JP5454122B2 - 水処理システム - Google Patents

Description

本発明は、冷却塔へ循環水又は散布水を循環させる水処理システムに関する。

商業ビル、工業プラント等においては、空調機や冷凍機に代表される熱交換機などの被冷却装置（冷却負荷装置）を冷却するために、冷却水が用いられる。冷却水は、その節約を図る観点から、冷却塔で冷却しながら循環して用いられる（循環する冷却水を以下「循環水」ともいう）。冷却塔は、大別して、開放式冷却塔及び密閉式冷却塔の２種類に分類することができる。

開放式冷却塔は、一般的に、塔本体と、塔本体の上部に設けられる排気口、ファン及び散水部と、塔本体の下部に設けられる貯留部と、塔本体の側部に設けられる通気孔と、を備える。散水部は、被冷却装置を冷却する循環水を冷却するために、循環水を散布する部位である。貯留部は、散布された循環水を貯留する部位である。

循環水は、循環水供給ライン及び循環水回収ラインを介して、開放式冷却塔と被冷却装置との間を循環する。詳述すると、循環水は、冷却塔から循環水供給ラインを介して被冷却装置へ供給される。供給された循環水は、被冷却装置の冷却に用いられ、この冷却の際の熱交換により加温される。加温された循環水は、循環水回収ラインを介して冷却塔へ回収される。被冷却装置から回収された循環水は、散水部に導入され、散水部から散布される。散布された循環水は、貯留部に落下し、貯留される。

また、開放式冷却塔においては、ファンが駆動することにより、外気は、通気孔を介して冷却塔の内部に流入し、排気口から排出される。ここで、散布された循環水は、貯留部に落下する過程において、ファンにより発生する気流、すなわち、通気孔から排出口へ流通する外気（エア）に触れることにより冷却された後、貯留部に貯留される。
冷却され貯留部に貯留された循環水は、循環水供給ラインを介して被冷却装置へ再度供給され、被冷却装置を冷却する。このようにして、被冷却装置を冷却する循環水は、開放式冷却塔と被冷却装置との間を循環することになる。

一方、密閉式冷却塔は、開放式冷却塔に比して、冷却塔に、被冷却装置を冷却する循環液が密閉状態で流通する冷却塔内部ラインと、冷却塔内部ラインに位置する循環液を冷却するために散布水を冷却塔内部ラインの外側へ散布する散水部と、散布された散布水を貯留する貯留部とが設けられている点、及び、冷却塔に、散水部から散布され貯留部に貯留された散布水を循環させる散布水ラインが接続されている点が、主として異なる。

詳述すると、密閉式冷却塔は、一般的に、塔本体と、塔本体の上部に設けられる排気口、ファン及び散水部と、塔本体の内部に設けられる冷却塔内部ラインと、塔本体の下部に設けられる貯留部と、塔本体の側部に設けられる通気孔と、を備える。冷却塔内部ラインは、被冷却装置を冷却する循環液が密閉状態で流通するラインである。散水部は、冷却塔内部ラインに位置する循環液を冷却するために、散布水を冷却塔内部ラインの外側へ散布する部位である。貯留部は、散布された散布水を貯留する部位である。

循環液は、循環液供給ライン、循環液回収ライン及び冷却塔内部ラインを介して、密閉式冷却塔と被冷却装置との間を循環する。詳述すると、循環液は、冷却塔の冷却塔内部ラインから循環液供給ラインを介して被冷却装置へ供給される。供給された循環液は、被冷却装置の冷却に用いられ、この冷却の際の熱交換により加温される。加温された循環液は、循環液回収ラインを介して冷却塔の冷却塔内部ラインへ回収される。このようにして、被冷却装置を冷却する循環液は、密閉式冷却塔と被冷却装置との間を循環することになる。

一方、密閉式冷却塔においては、散布水は、散布水ラインから散水部に導入される。導入された散布水は、散水部から冷却塔内部ラインの外側へ散布される。散布された散布水は、貯留部に落下し、貯留される。
また、ファンが駆動することにより、外気は、通気孔を介して冷却塔の内部に流入し、排気口から排出される。ここで、散布された散布水は、貯留部に落下する過程において、ファンにより発生する気流、すなわち、通気孔から排出口へ流通する外気（エア）に触れることにより冷却された後、貯留部に貯留される。
冷却され貯留部に貯留された散布水は、散布水ラインを介して散水部へ再度導入され、散水部から散布され、冷却塔内部ラインに位置する循環液を冷却する。このようにして、循環液を冷却する散布水は、散布水ラインを循環することになる。

また、冷却塔（開放式冷却塔、密閉式冷却塔）を含む水処理システムでは、循環する循環水又は散布水を散布するため、循環水又は散布水の水分が蒸発し、循環水又は散布水が濃縮する。これにより、循環水中又は散布水中には、溶存塩類や栄養源が高濃度に含まれるようになる。その結果、循環水又は散布水の水質が悪化して、スライムや藻類が発生し、通水性の悪化や冷却能力の低下を招く虞がある。また、スライム等に起因してレジオネラ属菌が繁殖し、繁殖したレジオネラ属菌が飛散水に同伴されて、大気中に飛散される虞がある。

ところで、スライム、藻類、レジオネラ属菌、スケール等の発生の抑制や配管等の腐食の抑制に対しては、循環水又は散布水に各種水処理剤（薬剤）を添加することが効果的である。例えば、スライム、藻類等の発生抑制に対しては、塩素系水処理剤が効果的であることが知られている。スライム、藻類等の発生が抑制されれば、スライム、藻類等に起因して繁殖するレジオネラ属菌の発生をも抑制することができる。しかし、塩素系水処理剤は、配管系等の腐食を招きやすいという問題点がある。

すなわち、スライム、藻類、レジオネラ属菌等の発生を抑制して、循環水又は散布水の良好な水質を確保するためには、水処理剤として塩素系水処理剤を利用する場合がある。一方、塩素系水処理剤は、配管系等の腐食の抑制の観点から、必要量のみ添加するのが望ましい。

本出願人は、特許文献１において、「補給水が供給されると共に該補給水を循環水として被冷却装置を冷却する冷却塔と、塩水を貯留する塩水タンクと、該塩水タンクから供給される前記塩水を電気分解して塩素系水溶液を生成する電解槽と、該電解槽で生成された塩素系水溶液を前記循環水に間欠的に注入する注入手段とを有し、かつ、前記循環水の遊離残留塩素濃度を検出する遊離残留塩素濃度検出手段と、該遊離残留塩素濃度検出手段の検出結果に応じ前記塩素系水溶液の前記循環水への注入間隔を制御する注入間隔制御手段とを備えていることを特徴とする水処理システム。」を開示した。

この特許文献１に開示の水処理システムによれば、塩素系水溶液（塩素系水処理剤）を循環水に過剰に注入すると配管系等の腐食の要因となる可能性があるという観点から、遊離残留塩素濃度検出手段の検出結果により塩素系水溶液の添加（注入）間隔を制御し、これにより、藻類、スライム、レジオネラ属菌等の発生を抑制し、かつ配管系等の腐食をも抑制しようとしている。

特開２００９−２４８９５号公報

しかし、特許文献１に開示の水処理システムにおいては、循環水の遊離残留塩素濃度に基づいて、塩素系水溶液の注入間隔を制御している。そのため、遊離残留塩素濃度の測定や塩素系水溶液の注入間隔の制御が必要となり、構成が複雑となる。
更に、スライムは、循環水の水質が悪化して一般細菌（雑菌）が繁殖することにより発生する。また、スライム等に起因して繁殖するレジオネラ属菌は、循環水の水質が悪化して繁殖する。そのため、循環水の遊離残留塩素濃度に基づいてスライムの発生を抑制すること及びレジオネラ属菌の繁殖を抑制することは困難である。従って、スライムの発生の抑制、レジオネラ属菌等の繁殖の抑制及び配管系等の腐食の抑制を一層確実に行うことが望まれている。

従って、本発明は、スライムの発生の抑制、レジオネラ属菌等の繁殖の抑制及び配管系等の腐食の抑制を一層確実に行うことができる水処理システムを提供することを目的とする。

本発明は、被冷却装置を冷却する循環水を冷却するために循環水を散布する散水部と、冷却された循環水を貯留する貯留部とを有する冷却塔と、前記貯留部に貯留された循環水を前記冷却塔から前記被冷却装置へ供給する循環水供給ラインと、循環水を前記被冷却装置から前記冷却塔の前記散水部へ回収する循環水回収ラインとを有し、前記循環水供給ライン及び前記循環水回収ラインを介して前記冷却塔と前記被冷却装置との間で循環水を循環させる循環水ラインと、補給水を前記貯留部、前記散水部及び前記循環水ラインのうちのいずれか１つ以上へ補給する補給水ラインと、前記補給水ラインを介して補給水を前記貯留部、前記散水部及び前記循環水ラインのうちのいずれか１つ以上へ向けて流通させる補給水流通手段と、循環水に殺菌剤を添加する殺菌剤添加装置と、循環水の水温及び／又はｐＨ値を測定する測定装置と、前記測定装置により測定された循環水の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、前記殺菌剤添加装置による殺菌剤の添加量を制御する殺菌剤添加量制御手段と、を備え、前記殺菌剤添加装置は、殺菌剤、スケール抑制剤及び腐食抑制剤を含む水処理剤を添加する第１添加装置と、実質的に殺菌剤のみを添加する第２添加装置とを有し、前記殺菌剤添加量制御手段は、前記測定装置により測定された循環水の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、前記第１添加装置の制御を行わず、実質的に殺菌剤のみを添加するように前記第２添加装置を制御する水処理システムに関する。

また、循環水が前記散水部、前記循環水ライン及び前記貯留部のいずれかに滞留する滞留時間を推定する循環水滞留時間推定手段を更に備え、前記殺菌剤添加量制御手段は、前記測定装置により測定される循環水の水温及びｐＨ値並びに前記循環水滞留時間推定手段により推定される循環水の前記滞留時間のいずれか１つ以上に基づいて、前記殺菌剤添加装置による殺菌剤の添加量を制御することが好ましい。

また、前記循環水滞留時間推定手段は、前記散水部に位置する循環水の水温と前記貯留部に位置する循環水の水温との差である水温差に基づいて、循環水の前記滞留時間を推定することが好ましい。

