施形態によれば、
上記研磨部材が円板形をした研磨定盤であって、表面に
研磨パッドからなる平らな作業面を有し、定盤の回転軸
線をウエハの直線部と直角に向けて配設されている。
【0012】
【発明の実施の形態】図1〜図3は本発明に係る研磨装
置の第1実施例を概略的に示すもので、この研磨装置1
Aは、外周の一部に割線状の直線部2を有する円板形ウ
エハ1を非回転状態に保持するためのウエハ保持手段1
1と、上記ウエハ1の直線部2を鏡面研磨するための回
転自在の研磨部材12とを有している。上記ウエハ1の
直線部2には、図12に示すように、円周部3と同様の
面取り加工を施すことにより、表面側の第1斜面2aと
裏面側の第2斜面2b及びこれら両斜面2a,2b間に
位置する端面2cが形成されており、上記研磨部材12
で直線部2におけるこれらの各面2a,2b,2cを、
ウエハ1と研磨部材12との接触角を変えながら順次研
磨するものである。上記各面2a,2b,2cは、湾曲
した曲面の形で相互に連なっていても良い。
【0013】上記ウエハ保持手段11は、図1〜図3か
ら分かるように、機体10上に設けられた左右の支持フ
レーム14,14と、これらの支持フレーム14,14
間にヘッド支軸15で傾動自在に取付けられたチャック
ヘッド16とを有している。このチャックヘッド16
は、その上面に開口する複数の吸着孔(図示せず)によ
ってウエハ1の片面をバキュームチャックするもので、
上記吸着孔がチューブ16aを通じて図示しない吸引ポ
ンプに接続されている。
【0014】上記ヘッド支軸15は、チャックヘッド1
6に保持されたウエハ1の直線部2に近接する位置に該
直線部2と平行に配設されていて、左右二つの軸部分に
分かれており、その一方の軸部分の端部にはプーリー1
7aが取付けられ、このプーリー17aとモーター18
の回転軸18aに取付けられたプーリー17bとの間
に、タイミングベルト19が巻き掛けられている。上記
モーター18は、チャックヘッド16を傾動させるため
の駆動手段であって、機体10に取付けられている。そ
して、このモーター18でタイミングベルト19を介し
て上記ヘッド支軸15を軸線回りに所要角度回転させる
ことにより、チャックヘッド16が、図4及び図5に示
すように、研磨部材12で直線部2の第1斜面2aを研
磨する第1研磨位置Aと、反対側の第2斜面2bを研磨
する第2研磨位置Bと、端面2cを研磨する第3研磨位
置Cとの間を傾動するようになっている。従って上記チ
ャックヘッド16とヘッド支軸15及びモーター18と
は、上記ウエハ1と研磨部材12との接触角を変更する
ための接触角変更機構20を構成するものである。
【0015】なお、上記直線部2の3つの面2a,2
b,2cを研磨する順番は任意であって、第1斜面2a
−第2斜面2b−端面2cの順に研磨するとは限らず、
第1斜面2a−端面2c−第2斜面2bの順に研磨した
り、端面2c−第1斜面2a−第2斜面2bの順に研磨
することもあり、それらの順番は自由に設定することが
できる。
【0016】上記研磨部材12は、外周面に円筒状の作
業面12aを有する円筒形の研磨ドラムであって、基筒
の外周面に研磨パッド23を貼着することにより形成さ
れ、その回転軸線をウエハ1の直線部2と平行かつ水平
に向けて配設され、研磨時に上記作業面12aが、ウエ
ハ1の直線部2に全長にわたり接触できるようになって
いる。従って上記作業面12aの幅Wは、直線部2の長
さLと同じかそれよりやや長く形成されている。
【0017】上記研磨パッド23は、無端のリング状に
形成したものを基筒に嵌め付けても良いが、この実施例
では、シート状の研磨パッド23を基筒の外周面に一重
巻きして貼り付けている。このようにシート状の研磨パ
ッド23を巻着する場合、作業面12aには、パッドの
両端同士が衝合する位置に継目23aが形成されること
になる。そしてこの継目23aは、矩形シート状の研磨
パッド23を使用する場合には円筒の母線と平行に形成
され、それはウエハ1の直線部2とも平行するため、研
磨時に回転する継目23aに直線部2が引っ掛かかり易
くなることが考えられる。そこで好ましくは、図3に示
すように、上記継目23aを円筒の母線に対して傾斜さ
せることである。のように継目23aを傾斜させること
により、研磨時に継目23aがウエハ1の直線部2と交
差した状態で遭遇するため、該継目23aに直線部2が
引っ掛かりにくくなる。
【0018】このようにパッドの継目23aを傾斜させ
るには、図6に示すように、両端を斜めにカットした研
磨パッド23を使用すれば良い。また、上記研磨パッド
23は、研磨液を吸収することによって研磨ドラムの周
方向にも若干伸長し、継目23aの部分が盛り上がって