本発明は、被冷却装置を冷却する循環液が密閉状態で流通する冷却塔内部ラインと、該冷却塔内部ラインに位置する循環液を冷却するために散布水を該冷却塔内部ラインの外側へ散布する散水部と、散布された散布水を貯留する貯留部とを有する冷却塔と、前記冷却塔内部ラインに位置する循環液を前記冷却塔から前記被冷却装置へ供給する循環液供給ラインと、循環液を前記被冷却装置から前記冷却塔の前記冷却塔内部ラインへ回収する循環液回収ラインとを有し、前記循環液供給ライン、前記循環液回収ライン及び冷却塔内部ラインを介して前記冷却塔と前記被冷却装置との間で循環液を循環させる循環液ラインと、前記貯留部に接続されると共に前記散水部に接続され、該散水部から散布され前記貯留部に貯留された散布水を循環させる散布水ラインと、補給水を前記貯留部、前記散水部及び前記散布水ラインのうちのいずれか１つ以上へ補給する補給水ラインと、前記補給水ラインを介して補給水を前記貯留部、前記散水部及び前記散布水ラインのうちのいずれか１つ以上へ向けて流通させる補給水流通手段と、散布水に殺菌剤を添加する殺菌剤添加装置と、散布水の水温及び／又はｐＨ値を測定する測定装置と、前記測定装置により測定された散布水の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、前記殺菌剤添加装置による殺菌剤の添加量を制御する殺菌剤添加量制御手段と、を備え、前記殺菌剤添加装置は、殺菌剤、スケール抑制剤及び腐食抑制剤を含む水処理剤を添加する第１添加装置と、実質的に殺菌剤のみを添加する第２添加装置とを有し、前記殺菌剤添加量制御手段は、前記測定装置により測定された散布水の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、前記第１添加装置の制御を行わず、実質的に殺菌剤のみを添加するように前記第２添加装置を制御する水処理システムに関する。

また、散布水が前記散水部、前記散布水ライン及び前記貯留部のいずれかに滞留する滞留時間を推定する散布水滞留時間推定手段を更に備え、殺菌剤添加量制御手段は、前記測定装置により測定される散布水の水温及びｐＨ値並びに前記散布水滞留時間推定手段により推定される散布水の前記滞留時間のいずれか１つ以上に基づいて、前記殺菌剤添加装置による殺菌剤の添加量を制御することが好ましい。

また、前記散布水滞留時間推定手段は、前記散水部に位置する散布水の水温と前記貯留部に位置する散布水の水温との差である水温差に基づいて、散布水の前記滞留時間を推定することが好ましい。

本発明によれば、スライムの発生の抑制、レジオネラ属菌等の繁殖の抑制及び配管系等の腐食の抑制を一層確実に行うことができる水処理システムを提供することができる。

本発明の第１実施形態の水処理システム１００を示す概略構成図である。 第１実施形態の水処理システム１００の制御に係る機能ブロック図である。 第１実施形態の水処理システム１００の動作を示すフローチャートである。 本発明の第２実施形態の水処理システム２００を示す概略構成図である。 第２実施形態の水処理システム２００の制御に係る機能ブロック図である。 第２実施形態の水処理システム２００の動作を示すフローチャートである。 第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１及び軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する第１変形例を示す図である。 第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１及び軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する第２変形例を示す図である。 第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１及び軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する第３変形例を示す図である。 第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１及び軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する第４変形例を示す図である。 第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１及び軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する第５変形例を示す図である。 第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１及び軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する第６変形例を示す図である。

＜第１実施形態＞
図１を参照して、本発明の第１実施形態の水処理システム１００の概略について説明する。図１は、本発明の第１実施形態の水処理システム１００を示す概略構成図である。

図１に示すように、第１実施形態の水処理システム１００は、冷却塔１１０を有しており、商業ビル、工業プラント等において、空調機や冷凍機に代表される熱交換機などの被冷却装置１３１を冷却するために、冷却水を循環させるシステムである。冷却水は、その節約を図る観点から、冷却塔１１０で冷却しながら循環して用いられる（循環する冷却水を以下「循環水Ｗ１１０」ともいう）。第１実施形態における冷却塔１１０は、いわゆる開放式冷却塔からなる。

第１実施形態の水処理システム１００は、循環水Ｗ１１０の貯留部１１６を有する冷却塔１１０と、被冷却装置１３１と、冷却塔１１０と被冷却装置１３１との間で循環水Ｗ１１０を循環させる循環水ラインＬ１１０と、冷却塔１１０の貯留部１１６に補給水Ｗ１２０を補給する補給水ラインＬ１２０と、冷却塔１１０の貯留部１１６から循環水Ｗ１１０を水処理システム１００の系外へ強制的に排出する排水ラインＬ１３０と、冷却塔１１０の貯留部１１６から溢れる循環水Ｗ１１０を排出するオーバーフローラインＬ１４０と、循環水Ｗ１１０の電気伝導率を測定する電気伝導率測定装置１３３と、循環水Ｗ１１０に殺菌剤を添加する殺菌剤添加装置１３７と、循環水Ｗ１１０の水温を測定する第１温度測定装置１６５及び第２温度測定装置１６６と、循環水Ｗ１１０のｐＨ値を測定するｐＨ測定装置１６４と、水処理システム１００の各部の制御を行うシステム制御装置１０１と、を主体として構成されている。

循環水ラインＬ１１０は、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０を冷却塔１１０から被冷却装置１３１へ供給する循環水供給ラインＬ１１１と、循環水Ｗ１１０を被冷却装置１３１から冷却塔１１０の散水部１１２へ回収する循環水回収ラインＬ１１２と、を有する。
「ライン」とは、流路、経路、管路などの流体の流通が可能なラインの総称である。

第１実施形態における冷却塔１１０について説明する。冷却塔１１０は、被冷却装置１３１を冷却するための循環水Ｗ１１０を、被冷却装置１３１へ供給する前に、冷却するものである。冷却塔１１０は、塔本体１１１と、散水部１１２と、貯留部１１６と、ルーバ１１８と、ファン１２０と、上部開口部１２１と、ファン駆動部１２２と、を備える。

塔本体１１１は、冷却塔１１０の外郭を形成するものである。塔本体１１１の上部には、複数の散水部１１２、ファン１２０、上部開口部１２１及びファン駆動部１２２が設けられる。塔本体１１１の下部には、貯留部１１６が設けられる。塔本体１１１の側部には、ルーバ１１８が設けられる。

散水部１１２は、被冷却装置１３１を冷却する循環水Ｗ１１０を冷却するために、循環水Ｗ１１０を散布する部位である。散水部１１２は、循環水回収ラインＬ１１２を介して被冷却装置１３１から回収された循環水Ｗ１１０を、塔本体１１１の内部に散布（散水）する。

散水部１１２は、上部水槽１１３と、散水口１１４とを備える。上部水槽１１３には、循環水ラインＬ１１０の循環水回収ラインＬ１１２が接続されている。上部水槽１１３は、循環水回収ラインＬ１１２を介して被冷却装置１３１から回収された循環水Ｗ１１０を貯留する。また、上部水槽１１３は、散水部１１２から散布される前の循環水Ｗ１１０を貯留する。散水口１１４は、上部水槽１１３に貯留された循環水Ｗ１１０を散布するために上部水槽１１３の下側に形成されたノズルからなる。

塔本体１１１の内部における散水部１１２の下方には、充填材（図示せず）が設けられる。充填材は、散水部１１２から散布された循環水Ｗ１１０を滴状にして、循環水Ｗ１１０と外気Ｅ１（後述）との接触面積及び接触時間を長くして、循環水Ｗ１１０を効率的に冷却するために設けられる。

貯留部１１６は、散水部１１２から散布された循環水Ｗ１１０を貯留する。貯留部１１６は、塔本体１１１の下部に設けられる。後述するように、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０は、塔本体１１１の内部を落下する過程において冷却される。貯留部１１６の底部には、循環水ラインＬ１１０の循環水供給ラインＬ１１１及び排水ラインＬ１３０が接続されている。貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０は、循環水供給ラインＬ１１１を介して被冷却装置１３１へ供給される。また、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０は、排水ラインＬ１３０を介して水処理システム１００の系外へ排出される。

ルーバ１１８は、塔本体１１１の内部へ外気（エア）Ｅ１を導入するための通気孔であり、塔本体１１１の外部と内部とを連通する。ルーバ１１８を介して、塔本体１１１の外部のエア（外気）Ｅ１は、塔本体１１１の内部へ流入することができる。

上部開口部１２１は、塔本体１１１の上部に形成された開口部であり、塔本体１１１の内部に位置するエアＥ１を塔本体１１１の外部に排出するために設けられる。排出されたエアを「排気Ｅ２」ともいう。

ファン１２０は、上部開口部１２１に配置されている。ファン１２０の回転軸１２０ａは、上下方向に延びるように配置されている。ファン１２０は、ルーバ１１８から塔本体１１１の内部へ外気（エア）Ｅ１を流入させると共に、塔本体１１１の内部に位置するエアＥ１を、上部開口部１２１を介して塔本体１１１の外部に排出させるように、気流を発生させる。

ファン駆動部１２２は、モータ等からなり、ファン１２０を回転駆動する。ファン駆動部１２２は、ファン１２０の上方に配置されており、ファン１２０の回転軸１２０ａに連結されている。ファン駆動部１２２は、ファン１２０の回転駆動の開始又は停止、回転速度の調整（変速）などを行う。

冷却塔１１０には、循環水ラインＬ１１０及び排水ラインＬ１３０の他に、補給水ラインＬ１２０（原水補給水ラインＬ１２２、軟化水補給水ラインＬ１２３）及びオーバーフローラインＬ１４０が接続されている。これらの各ラインを介して、冷却塔１１０に対して、循環水Ｗ１１０が導入又は排出されると共に、補給水Ｗ１２０（原水補給水Ｗ１２１、軟化水補給水Ｗ１２２）が補給される。

循環水ラインＬ１１０は、冷却塔１１０と被冷却装置１３１との間で循環水Ｗ１１０を循環させるラインである。循環水ラインＬ１１０は、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０を冷却塔１１０から被冷却装置１３１へ供給する循環水供給ラインＬ１１１と、循環水Ｗ１１０を被冷却装置１３１から冷却塔１１０の散水部１１２へ回収する循環水回収ラインＬ１１２と、を有する。循環水ラインＬ１１０は、循環水供給ラインＬ１１１及び循環水回収ラインＬ１１２を介して、冷却塔１１０と被冷却装置１３１との間で循環水Ｗ１１０を循環させる。

循環水供給ラインＬ１１１は、冷却塔１１０の貯留部１１６と被冷却装置１３１とを接続する。循環水供給ラインＬ１１１は、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０を被冷却装置１３１に供給することができる。
循環水供給ラインＬ１１１の途中には、循環水ポンプ１３２が接続されている。循環水ポンプ１３２は、循環水ラインＬ１１０（循環水供給ラインＬ１１１、循環水回収ラインＬ１１２）の上流側から下流側へ向けて、循環水Ｗ１１０を送り出すことができる。

循環水回収ラインＬ１１２は、被冷却装置１３１と冷却塔１１０の散水部１１２とを接続する。循環水回収ラインＬ１１２は、被冷却装置１３１において熱交換により加温された循環水Ｗ１１０を、冷却塔１１０の散水部１１２へ回収することができる。循環水回収ラインＬ１１２の下流側は、回収分岐部Ｊ１１１において複数のラインに分岐している。循環水回収ラインＬ１１２において、回収分岐部Ｊ１１１よりも上流側のラインを「上流側循環水回収ラインＬ１１２ａ」ともいい、回収分岐部Ｊ１１１よりも下流側の複数のラインを「下流側循環水回収ラインＬ１１２ｂ」ともいう。複数の下流側循環水回収ラインＬ１１２ｂの下流側の端部は、それぞれ複数の散水部１１２に接続されている。

被冷却装置１３１は、循環水Ｗ１１０による冷却が必要な熱交換機等の各種装置であり、例えば、各種の化学プラントのターボ冷凍機や吸収冷凍機、建築物の空調用冷却機、食品工場の冷水製造機や真空冷却機などである。被冷却装置１３１は、所要の循環水流路（図示せず）を有している。この循環水流路は、循環水導入部１３１ａと循環水排出部１３１ｂとを有している。

そして、循環水導入部１３１ａには、循環水供給ラインＬ１１１の下流側の端部が接続されている。循環水排出部１３１ｂには、循環水回収ラインＬ１１２の上流側の端部が接続されている。このように、循環水流路は、循環水供給ラインＬ１１１及び循環水回収ラインＬ１１２と共に、冷却塔１１０の塔本体１１１と被冷却装置１３１との間で循環水Ｗ１１０を循環させるための循環経路を形成している。

電気伝導率測定装置１３３は、循環水Ｗ１１０の電気伝導率を測定する装置である。電気伝導率測定装置１３３は、循環水ラインＬ１１０に接続されている。詳細には、循環水供給ラインＬ１１１における循環水ポンプ１３２と被冷却装置１３１との間には、測定接続部Ｊ１１２が設けられている。電気伝導率測定装置１３３は、測定ラインＬ１１３を介して、測定接続部Ｊ１１２において循環水供給ラインＬ１１１に接続されている。

ところで、循環水Ｗ１１０の濃縮度が高まると、腐食性イオン及びスケール発生因子の濃度が高くなる。これにより、循環水Ｗ１１０の電気伝導率が高くなる。そこで、水処理システム１００においては、電気伝導率測定装置１３３により測定される電気伝導率が所定の閾値よりも高くなった場合には、循環水Ｗ１１０の濃縮度を低下させるため（電気伝導率を低下させるため）に、補給水Ｗ１２０を冷却塔１１０の貯留部１１６へ補給し、貯留部１１６に貯留される循環水Ｗ１１０を希釈する。このように、循環水Ｗ１１０の電気伝導率に基づいて、循環水Ｗ１１０の濃縮度を管理する。

殺菌剤添加装置１３７は、第１添加装置１３７Ａと、第２添加装置１３７Ｂとを有する。
第１添加装置１３７Ａは、貯留部１１６の側部に接続されている。第１添加装置１３７Ａは、貯留部１１６の側部を介して、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０に、殺菌剤、スケール抑制剤及び腐食抑制剤を含む水処理剤を添加する。水処理剤は、スライム、藻類、レジオネラ属菌、スケール等の発生、配管等の腐食に対して総合的な抑制効果を有するため、補給水Ｗ１２０が補給される際に、補給される補給水Ｗ１２０の水量に応じて循環水Ｗ１１０に添加される。なお、第１添加装置１３７Ａの種類や方式は、特に制限されない。また、第１添加装置１３７Ａにより添加される殺菌剤、スケール抑制剤及び腐食抑制剤の種類は、特に制限されない。

第２添加装置１３７Ｂは、実質的に殺菌剤のみを添加する。第２添加装置１３７Ｂは、貯留部１１６の側部に接続されている。第２添加装置１３７Ｂは、貯留部１１６の側部を介して、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０に殺菌剤を添加する。殺菌剤としては、スライムの発生の因子となる一般細菌を殺菌する各種殺菌剤、例えば、塩素系水処理剤としての次亜塩素酸ナトリウムなどが挙げられる。また、スライム、藻類等に起因して繁殖するレジオネラ属菌等に対しての殺菌剤としては、塩素系水処理剤のほか、各種有機系水処理剤などが挙げられる。なお、第２添加装置１３７Ｂの種類や方式は、特に制限されない。また、第２添加装置１３７Ｂにより添加される殺菌剤の種類は、特に制限されない。

第１温度測定装置１６５は、貯留部１１６の内部に配置され、貯留部１１６に貯留された（位置する）循環水Ｗ１１０の水温を測定する。第１温度測定装置１６５により測定される循環水Ｗ１１０の水温は、温度判定部１８２（後述）の判定の際に用いられる。そのため、第１温度測定装置１６５は、循環水Ｗ１１０の流速が遅く、且つ循環水Ｗ１１０が日光に照射されると共に、循環水Ｗ１１０が空気に触れて貯留された貯留部１１６において一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすいという観点から、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０の水温を測定する。

第２温度測定装置１６６は、上部水槽１１３の内部に配置され、上部水槽１１３に貯留された（位置する）循環水Ｗ１１０の水温を測定する。
第１温度測定装置１６５及び第２温度測定装置１６６としては、例えば、温度センサが用いられる。

ｐＨ測定装置１６４は、貯留部１１６の内部に配置され、貯留部１１６に貯留された（位置する）循環水Ｗ１１０のｐＨ値を測定する。ｐＨ測定装置１６４により測定される循環水Ｗ１１０のｐＨ値は、ｐＨ判定部１８３（後述）の判定の際に用いられる。そのため、ｐＨ測定装置１６４は、前述の第１温度測定装置１６５の場合と同様に、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０のｐＨ値を測定する。

補給水ラインＬ１２０は、補給水Ｗ１２０を冷却塔１１０の貯留部１１６へ補給するラインである。補給水ラインＬ１２０は、源流側補給水ラインＬ１２１と、補給水分岐部Ｊ１２１と、原水補給水ラインＬ１２２と、軟化水補給水ラインＬ１２３と、を備える。
補給水分岐部Ｊ１２１は、源流側補給水ラインＬ１２１から原水補給水ラインＬ１２２と軟化水補給水ラインＬ１２３とが分岐する部位である。

源流側補給水ラインＬ１２１の上流側は、水道水や工業用水等の原水からなる補給水Ｗ１２０の供給源（図示せず）に接続されている。源流側補給水ラインＬ１２１の下流側は、補給水分岐部Ｊ１２１に接続されている。源流側補給水ラインＬ１２１には、補給水Ｗ１２０の供給源から供給される補給水Ｗ１２０が流通する。

源流側補給水ラインＬ１２１には、上流側から順に、補給水ポンプ１４１及び補給水バルブ１４２が接続されている。補給水ポンプ１４１は、補給水ラインＬ１２０（源流側補給水ラインＬ１２１、原水補給水ラインＬ１２２、軟化水補給水ラインＬ１２３）の上流側から下流側へ向けて、補給水Ｗ１２０を送り出すことができる。補給水バルブ１４２は、補給水分岐部Ｊ１２１と補給水ポンプ１４１との間において、源流側補給水ラインＬ１２１を開閉することができる。

原水補給水ラインＬ１２２の上流側の端部は、補給水分岐部Ｊ１２１を介して、源流側補給水ラインＬ１２１に接続されている。原水補給水ラインＬ１２２には、源流側補給水ラインＬ１２１及び補給水分岐部Ｊ１２１を介して、補給水Ｗ１２０が導入され、流通する。なお、原水補給水ラインＬ１２２を流通する補給水Ｗ１２０は、源流側補給水ラインＬ１２１を流通する補給水Ｗ１２０と同じであるが、説明の便宜上、源流側補給水ラインＬ１２１を流通する補給水Ｗ１２０を「原水補給水Ｗ１２１」ともいう。

原水補給水ラインＬ１２２は、原水補給水Ｗ１２１を冷却塔１１０の貯留部１１６へ補給するラインである。原水補給水ラインＬ１２２の下流側の端部１５３は、冷却塔１１０の塔本体１１１に接続されており、貯留部１１６の上方に離間して位置する。
原水補給水ラインＬ１２２には、上流側から順に、補助原水補給水バルブ１５１及び原水補給水バルブ１５２が接続されている。

補助原水補給水バルブ１５１は、通常、開放しているが、原水補給水バルブ１５２のメンテナンス時などに閉鎖して用いられる。
原水補給水バルブ１５２は、制御弁から構成されている。原水補給水バルブ１５２は、原水補給水ラインＬ１２２の下流側の端部１５３と補給水分岐部Ｊ１２１（補助原水補給水バルブ１５１）との間において、原水補給水ラインＬ１２２を開閉することができる。本実施形態においては、補給水ポンプ１４１、原水補給水バルブ１５２等から「原水補給水ラインＬ１２２を介して原水補給水Ｗ１２１を貯留部１１６へ向けて流通させる原水補給水流通手段」が構成されている。

軟化水補給水ラインＬ１２３は、軟化水補給水Ｗ１２２を冷却塔１１０の貯留部１１６へ補給するラインである。軟化水補給水ラインＬ１２３には、上流側から順に、軟水化装置１４３及び軟化水補給水バルブ１４４が接続されている。
軟化水補給水ラインＬ１２３の上流側の端部は、補給水分岐部Ｊ１２１を介して、源流側補給水ラインＬ１２１に接続されている。軟化水補給水ラインＬ１２３の下流側の端部は、冷却塔１１０の塔本体１１１に接続されており、貯留部１１６の底部から離間して位置する。

軟化水補給水ラインＬ１２３の下流側の端部には、貯留部１１６に貯留される循環水Ｗ１１０の水位を管理するボールタップ式の給水栓１４５が設けられている。給水栓１４５は、貯留部１１６に貯留される循環水Ｗ１１０の水位が低下すると、ボールタップが作動し、軟化水補給水ラインＬ１２３を流通する軟化水補給水Ｗ１２２が貯留部１１６に補給されるように構成されている。

軟水化装置１４３は、原水（硬水）からなる補給水Ｗ１２０を軟水化し、軟化水補給水Ｗ１２２を生成する（得る）装置である。軟水化装置１４３は、補給水Ｗ１２０に含まれる硬度成分、具体的には、カルシウムイオン及びマグネシウムイオンを低減し（除去し）、原水からなる補給水Ｗ１２０から軟化水補給水Ｗ１２２を生成する装置である。

軟化水とは、原水（硬水）に軟水化処理を行うことにより得られる（生成される）、硬度が低減された水をいう。軟化水には、原水（硬水）に純水化処理を行うことにより得られる（生成される）純水も含まれる。つまり、軟化水には純水が含まれ、また、軟水化処理には純水化処理が含まれる。
軟化水は、硬度が１０ｍｇ／Ｌ以下に低減されているものが好ましく、硬度が１ｍｇ／Ｌ以下に低減されているものが更に好ましい。

軟水化装置１４３は、軟水化処理を行うことができれば特に制限されない。軟水化装置１４３としては、イオン交換樹脂を利用して陽イオン交換を行い軟水化処理を行う陽イオン交換装置、イオン交換樹脂を利用して陽イオン交換及び陰イオン交換を行い軟水化処理を行うイオン交換装置、逆浸透膜（ＲＯ膜）を利用して濾過を行い軟水化処理を行う逆浸透膜装置、電気透析を利用して軟水化処理を行う電気透析装置（電気式脱イオン装置）などが挙げられる。

軟化水補給水バルブ１４４は、制御弁から構成されている。軟化水補給水バルブ１４４は、軟化水補給水ラインＬ１２３の下流側の端部と軟水化装置１４３との間において、軟化水補給水ラインＬ１２３を開閉することができる。本実施形態においては、補給水ポンプ１４１、軟化水補給水バルブ１４４等から「軟化水補給水ラインＬ１２３を介して軟化水補給水Ｗ１２２を貯留部１１６へ向けて流通させる軟化水補給水流通手段」が構成されている。