剥れ易くなるおそれがあるため、図7に示すように、該
継目23aの部分に研磨パッド23の伸長分を吸収させ
るための僅かな隙間23bを設けておくことが望まし
い。この場合に研磨パッド23の両端部は、図7に示す
ように、厚さ方向に真っ直ぐ切断しても良いが、図8に
示すように、斜めに傾斜させて切断しても良い。
【0019】上記研磨部材12は、主軸台25に水平軸
線の回りに回転自在なるように支持されたスピンドル2
6の先端に取付けられ、このスピンドル26の基端部に
はプーリー27aが取付けられている。また、上記主軸
台25の上には、上記スピンドル26を回転させるため
の駆動手段であるモーター28がゴム等の吸振部材29
を介して載置され、このモーター28の回転軸にはプー
リー27bが取付けられ、このプーリー27bと上記ス
ピンドル26上のプーリー27aとの間にベルト30が
巻き掛けられており、このモーター28により研磨部材
12が、正逆両方向に回転させられるようになってい
る。
【0020】上記主軸台25は、機体10上に上下に段
積されたスライド機構32と揺動機構33とを介して設
置されている。このうち下段の揺動機構33は、研磨時
に研磨部材12とウエハ直線部2との接触位置を変える
べく該研磨部材12を自身の軸線方向(従って直線部2
に沿う方向)に揺動させるためのもので、機体10上に
上記スピンドル26と平行に設置されたリニアガイド3
4と、このリニアガイド34に沿って移動自在の揺動テ
ーブル35と、この揺動テーブル35を往復揺動させる
ための駆動機構36とを有している。この駆動機構36
は、モーター37により正逆回転されるボールねじ38
と、このボールねじ38に螺合するナット部材39とを
有していて、このナット部材39が上記揺動テーブル3
5から延出するアーム35aに取付けられ、ボールねじ
38の回転によるナット部材39の変移によって揺動テ
ーブル35が、スピンドル26の軸線方向に揺動するよ
うになっている。
【0021】また、上段のスライド機構32は、研磨部
材12をウエハ1の直線部2に接離する方向に変移させ
るためのもので、上記主軸台25が載置されたスライド
テーブル41と、このスライドテーブル41を上記リニ
アガイド34と直行する方向に小さい摩擦抵抗で移動自
在なるように支持、案内するガイド手段42と、上記ス
ライドテーブル41を研磨部材12がウエハ1の直線部
2に接触する方向に向けて常時付勢する付勢手段43と
を備えている。上記ガイド手段42は、例えばリニアモ
ーションベアリング等からなっていて、上記揺動テーブ
ル35上に設置されている。また、上記付勢手段43は
ウエートからなっていて、ワイヤー44の先端に吊り下
げられ、このワイヤー44の基端部がスライドテーブル
41の側面に取付られ、ワイヤー44の中間部はプーリ
ー45に巻き掛けられており、この付勢手段43により
上記研磨部材12が、ウエハ1の直線部2に常に一定の
接触圧で接触させられるようになっている。上記プーリ
ー45は、揺動テーブル35に取付けられた支持部材4
6に支持されている。
【0022】上記構成を有する研磨装置1Aでウエハ1
の直線部2を鏡面研磨するときは、スライド機構32に
より研磨部材12をウエハ保持手段11から離間させた
状態で、適宜のローディング手段によりウエハ1をチャ
ックヘッド16上に供給して吸着、保持させたあと、回
転する研磨部材12の作業面12aを該ウエハ1の直線
部2に当接させ、図4及び図5に示すように、接触角変
更機構20で互いの接触角を変えながら2つの斜面2
a,2bと端面2cとを順次研磨する。このとき各面を
研磨する順番は任意であるが、例えば第1斜面2a−端
面2c−第2斜面2bの順に研磨する場合は、チャック
ヘッド16を先ず第1研磨位置Aに傾動させることによ
り第1斜面2aを作業面12aに接触させ、図の反時計
回りに回転する研磨部材12でこの第1斜面2aを研磨
する。このとき、上記作業面12aの幅Wが直線部2の
長さLと同じかそれよりやや長く形成されていること
と、研磨パッド23の圧縮性とによって第1斜面2a全
体が作業面12aに面接触し、その全面が一度に研磨さ
れることになる。また、研磨時に上記研磨部材12は、
揺動機構33によって軸線方向に往復揺動され、この揺
動により作業面12aがその全幅で直線部2と接触し、
特定の位置にウエハ1が接触することによる偏摩耗が防
止される。
【0023】上記第1斜面2aの研磨が終わると、接触
角変更機構20によりチャックヘッド16を第3研磨位
置Cに傾動させ、第1斜面2aの場合と同様にして端面
2cを研磨する。
【0024】そして、上記端面2cの研磨が終わると、
接触角変更機構20によりチャックヘッド16を第2研
磨位置Bに変移させ、第1斜面2aの場合と同様にして
第2斜面2bを研磨する。このとき研磨部材12の回転
方向は、反時計回りであっても良いが、第2斜面2bの
両側にある2つの角部のうち鈍角をなす角部を初めに作
業面12aと遭遇させるようにするため、時計回りに回
転させることが望ましい。
【0025】3つの面の研磨が終了すると、研磨部材1
2をウエハ1から離間させてチャックヘッド16を第3
研磨位置Cに復帰させ、該ウエハ1を取り出す。
【0026】図9は本発明の研磨装置の第2実施例を示
すもので、この第2実施例の研磨装置1Bが上記第1実
施例の研磨装置1Aと異なる点は、第1実施例の研磨装
置1Aの場合は揺動機構33で研磨部材12を揺動させ
るようにしているのに対し、この第2実施例の研磨装置
1Bでは、揺動機構33でウエハ保持手段11を揺動さ
せるようにしている点である。即ち、リニアガイド34
に沿って移動自在の揺動テーブル35上には、ウエハ保
持手段11における左右の支持フレーム14,14が取
付けられていて、このウエハ保持手段11がウエハ1の
直線部2に沿う方向に揺動できるようになっている。ま
た、上記揺動テーブル35には、連結アーム50によっ
て補助テーブル51が一緒に移動するように取付けら
れ、この補助テーブル51にチャックヘッド16を傾動
させるためのモーター18が取付けられると共に、上記
揺動テーブル35を揺動させるための駆動機構36が連
結されている。一方、研磨部材12のスピンドル26を
支持する主軸台25は、スライド機構32を介して機体
10上に設置されている。
【0027】上記以外の構成及び作用については実質的
に第1実施例と同じであるから、主要な同一構成部分に
第1実施例と同一符号を付してそれらの説明は省略す
る。
【0028】なお、上記揺動テーブル35上に上記スラ
イド機構32を載置し、そのスライドテーブル41上に
ウエハ保持手段11を搭載することにより、ウエハ1を
揺動させると共に研磨部材12に対して接離させるよう
に構成することもできる。この場合に付勢手段43は、
ウエハ保持手段11を研磨部材12に近付く方向に付勢
するように取付けられることは当然である。
【0029】あるいは、図9の研磨装置とは逆に、主軸
台25を揺動機構33で揺動自在なるように支持させ、
ウエハ保持手段11をスライド機構32で研磨部材12
に対して接離自在なるように支持させても良い。
【0030】図10及び図11は本発明に係る研磨装置
の第3実施例の要部を示すもので、この研磨装置1C
は、研磨部材として円板形の研磨定盤12Aを使用して
いる。この研磨定盤12Aは、基板の表面に研磨パッド
23を貼着することにより円環状の平らな作業面12a
を形成したもので、その回転軸線をウエハ保持手段11
のチャックヘッド16に保持されたウエハ1の直線部2
と直角に向けて配設され、該定盤12Cの半径に沿う位
置で上記作業面12aにウエハ1の直線部2を当接さ
せ、それらの接触角を変えながら該直線部2の各面を研
磨するものである。従って、上記作業面12aの幅Wが
ウエハ1の直線部2の長さLと少なくとも同じ寸法に形
成されている。
【0031】そしてこの第3実施例においても、研磨定
盤12Aとウエハ1とが前述したような揺動機構によっ
て相対的に揺動自在なるように構成されると共に、スラ
イド機構によって相互に接離自在なるように構成されて
いる。この場合、上記第1、第2実施例やそれらの変形
例と同様に、研磨定盤12A又はウエハ1の何れか一方
を揺動自在かつ接離方向に移動自在なるように構成して
も、何れか一方を揺動自在か又は接離自在とし、他方を
接離自在か又は揺動自在なるように構成しても良い。
【0032】また、図10に示す例では、上記第1、第
2実施例と同様に接触角変更機構でチャックヘッド16
を傾動させることにより研磨定盤12Aとウエハ1との
接触角を変えるようにしているが、研磨定盤12Aの方
を傾動させるようにしても良い。
【0033】更に、上記各実施例の研磨装置は、チャッ
クヘッド16でウエハ1を横向き(水平)にチャックし
てその直線部2を研磨するように構成されているが、該
ウエハ1を縦向き(鉛直)にチャックしてその直線部2
を研磨するように構成することもできる。あるいは、上
記各実施例の研磨装置において、チャックヘッド16を
回転できるように構成すると共に、上記直線部2用の研
磨部材12,12Aの他にウエハ1の円周部3を研磨す
るためのドラム形または円形定盤形の研磨部材も設置
し、これらの研磨部材で直線部2と円周部3の両方を別
工程で研磨するように構成することもできる。
【0034】
【発明の効果】このように本発明によれば、ウエハ外周