排水ラインＬ１３０は、貯留部１１６の底部に接続されており、下方に向けて延びている。排水ラインＬ１３０は、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０を、排水Ｗ１３０として水処理システム１００の系外へ排出する。排水ラインＬ１３０の途中には、排水バルブ１６１が接続されている。排水ラインＬ１３０における排水バルブ１６１の下流側には、オーバーフローラインＬ１４０（後述）が、排水合流部Ｊ１３１を介して接続されている。排水バルブ１６１は、制御弁から構成されている。排水バルブ１６１は、貯留部１１６と排水合流部Ｊ１３１との間において、排水ラインＬ１３０を開閉することができる。

オーバーフローラインＬ１４０は、貯留部１１６から溢れる循環水Ｗ１１０を、排水Ｗ１３０として水処理システム１００の系外へ排出するラインである。オーバーフローラインＬ１４０の上流側の端部１６２は、冷却塔１１０の貯留部１１６から上方に離間した位置に位置する。オーバーフローラインＬ１４０は、排水合流部Ｊ１３１において排水ラインＬ１３０と接続（合流）する。

貯留部１１６から溢れる循環水Ｗ１１０は、オーバーフローラインＬ１４０の上流側の端部１６２からオーバーフローラインＬ１４０へ流入する。オーバーフローラインＬ１４０へ流入した循環水Ｗ１１０は、排水合流部Ｊ１３１を介して排水ラインＬ１３０へ流入し、水処理システム１００の系外へ排出される。
本実施形態においては、排水バルブ１６１から、「排水ラインＬ１３０を介して貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０を系外へ向けて流通させる排水流通手段」が構成されている。

次に、図２を参照して、第１実施形態の水処理システム１００の制御に係る機能について説明する。図２は、第１実施形態の水処理システム１００の制御に係る機能ブロック図である。
システム制御装置１０１は、第１実施形態の水処理システム１００における各部を制御する。図２に示すように、システム制御装置１０１は、例えば、補給水ポンプ１４１、軟化水補給水バルブ１４４、原水補給水バルブ１５２、排水バルブ１６１、ファン駆動部１２２、第１添加装置１３７Ａ、第２添加装置１３７Ｂに電気的に接続される。

また、システム制御装置１０１は、水処理システム１００における各測定装置に電気的に接続され、各測定装置から測定情報を受信する。例えば、システム制御装置１０１は、電気伝導率測定装置１３３に電気的に接続され、電気伝導率測定装置１３３により測定された電気伝導率情報を受信する。また、システム制御装置１０１は、第１温度測定装置１６５及び第２温度測定装置１６６に電気的に接続され、第１温度測定装置１６５及び第２温度測定装置１６６により測定された水温情報を受信する。また、システム制御装置１０１は、ｐＨ測定装置１６４に電気的に接続され、ｐＨ測定装置１６４により測定された循環水Ｗ１１０のｐＨ値情報を受信する。

システム制御装置１０１は、制御部１０２と、メモリ１０３とを備える。制御部１０２は、濃縮度判定部１８１と、温度判定部１８２と、ｐＨ判定部１８３と、循環水滞留時間推定手段としての滞留時間推定部１８４と、殺菌剤添加量制御手段としての殺菌剤添加量制御部１８５と、流量制御手段としての補給水制御部１８６とを有する。

濃縮度判定部１８１は、電気伝導率測定装置１３３により測定される循環水Ｗ１１０の電気伝導率が所定の閾値以上であるか否かを判定する。所定の閾値は、例えば、スライムの発生の抑制を確保できる上限の電気伝導率が設定される。

温度判定部１８２は、第１温度測定装置１６５により測定される循環水Ｗ１１０の水温が所定の範囲内であるか否かを判定する。所定の範囲は、例えば、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすい温度範囲に設定される。所定の範囲は、好ましくは、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすい３５℃から４０℃の範囲である。温度判定部１８２による判定結果は、メモリ１０３（後述）に記憶される。

ｐＨ判定部１８３は、ｐＨ測定装置１６４により測定される循環水Ｗ１１０のｐＨ値が所定の範囲内であるか否かを判定する。所定の範囲は、例えば、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすいｐＨ値の範囲に設定される。所定の範囲は、好ましくは、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすいｐＨ７．５からｐＨ８．０の範囲のｐＨ値である。ｐＨ判定部１８３による判定結果は、メモリ１０３（後述）に記憶される。

滞留時間推定部１８４は、循環水Ｗ１１０が上部水槽１１３（散水部１１２）、循環水ラインＬ１１０及び貯留部１１６のいずれかに滞留する滞留時間を推定する。滞留時間とは、循環水Ｗ１１０の入れ替わりの度合いを示す指数である。循環水Ｗ１１０の滞留時間が長い場合には、循環水Ｗ１１０の入れ替わりが少ないため、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすいと推定される。一方、循環水Ｗ１１０の滞留時間が短い場合には、循環水Ｗ１１０の入れ替わりが多いため、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しにくいと推定される。

本実施形態においては、滞留時間推定部１８４は、上部水槽１１３に貯留された（位置する）循環水Ｗ１１０の水温と貯留部１１６に貯留された（位置する）循環水Ｗ１１０の水温との差（水温差）に基づいて、循環水Ｗ１１０の滞留時間を推定する。

具体的には、滞留時間推定部１８４は、循環水Ｗ１１０の滞留時間を上部水槽１１３に貯留された循環水Ｗ１１０の水温と貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０の水温との差（水温差）を算出する。そして、滞留時間推定部１８４は、算出された水温差から冷却塔１１０の負荷率を求めることにより循環水Ｗ１１０の滞留時間を推定する。

冷却塔１１０の負荷率は、冷却塔１１０が循環水Ｗ１１０を冷却する際の水温差の仕様値に対する実際に冷却塔が動作している際の循環水Ｗ１１０の水温差の割合により決定される。
例えば、冷却塔１１０における水温差の仕様値である仕様温度差が５℃であるとする。上部水槽１１３に貯留される循環水Ｗ１１０の水温と貯留部１１６に貯留される循環水Ｗ１１０の水温との差（水温差）が５℃である場合には、冷却塔１１０の負荷率は、１００％（５℃／５℃）である。また、上部水槽１１３に貯留される循環水Ｗ１１０の水温と貯留部１１６に貯留される循環水Ｗ１１０の水温との差（水温差）が１℃である場合には、冷却塔１１０の負荷率は、２０％（１℃／５℃）である。

冷却塔１１０の負荷率が低い（例えば２０％）場合には、冷却塔１１０の負荷率が高い場合（例えば１００％）に比して循環水Ｗ１１０から蒸発する水量が少ない。そのため、上部水槽１１３（散水部１１２）、循環水ラインＬ１１０及び貯留部１１６のいずれかにおいて、循環水Ｗ１１０の入れ替わりが少ない。

従って、冷却塔１１０の負荷率が低い場合には、冷却塔１１０の負荷率が高い場合に比して循環水Ｗ１１０の滞留時間が長くなる。そのため、循環水Ｗ１１０において、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすい状態であることが推定される。

一方、冷却塔１１０の負荷率が高い場合には、冷却塔１１０の負荷率が低い場合に比して循環水Ｗ１１０の滞留時間が短くなる。そのため、循環水Ｗ１１０において、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しにくい状態であることが推定される。

殺菌剤添加量制御部１８５は、第１温度測定装置１６５に測定される循環水Ｗ１１０の水温、ｐＨ測定装置１６４により測定されるｐＨ値及び滞留時間推定部１８４に推定される循環水Ｗ１１０の滞留時間のいずれか１つ以上に基づいて、殺菌剤添加装置１３７による殺菌剤の添加量を制御する。本実施形態においては、殺菌剤添加量制御部１８５は、循環水Ｗ１１０の水温、循環水Ｗ１１０のｐＨ値及び循環水Ｗ１１０の滞留時間に基づいて、第１添加装置１３７Ａの制御を行わず、実質的に殺菌剤のみを添加するように第２添加装置１３７Ｂを制御する。

具体的には、殺菌剤添加量制御部１８５は、メモリ１０３（後述）を参照して、循環水Ｗ１１０の水温、循環水Ｗ１１０のｐＨ値及び循環水Ｗ１１０の滞留時間に基づいて、殺菌剤の添加量に関する情報を取得する。殺菌剤添加量制御部１８５は、取得した殺菌剤の添加量に関する情報に基づいて、第２添加装置１３７Ｂを制御して、殺菌剤を循環水Ｗ１１０に添加する。

補給水制御部１８６は、濃縮度判定部１８１により循環水Ｗ１１０の電気伝導率が所定の閾値以上であると判定された場合に、補給水ポンプ１４１、軟化水補給水バルブ１４４、原水補給水バルブ１５２、排水バルブ１６１、ファン駆動部１２２等の制御を行う。補給水制御部１８６による制御により、補給水Ｗ１２０（原水補給水Ｗ１２１、軟化水補給水Ｗ１２２）は冷却塔１１０の貯留部１１６に補給される。

メモリ１０３は、所定のパラメータや各種テーブル等を記憶する。具体的には、メモリ１０３は、各種機能を動作させるアプリケーションプログラムや、各種データを記憶する。本実施形態においては、メモリ１０３は、温度判定部１８２による判定結果、ｐＨ判定部１８３による判定結果、滞留時間推定部１８４による推定結果を記憶する。また、メモリ１０３には、循環水Ｗ１１０の滞留時間を推定するための算出プログラムが記憶されている。また、メモリ１０３は、殺菌剤添加量記憶部１８７を有する。

殺菌剤添加量記憶部１８７は、循環水Ｗ１１０の水温の情報、循環水Ｗ１１０のｐＨ値の情報及び循環水Ｗ１１０の滞留時間の情報と関連付けて、循環水Ｗ１１０に添加する殺菌剤の添加量を記憶する。

また、殺菌剤添加量記憶部１８７は、殺菌剤添加量記憶テーブル１８７ａを有する。殺菌剤添加量記憶テーブル１８７ａは、循環水Ｗ１１０の水温の情報、循環水Ｗ１１０のｐＨ値の情報及び循環水Ｗ１１０の滞留時間の情報と殺菌剤の添加量とが関連付けられた対応関係を示すテーブルである。

例えば、殺菌剤添加量記憶テーブル１８７ａには、循環水Ｗ１１０の水温が所定の範囲内にある場合又は所定の範囲内にない場合、循環水Ｗ１１０のｐＨ値が所定の範囲内にある場合又は所定の範囲内にない場合、循環水Ｗ１１０の滞留時間が長いと推定された場合又は短いと推定された場合等に対応付けて、循環水Ｗ１１０に添加する殺菌剤の種類や、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖に対して抑制効果を得るために必要とされる殺菌剤の添加量が記憶されている。

次に、図１及び図２を参照して、第１実施形態の水処理システム１００の動作について説明する。
循環水ポンプ１３２が作動することにより、冷却塔１１０の貯留部１１６に貯留される循環水Ｗ１１０は、循環水ラインＬ１１０（循環水供給ラインＬ１１１、循環水回収ラインＬ１１２）の上流側から下流側へ向けて送り出される。

詳細には、循環水Ｗ１１０は、循環水供給ラインＬ１１１を介して、被冷却装置１３１に供給される。循環水Ｗ１１０は、被冷却装置１３１の循環水導入部１３１ａから前記循環水流路を通過して被冷却装置１３１を冷却し、循環水排出部１３１ｂから循環水回収ラインＬ１１２へ排出される。

循環水回収ラインＬ１１２へ排出された循環水Ｗ１１０は、散水部１１２の上部水槽１１３へ導入される。上部水槽１１３へ導入された循環水Ｗ１１０は、散水口１１４から塔本体１１１の内部へ散布される。散布された循環水Ｗ１１０は、図１に点線で示すように、塔本体１１１の内部を落下して、貯留部１１６に受け止められる。このようにして、貯留部１１６に貯留される循環水Ｗ１１０は、循環水ラインＬ１１０、散水部１１２等を介して循環する。

また、冷却塔１１０において、システム制御装置１０１によりファン駆動部１２２を作動させ、ファン１２０を回転させる。これにより、ルーバ１１８を通じて塔本体１１１の内部へ外気（エア）Ｅ１が流入する。エアＥ１は、塔本体１１１の内部を通過し、排気Ｅ２として上部開口部１２１から塔本体１１１の外部へ排出される。

塔本体１１１の内部を落下する循環水Ｗ１１０は、塔本体１１１の内部へ流入する外気Ｅ１に触れて冷却される。このように冷却されて貯留部１１６へ戻る（落下する）循環水Ｗ１１０は、循環水供給ラインＬ１１１を介して再び被冷却装置１３１へ供給され、循環水回収ラインＬ１１２を介して冷却塔１１０の散水部１１２へ戻る。従って、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０は、循環水供給ラインＬ１１１、被冷却装置１３１の循環水流路及び循環水回収ラインＬ１１２を循環して、被冷却装置１３１を冷却する冷却水として機能する。

また、循環水Ｗ１１０の濃縮が進んでいる場合には、循環水Ｗ１１０の濃縮を解消し、スライム、藻類などの発生を抑制するために、冷却塔１１０の貯留部１１６へ補給水Ｗ１２０（原水補給水Ｗ１２１、軟化水補給水Ｗ１２２）の補給を行うと共に、循環水Ｗ１１０の排出を行う。

具体的には、第１実施形態の水処理システム１００においては、電気伝導率測定装置１３３により測定された電気伝導率に基づいて、濃縮度判定部１８１により循環水Ｗ１１０が濃縮していると判定された場合には、補給水制御部１８６は、補給水ポンプ１４１、軟化水補給水バルブ１４４、原水補給水バルブ１５２などを制御して、補給水ラインＬ１２０を介して、冷却塔１１０の貯留部１１６へ補給水Ｗ１２０（軟化水補給水Ｗ１２２又は原水補給水Ｗ１２１）の補給を開始する。また、補給水制御部１８６は、補給水Ｗ１２０の補給とほぼ同時に、排水バルブ１６１を制御して、貯留部１１６に貯留される循環水Ｗ１１０を、排水ラインＬ１３０を介して水処理システム１００の系外へ排出する。

補給水Ｗ１２０（軟化水補給水Ｗ１２２又は原水補給水Ｗ１２１）の補給の際に、第１添加装置１３７Ａは、スライム、藻類、レジオネラ属菌、スケール等の発生、配管等の腐食に対して総合的な抑制効果を有する水処理剤を循環水Ｗ１１０に所定の添加量を添加する。これにより、循環水Ｗ１１０におけるスライム、藻類、レジオネラ属菌、スケール等の発生を抑制すると共に、配管等の腐食を抑制する。

その後、電気伝導率測定装置１３３により測定された電気伝導率に基づいて、濃縮度判定部１８１により循環水Ｗ１１０が濃縮していないと判定された場合には、補給水制御部１８６は、補給水ポンプ１４１、軟化水補給水バルブ１４４、原水補給水バルブ１５２などを制御して、補給水ラインＬ１２０を介して、冷却塔１１０の貯留部１１６へ補給水Ｗ１２０（軟化水補給水Ｗ１２２及び原水補給水Ｗ１２１）の補給を停止する。また、補給水Ｗ１２０の補給の停止とほぼ同時に、補給水制御部１８６は、排水バルブ１６１を閉鎖し、貯留部１１６からの循環水Ｗ１１０（原水補給水Ｗ１２１、軟化水補給水Ｗ１２２を含む）の水処理システム１００の系外への排出を停止する。これらの結果、貯留部１１６における循環水Ｗ１１０の濃縮度が低下する。

貯留部１１６に貯留された軟化水補給水Ｗ１２２及び原水補給水Ｗ１２１は、貯留部１１６に貯留されていた循環水Ｗ１１０と合わさり、被冷却装置１３１を冷却するための循環水Ｗ１１０として、被冷却装置１３１へ供給される。

次に、第１実施形態の水処理システム１００の動作の第１実施例について、図３を参照しながら説明する。図３は、第１実施形態の水処理システム１００の動作を示すフローチャートである。

第１実施例では、冷却塔１１０の貯留部１１６へ補給水Ｗ１２０（軟化水補給水Ｗ１２２又は原水補給水Ｗ１２１）の補給が終了して、貯留部１１６における循環水Ｗ１１０の濃縮度が低下した後のフローについて説明する。

図３に示すように、ステップＳＴ１０１において、第１温度測定装置１６５は、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０の水温を測定する。第１温度測定装置１６５により測定された水温の情報は、システム制御装置１０１の制御部１０２の温度判定部１８２及び滞留時間推定部１８４に入力される。

ステップＳＴ１０２において、温度判定部１８２は、入力された循環水Ｗ１１０の水温の情報に基づいて、循環水Ｗ１１０の水温が所定の範囲内にあるか否かについて判定する。温度判定部１８２による判定結果は、システム制御装置１０１のメモリ１０３に記憶される。循環水Ｗ１１０の水温が所定の範囲内にある（ＹＥＳ）場合には、ステップＳＴ１０３へ進む。循環水Ｗ１１０の水温が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合には、ステップＳＴ１１１へ進む。

循環水Ｗ１１０の水温が所定の範囲内にある（ＹＥＳ）場合には、循環水Ｗ１１０の水温は、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすい温度条件を有している。そのため、循環水Ｗ１１０に殺菌剤を添加して、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制する必要性がある。本実施例においては、循環水Ｗ１１０へ添加する殺菌剤の量は、循環水Ｗ１１０の水温、循環水Ｗ１１０のｐＨ値及び循環水Ｗ１１０の滞留時間により総合的に決定するため、ステップＳＴ１０３へ進む。

循環水Ｗ１１０の水温が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合には、循環水Ｗ１１０の水温は、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しにくい温度条件を有している。そのため、循環水Ｗ１１０に殺菌剤を添加する必要性は低い。本実施例においては、循環水Ｗ１１０へ添加する殺菌剤の量は、循環水Ｗ１１０の水温、循環水Ｗ１１０のｐＨ値及び循環水Ｗ１１０の滞留時間と併せて総合的に判断するため、ステップＳＴ１１１へ進む。

ステップＳＴ１０３において、ｐＨ測定装置１６４は、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０のｐＨ値を測定する。ｐＨ測定装置１６４により測定されたｐＨ値の情報は、システム制御装置１０１の制御部１０２のｐＨ判定部１８３に入力される。

ステップＳＴ１０４において、ｐＨ判定部１８３は、入力された循環水Ｗ１１０のｐＨ値の情報に基づいて、循環水Ｗ１１０のｐＨ値が所定の範囲内にあるか否かについて判定する。ｐＨ判定部１８３による判定結果は、システム制御装置１０１のメモリ１０３に記憶される。循環水Ｗ１１０のｐＨ値が所定の範囲内にある（ＹＥＳ）場合には、ステップＳＴ１０５へ進む。循環水Ｗ１１０のｐＨ値が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合には、ステップＳＴ１０８へ進む。

循環水Ｗ１１０のｐＨ値が所定の範囲内にある（ＹＥＳ）場合には、循環水Ｗ１１０のｐＨ値は、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすいｐＨ条件を有している。そのため、循環水Ｗ１１０に殺菌剤を添加して、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制する必要性がある。本実施例においては、循環水Ｗ１１０へ添加する殺菌剤の量は、循環水Ｗ１１０の水温、循環水Ｗ１１０のｐＨ値及び循環水Ｗ１１０の滞留時間により総合的に決定するため、ステップＳＴ１０５へ進む。

循環水Ｗ１１０のｐＨ値が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合には、循環水Ｗ１１０のｐＨ値は、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しにくいｐＨ条件を有している。そのため、循環水Ｗ１１０に殺菌剤を添加する必要性は低い。本実施例においては、循環水Ｗ１１０へ添加する殺菌剤の量は、循環水Ｗ１１０の水温、循環水Ｗ１１０のｐＨ値及び循環水Ｗ１１０の滞留時間により総合的に決定するため、ステップＳＴ１０８へ進む。

ステップＳＴ１０５において、第２温度測定装置１６６は、上部水槽１１３に貯留された循環水Ｗ１１０の水温を測定する。第２温度測定装置１６６により測定された水温の情報は、システム制御装置１０１の制御部１０２の滞留時間推定部１８４に入力される。

ステップＳＴ１０６において、滞留時間推定部１８４は、入力された第１温度測定装置１６５により測定された水温及び第２温度測定装置１６６により測定された水温の情報に基づいて、上部水槽１１３に貯留された循環水Ｗ１１０の水温と貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０の水温との差（水温差）を算出する。滞留時間推定部１８４は、算出された水温差から冷却塔１１０の負荷率を求めることにより循環水Ｗ１１０の滞留時間を推定する。

冷却塔１１０の負荷率が低い場合には、負荷率が高い場合に比して循環水Ｗ１１０の滞留時間が長くなる。これにより、循環水Ｗ１１０において、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすい状態であること推定される。そのため、循環水Ｗ１１０に殺菌剤を添加して、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制する必要性がある。

一方、冷却塔１１０の負荷率が高い場合には、負荷率が低い場合に比して循環水Ｗ１１０は滞留時間が短くなる。これにより、循環水Ｗ１１０において、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しにくい状態であることが推定される。そのため、循環水Ｗ１１０に殺菌剤を添加する必要性は低い。

ステップＳＴ１０７において、殺菌剤添加量制御部１８５は、メモリ１０３に記憶された温度判定部１８２による判定結果、ｐＨ判定部１８３による判定結果、滞留時間推定部１８４による推定結果及びメモリ１０３の殺菌剤添加量記憶部１８７の殺菌剤添加量記憶テーブル１８７ａに基づき、循環水Ｗ１１０に添加する殺菌剤の添加量を制御する。