の面取り加工された直線部を効率良く研磨することが可
能な直線部専用の研磨装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る直線部用研磨装置の第1実施例を
示す正面図である。
【図2】図1の要部拡大側面図である。
【図3】図2の平面図である。
【図4】ウエハ1直線部の研磨過程を概略的に示す側面
図である。
【図5】図4の要部拡大図である。
【図6】研磨パッドの展開図である。
【図7】図6の研磨パッドを貼着した研磨ドラムの一例
を示す要部断面図である。
【図8】図6の研磨パッドを貼着した研磨ドラムの他例
を示す要部断面図である。
【図9】本発明に係る直線部用研磨装置の第2実施例を
示す正面図である。
【図10】本発明に係る直線部用研磨装置の第3実施例
を示す要部側面図である。
【図11】図10の平面図である。
【図12】Aはウエハの平面図、BはAにおけるb−b
線での拡大断面図である。
【符号の説明】
1 ウエハ 2 直線部 2a,2b 斜面 2c 端面 11 ウエハ保持手段 12 研磨部材 12a 作業面 12A 研磨定盤 15 ヘッド支軸 16 チャックヘッド 18 モーター 20 接触角変更機構 23 研磨パッド 23a 継目 23b 隙間 33 揺動機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅 井 徹 神奈川県綾瀬市早川2647 スピードファ ム・アイペック株式会社内 (72)発明者 水 野 憲 明 神奈川県綾瀬市早川2647 スピードファ ム・アイペック株式会社内 Fターム(参考) 3C049 AA03 AA04 AB04 AB06 CA01 CA05 CB03

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】面取り加工された割線状の直線部を有する
    円板形ウエハを非回転状態に保持可能なウエハ保持手段
    と、 上記直線部の長さと少なくとも同じ幅の作業面を有し、
    研磨時にこの作業面が上記直線部に全長にわたり接触す
    るように配設された回転自在の一つの研磨部材と、 上記研磨部材を回転させるための駆動手段と、 上記直線部の面取りされた斜面とこれに隣接する端面と
    を研磨すべくウエハと研磨部材との接触角を変更するた
    めの接触角変更機構と、を有することを特徴とするウエ
    ハ外周の直線部用研磨装置。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の研磨装置において、上記
    ウエハ保持手段が、ウエハの片面を吸着により保持する
    チャックヘッドを有し、このチャックヘッドが、保持し
    たウエハの直線部に近接する位置において該直線部と平
    行なヘッド支軸により傾動自在に支持されていて、これ
    らのチャックヘッドとヘッド支軸と該チャックヘッドを
    傾動させる駆動手段とによって上記接触角変更機構が構
    成されていることを特徴とするもの。
  3. 【請求項3】請求項1又は2に記載の研磨装置におい
    て、この研磨装置が、上記直線部と作業面との接触位置
    を変えるべくウエハと研磨部材とを直線部に沿う方向に
    相対的に揺動させるための揺動機構を有することを特徴
    とするもの。
  4. 【請求項4】請求項1から3までの何れかに記載の研磨
    装置において、上記研磨部材が円筒形をした研磨ドラム
    であって、外周面に研磨パッドからなる円筒状の作業面
    を有し、ドラムの回転軸線をウエハの直線部と平行に向
    けて配設されていることを特徴とするもの。
  5. 【請求項5】請求項4に記載の研磨装置において、上記
    研磨ドラムが、円筒形をした基筒の外周面にシート状の
    研磨パッドを巻着することにより形成されていて、該研
    磨パッド両端の継目が円筒の母線に対して傾斜している
    ことを特徴とするもの。
  6. 【請求項6】請求項5に記載の研磨装置において、上記
    継目の部分に、研磨液吸収時のパッドの伸長を吸収させ
    るための隙間が設けられていることを特徴とするもの。
  7. 【請求項7】請求項1から3までの何れかに記載の研磨
    装置において、上記研磨部材が円板形をした研磨定盤で
    あって、表面に研磨パッドからなる平らな作業面を有
    し、定盤の回転軸線をウエハの直線部と直角に向けて配
    設されていることを特徴とするもの。
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