具体的には、循環水Ｗ１１０の水温が所定の範囲内にある（ステップＳＴ１０２：ＹＥＳ）という判定結果、循環水Ｗ１１０のｐＨ値が所定の範囲内にある（ステップＳＴ１０４：ＹＥＳ）という判定結果及び滞留時間推定部１８４による推定結果に基づき、殺菌剤添加量記憶テーブル１８７ａを参照して、実質的に殺菌剤のみを循環水Ｗ１１０に添加するように第２添加装置１３７Ｂを制御する。第２添加装置１３７Ｂは、殺菌剤添加量記憶テーブル１８７ａに基づいて、殺菌剤を適切な量だけ循環水Ｗ１１０に添加することができる。これにより、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制しつつ、配管等の腐食を抑制することができる。
ステップＳＴ１０７の後に、第１実施例の水処理システム１００における殺菌剤の添加の動作は終了する。

次に、ステップＳＴ１０４において循環水Ｗ１１０のｐＨ値が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合におけるステップＳＴ１０８からステップＳＴ１１０について説明する。
ステップＳＴ１０８からステップＳＴ１１０における動作は、ステップＳＴ１０５からステップＳＴ１０７の動作と同様である。そのため、ステップＳＴ１０５からステップＳＴ１０７の動作の説明を援用して、ステップＳＴ１０８からステップＳＴ１１０における動作についての主要な説明を省略し、ステップＳＴ１１０における具体的内容について補足説明をする。

ステップＳＴ１１０において、循環水Ｗ１１０の水温が所定の範囲内にある（ステップＳＴ１０２：ＹＥＳ）という判定結果、循環水Ｗ１１０のｐＨ値が所定の範囲内にない（ステップＳＴ１０４：ＮＯ）という判定結果及び滞留時間推定部１８４による推定結果に基づき、殺菌剤添加量記憶テーブル１８７ａを参照して、実質的に殺菌剤のみを循環水Ｗ１１０に添加するように第２添加装置１３７Ｂを制御する。第２添加装置１３７Ｂは、殺菌剤添加量記憶テーブル１８７ａに基づいて、殺菌剤を適切な量だけ循環水Ｗ１１０に添加することができる。これにより、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制しつつ、配管等の腐食を抑制することができる。
ステップＳＴ１１０の後に、第１実施例の水処理システム１００における殺菌剤の添加の動作は終了する。

次に、ステップＳＴ１０２において循環水Ｗ１１０の水温が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合におけるステップＳＴ１１１からステップＳＴ１１５について説明する。
ステップＳＴ１１１からステップＳＴ１１５における動作は、ステップＳＴ１０３からステップＳＴ１０７の動作と同様である。そのため、ステップＳＴ１０３からステップＳＴ１０７の動作の説明を援用して、ステップＳＴ１１１からステップＳＴ１１５における動作についての主要な説明を省略し、ステップＳＴ１１５における具体的内容について補足説明をする。

ステップＳＴ１１５において、循環水Ｗ１１０の水温が所定の範囲内にない（ステップＳＴ１０２：ＮＯ）という判定結果、循環水Ｗ１１０のｐＨ値が所定の範囲内にある（ステップＳＴ１１２：ＹＥＳ）という判定結果及び滞留時間推定部１８４による推定結果に基づき、殺菌剤添加量記憶テーブル１８７ａを参照して、実質的に殺菌剤のみを循環水Ｗ１１０に添加するように第２添加装置１３７Ｂを制御する。第２添加装置１３７Ｂは、殺菌剤添加量記憶テーブル１８７ａに基づいて、殺菌剤を適切な量だけ循環水Ｗ１１０に添加することができる。これにより、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制しつつ、配管等の腐食を抑制することができる。
ステップＳＴ１１５の後に、第１実施例の水処理システム１００における殺菌剤の添加の動作は終了する。

次に、ステップＳＴ１１２において循環水Ｗ１１０のｐＨ値が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合におけるステップＳＴ１１６からステップＳＴ１１８について説明する。
ステップＳＴ１１６からステップＳＴ１１８における動作は、ステップＳＴ１０５からステップＳＴ１０７の動作と同様である。そのため、ステップＳＴ１０５からステップＳＴ１０７の動作の説明を援用して、ステップＳＴ１１６からステップＳＴ１１８における動作についての主要な説明を省略し、ステップＳＴ１１８における具体的内容について補足説明をする。

ステップＳＴ１１８において、循環水Ｗ１１０の水温が所定の範囲内にない（ステップＳＴ１０２：ＮＯ）という判定結果、循環水Ｗ１１０のｐＨ値が所定の範囲内にない（ステップＳＴ１１２：ＮＯ）という判定結果及び滞留時間推定部１８４による推定結果に基づき、殺菌剤添加量記憶テーブル１８７ａを参照して、実質的に殺菌剤のみを循環水Ｗ１１０に添加するように第２添加装置１３７Ｂを制御する。第２添加装置１３７Ｂは、殺菌剤添加量記憶テーブル１８７ａに基づいて、殺菌剤を適切な量だけ循環水Ｗ１１０に添加することができる。これにより、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制しつつ、配管等の腐食を抑制することができる。
ステップＳＴ１１８の後に、第１実施例の水処理システム１００における殺菌剤の添加の動作は終了する。

第１実施形態の水処理システム１００によれば、例えば、次のような効果が奏される。
第１実施形態の水処理システム１００は、循環水Ｗ１１０に殺菌剤を添加する殺菌剤添加装置１３７と、循環水Ｗ１１０の水温及び／又はｐＨ値を測定する測定装置１６５，１６４と、測定装置１６５，１６４により測定された循環水Ｗ１１０の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、殺菌剤添加装置１３７による殺菌剤の添加量を制御する殺菌剤添加量制御部１８５と、を備える。そのため、例えば前述の実施例１のように、循環水Ｗ１１０の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖抑制効果を確保できる程度に殺菌剤を添加すると共に、配管系等の腐食を抑制することができる。従って、一般細菌等の繁殖に起因するスライムの発生の抑制、レジオネラ属菌等の繁殖の抑制及び配管系等の腐食の抑制を一層確実に行うことができる。

また、第１実施形態の水処理システム１００によれば、滞留時間推定部１８４を更に備え、殺菌剤添加量制御部１８５は、循環水Ｗ１１０の水温及びｐＨ値並びに滞留時間推定部１８４に推定される循環水Ｗ１１０の滞留時間のいずれか１つ以上に基づいて、殺菌剤添加装置１３７による殺菌剤の添加量を制御する。そのため、例えば前述の実施例１のように、循環水Ｗ１１０の水温及びｐＨ値並びに滞留時間推定部１８４に推定される循環水Ｗ１１０の滞留時間のいずれか１つ以上に基づいて、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖抑制効果を確保できる程度に殺菌剤を添加すると共に、配管系等の腐食を抑制することができる。従って、一般細菌等の繁殖に起因するスライムの発生の抑制、レジオネラ属菌等の繁殖の抑制及び配管系等の腐食の抑制を一層確実に行うことができる。

また、第１実施形態の水処理システム１００によれば、滞留時間推定部１８４は、上部水槽１１３に位置する循環水Ｗ１１０の水温と貯留部１１６に位置する循環水Ｗ１１０の水温との差である水温差に基づいて、循環水Ｗ１１０の滞留時間を推定する。そのため、滞留時間推定部１８４は、簡易な構成により循環水Ｗ１１０の滞留時間を推定することができる。

殺菌剤添加装置１３７は、殺菌剤、スケール抑制剤及び腐食抑制剤を含む水処理剤を添加する第１添加装置１３７Ａと、実質的に殺菌剤のみを添加する第２添加装置１３７Ｂとを有し、殺菌剤添加量制御部１８５は、循環水Ｗ１１０の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、第１添加装置１３７Ａの制御を行わず、実質的に殺菌剤のみを添加するように第２添加装置１３７Ｂを制御する。そのため、例えば前述の実施例１のように、実質的に殺菌剤のみを添加することにより、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖抑制効果を確保できる程度に効率よく殺菌剤を添加すると共に、配管系等の腐食を抑制することができる。従って、一般細菌等の繁殖に起因するスライムの発生の抑制、レジオネラ属菌等の繁殖の抑制及び配管系等の腐食の抑制を一層確実に行うことができる。

次に、本発明の他の実施形態について説明する。他の実施形態については、主として、第１実施形態とは異なる点を中心に説明し、第１実施形態と同様の構成については、同じ符号（ただし、３桁の数字のうち百の位を「１」から「２」に代えている）を付し、詳細な説明を省略する。他の実施形態において特に説明しない点は、第１実施形態についての説明が適宜適用又は援用される。

＜第２実施形態＞
図４を参照して、本発明の第２実施形態の水処理システム２００の概略について説明する。図４は、本発明の第２実施形態の水処理システム２００を示す概略構成図である。

第２実施形態の水処理システム２００は、第１実施形態の水処理システム１００に比して、冷却塔２１０が密閉式冷却塔からなる点が主として異なる。密閉式冷却塔は、開放式冷却塔に比して、冷却塔２１０に、被冷却装置２３１を冷却する循環液Ｗ２１０が密閉状態で流通する冷却塔内部ラインＬ２５０と、冷却塔内部ラインＬ２５０に位置する循環液Ｗ２１０を冷却するために散布水Ｗ２４０を冷却塔内部ラインＬ２５０の外側へ散布する散水部２１２と、散布された散布水Ｗ２４０を貯留する貯留部２１６とが設けられている点、及び、冷却塔２１０に、散水部２１２から散布され貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０を循環させる散布水ラインＬ２６０が接続されている点が、主として異なる。

図４に示すように、第２実施形態の水処理システム２００は、冷却塔２１０を有しており、被冷却装置２３１を冷却するために、冷却液を循環させるシステムである。冷却液は、その節約を図る観点から、冷却塔２１０で冷却しながら循環して用いられる（循環する冷却液を以下「循環液Ｗ２１０」ともいう）。第２実施形態における冷却塔２１０は、いわゆる密閉式冷却塔からなる。

第２実施形態の水処理システム２００は、散布水Ｗ２４０の貯留部２１６を有する冷却塔２１０と、被冷却装置２３１と、冷却塔２１０と被冷却装置２３１との間で循環液Ｗ２１０を循環させる循環液ラインＬ２１０と、散布水Ｗ２４０を循環させる散布水ラインＬ２６０と、冷却塔２１０の貯留部２１６に補給水Ｗ２２０を補給する補給水ラインＬ２２０と、冷却塔２１０の貯留部２１６から散布水Ｗ２４０を水処理システム２００の系外へ強制的に排出する排水ラインＬ２３０と、冷却塔２１０の貯留部２１６から溢れる散布水Ｗ２４０を排出するオーバーフローラインＬ２４０と、散布水Ｗ２４０の電気伝導率を測定する電気伝導率測定装置２３３と、散布水Ｗ２４０に殺菌剤を添加する殺菌剤添加装置２３７と、散布水Ｗ２４０の水温を測定する第１温度測定装置２６５及び第２温度測定装置２６６と、散布水Ｗ２４０のｐＨ値を測定するｐＨ測定装置２６４と、水処理システム２００の各部の制御を行うシステム制御装置２０１と、を主体として構成されている。

冷却塔２１０は、循環液Ｗ２１０が密閉状態で流通する冷却塔内部ラインＬ２５０と、冷却塔内部ラインＬ２５０に位置する循環液Ｗ２１０を冷却するために散布水Ｗ２４０を冷却塔内部ラインＬ２５０の外側へ散布する散水部２１２と、散布された散布水Ｗ２４０を貯留する貯留部２１６とを有する。

循環液ラインＬ２１０は、冷却塔内部ラインＬ２５０に位置する循環液Ｗ２１０を冷却塔２１０から被冷却装置２３１へ供給する循環液供給ラインＬ２１１と、循環液Ｗ２１０を被冷却装置２３１から冷却塔２１０の冷却塔内部ラインＬ２５０へ回収する循環液回収ラインＬ２１２と、を有する。循環液ラインＬ２１０は、循環液供給ラインＬ２１１、循環液回収ラインＬ２１２及び冷却塔内部ラインＬ２５０を介して、冷却塔２１０と被冷却装置２３１との間で循環液Ｗ２１０を循環させる。

散布水ラインＬ２６０は、貯留部２１６に接続されると共に散水部２１２に接続されている。散布水ラインＬ２６０は、散水部２１２から散布され貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０を、冷却塔２１０の外部において循環させる。
「ライン」とは、流路、経路、管路などの流体の流通が可能なラインの総称である。

第２実施形態における冷却塔２１０について説明する。冷却塔２１０は、被冷却装置２３１を冷却するための循環液Ｗ２１０を、被冷却装置２３１へ供給する前に、冷却するものである。循環液Ｗ２１０は、一般的には、水（水溶液）であるが、水以外の液体でもよい。
冷却塔２１０は、塔本体２１１と、冷却塔内部ラインＬ２５０と、散水部２１２と、貯留部２１６と、ルーバ２１８と、ファン２２０と、上部開口部２２１と、ファン駆動部２２２と、を備える。

塔本体２１１は、冷却塔２１０の外郭を形成するものである。塔本体２１１の上部には、複数の散水部２１２、ファン２２０、上部開口部２２１及びファン駆動部２２２が設けられる。塔本体２１１の内部には、冷却塔内部ラインＬ２５０が設けられる。塔本体２１１の下部には、貯留部２１６が設けられる。塔本体２１１の側部には、ルーバ２１８が設けられる。

散水部２１２は、被冷却装置２３１を冷却する循環液Ｗ２１０を冷却するために、散布水Ｗ２４０を、循環液Ｗ２１０が位置する（流通する）冷却塔内部ラインＬ２５０の外側に散布する部位である。散水部２１２は、散布水ラインＬ２６０を介して循環する散布水Ｗ２４０を、塔本体２１１の内部において冷却塔内部ラインＬ２５０の外側へ散布（散水）する。

散水部２１２は、上部水槽２１３と、散水口２１４とを備える。上部水槽２１３には、散布水ラインＬ２６０が接続されている。上部水槽２１３は、散布水ラインＬ２６０を介して循環する散布水Ｗ２４０を貯留する。また、上部水槽２１３は、散水部２１２から散布される前の散布水Ｗ２４０を貯留する。散水口２１４は、上部水槽２１３に貯留された散布水Ｗ２４０を散布するために上部水槽２１３の下側に形成されたノズルからなる。

冷却塔内部ラインＬ２５０は、塔本体２１１の内部において、循環液Ｗ２１０が密閉状態で流通するラインである。冷却塔内部ラインＬ２５０は、塔本体２１１の内部において散布水Ｗ２４０との接触面積を確保するために蛇行している。詳細には、冷却塔内部ラインＬ２５０は、塔内部分岐部Ｊ２５１において、第１内部ラインＬ２５０ａと第２内部ラインＬ２５０ｂとに分岐する。第１内部ラインＬ２５０ａと第２内部ラインＬ２５０ｂとは、塔内部合流部Ｊ２５２において合流する。第１内部ラインＬ２５０ａ及び第２内部ラインＬ２５０ｂは蛇行している。第１内部ラインＬ２５０ａ及び第２内部ラインＬ２５０ｂは、それぞれ散水部２１２の下方に配置している。
冷却塔内部ラインＬ２５０の下流側の端部は、循環液供給ラインＬ２１１に接続されている。冷却塔内部ラインＬ２５０の上流側の端部は、循環液回収ラインＬ２１２に接続されている。

塔本体２１１の内部における散水部２１２の下方には、充填材（図示せず）が設けられる。充填材は、散水部２１２から散布された散布水Ｗ２４０を滴状にして、散布水Ｗ２４０と外気Ｅ１（後述）との接触面積及び接触時間を長くして、冷却塔内部ラインＬ２５０及びその内部の循環液Ｗ２１０を効率的に冷却するために設けられる。

貯留部２１６は、散水部２１２から散布された散布水Ｗ２４０を貯留する。貯留部２１６は、塔本体２１１の下部に設けられる。後述するように、貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０は、塔本体２１１の内部を落下する過程において冷却される。貯留部２１６の底部には、散布水ラインＬ２６０及び排水ラインＬ２３０が接続されている。貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０は、散布水ラインＬ２６０を介して塔本体２１１の外部において循環する。貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０は、排水ラインＬ２３０を介して水処理システム２００の系外へ排出される。

ルーバ２１８は、塔本体２１１の内部へ外気（エア）Ｅ１を導入するための通気孔であり、塔本体２１１の外部と内部とを連通する。ルーバ２１８を介して、塔本体２１１の外部のエア（外気）Ｅ１は、塔本体２１１の内部へ流入することができる。

上部開口部２２１は、塔本体２１１の上部に形成された開口部であり、塔本体２１１の内部に位置するエアＥ１を塔本体２１１の外部に排出するために設けられる。排出されたエアを「排気Ｅ２」ともいう。

ファン２２０は、上部開口部２２１に配置されている。ファン２２０の回転軸２２０ａは、上下方向に延びるように配置されている。ファン２２０は、ルーバ２１８から塔本体２１１の内部へ外気（エア）Ｅ１を流入させると共に、塔本体２１１の内部に位置するエアＥ１を、上部開口部２２１を介して塔本体２１１の外部に排出させるように、気流を発生させる。

ファン駆動部２２２は、モータ等からなり、ファン２２０を回転駆動する。ファン駆動部２２２は、ファン２２０の上方に配置されており、ファン２２０の回転軸２２０ａに連結されている。ファン駆動部２２２は、ファン２２０の回転駆動の開始又は停止、回転速度の調整（変速）などを行う。

冷却塔２１０には、循環液ラインＬ２１０、散布水ラインＬ２６０及び排水ラインＬ２３０の他に、補給水ラインＬ２２０（原水補給水ラインＬ２２２、軟化水補給水ラインＬ２２３）及びオーバーフローラインＬ２４０が接続されている。これらの各ラインを介して、冷却塔２１０に対して、散布水Ｗ２４０が導入又は排出されると共に、補給水Ｗ２２０（原水補給水Ｗ２２１、軟化水補給水Ｗ２２２）が補給される。

被冷却装置２３１は、所要の循環液流路（図示せず）を有している。この循環液流路は、循環液導入部２３１ａと循環液排出部２３１ｂとを有している。そして、循環液導入部２３１ａには、循環液供給ラインＬ２１１の下流側の端部が接続されている。循環液排出部２３１ｂには、循環液回収ラインＬ２１２の上流側の端部が接続されている。このように、循環液流路は、循環液供給ラインＬ２１１、循環液回収ラインＬ２１２及び冷却塔内部ラインＬ２５０と共に、冷却塔２１０の塔本体２１１と被冷却装置２３１との間で循環液Ｗ２１０を循環させるための循環経路を形成している。

循環液供給ラインＬ２１１は、冷却塔２１０の冷却塔内部ラインＬ２５０と被冷却装置２３１とを接続する。循環液供給ラインＬ２１１は、冷却塔内部ラインＬ２５０に位置する循環液Ｗ２１０を被冷却装置２３１に供給することができる。
循環液供給ラインＬ２１１の途中には、循環液ポンプ２３２が接続されている。循環液ポンプ２３２は、循環液ラインＬ２１０（循環液供給ラインＬ２１１、循環液回収ラインＬ２１２）の上流側から下流側へ向けて、循環液Ｗ２１０を送り出すことができる。

循環液回収ラインＬ２１２は、被冷却装置２３１と冷却塔２１０の冷却塔内部ラインＬ２５０とを接続する。循環液回収ラインＬ２１２は、被冷却装置２３１において熱交換により加温された循環液Ｗ２１０を、冷却塔２１０の冷却塔内部ラインＬ２５０へ回収することができる。

散布水ラインＬ２６０は、貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０を冷却塔２１０から散布水ポンプ２３９へ供給する散布水供給ラインＬ２６１と、散布水Ｗ２４０を散布水ポンプ２３９から冷却塔２１０の散水部２１２へ回収する散布水回収ラインＬ２６２と、を有する。散布水ラインＬ２６０は、散布水供給ラインＬ２６１及び散布水回収ラインＬ２６２を介して、冷却塔２１０の外部において散布水Ｗ２４０を循環させる。

散布水回収ラインＬ２６２の下流側は、散布水分岐部Ｊ２４１において複数のラインに分岐している。散布水ラインＬ２６０において、散布水分岐部Ｊ２４１よりも上流側のラインを「上流側散布水回収ラインＬ２６２ａ」ともいい、散布水分岐部Ｊ２４１よりも下流側の複数のラインを「下流側散布水回収ラインＬ２６２ｂ」ともいう。複数の下流側散布水回収ラインＬ２６２ｂの下流側の端部は、それぞれ複数の散水部２１２に接続されている。

散布水ポンプ２３９は、散布水ラインＬ２６０の途中（散布水供給ラインＬ２６１と散布水回収ラインＬ２６２との間）に接続されている。散布水ポンプ２３９は、散布水ラインＬ２６０（散布水供給ラインＬ２６１、散布水回収ラインＬ２６２）の上流側から下流側へ向けて、散布水Ｗ２４０を送り出すことができる。

電気伝導率測定装置２３３は、散布水Ｗ２４０の電気伝導率を測定する装置である。電気伝導率測定装置２３３は、散布水ラインＬ２６０に接続されている。詳細には、散布水供給ラインＬ２６１には、測定接続部Ｊ２４２が設けられている。電気伝導率測定装置２３３は、測定ラインＬ２６３を介して、測定接続部Ｊ２４２において散布水供給ラインＬ２６１に接続されている。

散布水Ｗ２４０の濃縮度が高まると、腐食性イオン及びスケール発生因子の濃度が高くなる。これにより、散布水Ｗ２４０の電気伝導率が高くなる。そこで、水処理システム２００においては、電気伝導率測定装置２３３により測定される電気伝導率が所定の閾値よりも高くなった場合には、散布水Ｗ２４０の濃縮度を低下させるため（電気伝導率を低下させるため）に、補給水Ｗ２２０を冷却塔２１０の貯留部２１６へ補給し、貯留部１１６に貯留される散布水Ｗ２４０を希釈する。このようにして、散布水Ｗ２４０の電気伝導率に基づいて、散布水Ｗ２４０の濃縮度を管理する。

殺菌剤添加装置２３７は、第１添加装置２３７Ａと、第２添加装置２３７Ｂとを有する。
第１添加装置２３７Ａは、貯留部２１６の側部に接続されている。第１添加装置２３７Ａは、貯留部２１６の側部を介して、貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０に、殺菌剤、スケール抑制剤及び腐食抑制剤を含む水処理剤を添加する。水処理剤は、スライム、藻類、レジオネラ属菌、スケール等の発生、配管等の腐食に対して総合的な抑制効果を有するため、散布水Ｗ２４０が補給される際に、補給される補給水Ｗ２２０の水量に応じて散布水Ｗ２４０に添加される。なお、第１添加装置２３７Ａの種類や方式は、特に制限されない。また、第１添加装置２３７Ａにより添加される殺菌剤、スケール抑制剤及び腐食抑制剤の種類は、特に制限されない。

第２添加装置２３７Ｂは、実質的に殺菌剤のみを添加する。第２添加装置２３７Ｂは、貯留部２１６の側部に接続されている。第２添加装置２３７Ｂは、貯留部２１６の側部を介して、貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０に殺菌剤を添加する。殺菌剤としては、スライムの発生の因子となる一般細菌を殺菌する各種殺菌剤、例えば、塩素系水処理剤としての次亜塩素酸ナトリウムなどが挙げられる。また、スライム、藻類等に起因して繁殖するレジオネラ属菌等に対しての殺菌剤としては、塩素系水処理剤のほか、各種有機系水処理剤などが挙げられる。なお、第２添加装置２３７Ｂの種類や方式は、特に制限されない。また、第２添加装置２３７Ｂにより添加される殺菌剤の種類は、特に制限されない。

第１温度測定装置２６５は、貯留部２１６の内部に配置され、貯留部２１６に貯留された（位置する）散布水Ｗ２４０の水温を測定する。第１温度測定装置２６５により測定される散布水Ｗ２４０の水温は、温度判定部２８２（後述）の判定の際に用いられる。そのため、第１温度測定装置２６５は、散布水Ｗ２４０の流速が遅く、且つ散布水Ｗ２４０が日光に照射されると共に、散布水Ｗ２４０が空気に触れて貯留された貯留部２１６において一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすいという観点から、貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０の水温を測定する。

第２温度測定装置２６６は、上部水槽２１３の内部に配置され、上部水槽２１３に貯留された（位置する）散布水Ｗ２４０の水温を測定する。
第１温度測定装置２６５及び第２温度測定装置２６６としては、例えば、温度センサが用いられる。

ｐＨ測定装置２６４は、貯留部２１６の内部に配置され、貯留部２１６に貯留された（位置する）散布水Ｗ２４０のｐＨ値を測定する。ｐＨ測定装置２６４により測定される散布水Ｗ２４０のｐＨ値は、ｐＨ判定部１８３（後述）の判定の際に用いられる。そのため、ｐＨ測定装置２６４は、前述の第１温度測定装置２６５の場合と同様に、貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０のｐＨ値を測定する。

第２実施形態における補給水ラインＬ２２０に関する構成は、第１実施形態における補給水ラインＬ１２０に関する構成（図１参照）と同様である。そのため、第１実施形態における補給水ラインＬ１２０に関する構成についての説明を援用して、第２実施形態における補給水ラインＬ２２０に関する構成についての説明を省略する。

排水ラインＬ２３０は、貯留部２１６の底部に接続されており、下方に向けて延びている。排水ラインＬ２３０は、貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０を、排水Ｗ２３０として水処理システム２００の系外へ排出する。排水ラインＬ２３０の途中には、排水バルブ２６１が接続されている。排水ラインＬ２３０における排水バルブ２６１の下流側には、オーバーフローラインＬ２４０（後述）が、排水合流部Ｊ２３１を介して接続されている。排水バルブ２６１は、制御弁から構成されている。排水バルブ２６１は、貯留部２１６と排水合流部Ｊ２３１との間において、排水ラインＬ２３０を開閉することができる。

オーバーフローラインＬ２４０は、貯留部２１６から溢れる散布水Ｗ２４０を、排水Ｗ２３０として水処理システム２００の系外へ排出するラインである。オーバーフローラインＬ２４０の上流側の端部２６２は、冷却塔２１０の貯留部２１６から上方に離間した位置に位置する。オーバーフローラインＬ２４０は、排水合流部Ｊ２３１において排水ラインＬ２３０と接続（合流）する。

貯留部２１６から溢れる散布水Ｗ２４０は、オーバーフローラインＬ２４０の上流側の端部２６２からオーバーフローラインＬ２４０へ流入する。オーバーフローラインＬ２４０へ流入した散布水Ｗ２４０は、排水合流部Ｊ２３１を介して排水ラインＬ２３０へ流入し、水処理システム２００の系外へ排出される。
本実施形態においては、排水バルブ２６１から、「排水ラインＬ２３０を介して貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０を系外へ向けて流通させる排水流通手段」が構成されている。

次に、図５を参照して、第２実施形態の水処理システム２００の制御に係る機能について説明する。図５は、第２実施形態の水処理システム２００の制御に係る機能ブロック図である。
システム制御装置２０１は、第２実施形態の水処理システム２００における各部を制御する。図５に示すように、システム制御装置２０１は、例えば、補給水ポンプ２４１、軟化水補給水バルブ２４４、原水補給水バルブ２５２、排水バルブ２６１、ファン駆動部２２２、第１添加装置２３７Ａ、第２添加装置２３７Ｂに電気的に接続される。

また、システム制御装置２０１は、水処理システム２００における各測定装置に電気的に接続され、各測定装置から測定情報を受信する。例えば、システム制御装置２０１は、電気伝導率測定装置２３３に電気的に接続され、電気伝導率測定装置２３３により測定された電気伝導率情報を受信する。また、システム制御装置２０１は、第１温度測定装置２６５及び第２温度測定装置２６６に電気的に接続され、第１温度測定装置２６５及び第２温度測定装置２６６により測定された水温情報を受信する。また、システム制御装置２０１は、ｐＨ測定装置２６４に電気的に接続され、ｐＨ測定装置２６４により測定された散布水Ｗ２４０のｐＨ値情報を受信する。

システム制御装置２０１は、制御部２０２と、メモリ２０３とを備える。制御部２０２は、濃縮度判定部２８１と、温度判定部２８２と、ｐＨ判定部２８３と、散布水Ｗ２４０の滞留時間推定手段としての滞留時間推定部２８４と、殺菌剤添加量制御手段としての殺菌剤添加量制御部２８５と、流量制御手段としての補給水制御部２８６とを有する。

第２実施形態におけるシステム制御装置２０１の構成及び動作は、第１実施形態におけるシステム制御装置１０１の構成及び動作と同様である。ただし、第１実施形態では、循環水Ｗ１１０の電気伝導率に基づいて補給水Ｗ１２０の補給（流通）の制御を行うのに対して、第２実施形態では、散布水Ｗ２４０の電気伝導率に基づいて補給水Ｗ２２０の補給（流通）制御を行う点が、両実施形態で異なる。この点を勘案した上で、第１実施形態におけるシステム制御装置１０１の構成及び動作についての説明を援用し、第２実施形態におけるシステム制御装置２０１の構成及び動作についての説明を省略する。

次に、図４及び図５を参照して、第２実施形態の水処理システム２００の動作について説明する。

循環液ポンプ２３２が作動することにより、冷却塔２１０の冷却塔内部ラインＬ２５０に位置する循環液Ｗ２１０は、循環液ラインＬ２１０（循環液供給ラインＬ２１１、循環液回収ラインＬ２１２）の上流側から下流側へ向けて送り出される。
詳細には、循環液Ｗ２１０は、循環液供給ラインＬ２１１を介して、被冷却装置２３１に供給される。循環液Ｗ２１０は、被冷却装置２３１の循環液導入部２３１ａから前記循環液流路を通過して被冷却装置２３１を冷却し、循環液排出部２３１ｂから循環液回収ラインＬ２１２へ排出される。循環液回収ラインＬ２１２へ排出された循環液Ｗ２１０は、冷却塔２１０の冷却塔内部ラインＬ２５０へ導入される。このようにして、循環液Ｗ２１０は、循環液ラインＬ２１０、冷却塔内部ラインＬ２５０等を介して循環する。

また、散布水ポンプ２３９が作動することにより、冷却塔２１０の貯留部２１６に貯留される散布水Ｗ２４０は、散布水ラインＬ２６０（散布水供給ラインＬ２６１、散布水回収ラインＬ２６２）の上流側から下流側へ向けて送り出される。

散布水ラインＬ２６０へ送り出された散布水Ｗ２４０は、散水部２１２の上部水槽２１３へ導入される。上部水槽２１３へ導入された散布水Ｗ２４０は、散水口２１４から塔本体２１１の内部において冷却塔内部ラインＬ２５０の外側へ散布される。散布された散布水Ｗ２４０は、図４に点線で示すように、塔本体２１１の内部を落下して、貯留部２１６に受け止められる。このようにして、貯留部２１６に貯留される散布水Ｗ２４０は、散布水ラインＬ２６０、散水部２１２等を介して循環する。

また、冷却塔２１０において、システム制御装置２０１によりファン駆動部２２２を作動させ、ファン２２０を回転させる。これにより、ルーバ２１８を通じて塔本体２１１の内部へ外気（エア）Ｅ１が流入する。エアＥ１は、塔本体２１１の内部を通過し、排気Ｅ２として上部開口部２２１から塔本体２１１の外部へ排出される。

塔本体２１１の内部を落下する散布水Ｗ２４０は、塔本体２１１の内部へ流入する外気Ｅ１に触れて冷却される。このように冷却されて貯留部２１６へ戻る（落下する）散布水Ｗ２４０は、散布水ラインＬ２６０を介して再び冷却塔２１０の散水部２１２へ戻る。従って、貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０は、散布水ラインＬ２６０を循環して、冷却塔内部ラインＬ２５０及びその内部の循環液Ｗ２１０を冷却する冷却水として機能する。

第２実施形態における補給水Ｗ２２０（原水補給水Ｗ２２１、軟化水補給水Ｗ２２２）の補給（流通）の制御に係る構成及び動作は、第１実施形態における補給水Ｗ１２０（原水補給水Ｗ１２１、軟化水補給水Ｗ１２２）の補給（流通）の制御に係る構成（図２参照）及び動作と同様である。ただし、第１実施形態では、循環水Ｗ１１０の電気伝導率に基づいて補給水Ｗ１２０の補給（流通）の制御を行うのに対して、第２実施形態では、散布水Ｗ２４０の電気伝導率に基づいて補給水Ｗ２２０の補給（流通）の制御を行う点が、両実施形態で異なる。この点を勘案した上で、第１実施形態における補給水Ｗ１２０の補給（流通）の制御に係る構成及び動作についての説明を援用し、第２実施形態における補給水Ｗ２２０の補給（流通）の制御に係る構成及び動作についての説明を省略する。

次に、第２実施形態の水処理システム２００の動作の第２実施例について、図６を参照しながら説明する。図６は、第２実施形態の水処理システム２００の動作を示すフローチャートである。

第２実施例では、冷却塔２１０の貯留部２１６へ補給水Ｗ２２０（軟化水補給水Ｗ２２２又は原水補給水Ｗ２２１）の補給が終了して、貯留部２１６における散布水Ｗ２４０の濃縮度が低下した後のフローについて説明する。

図６に示すように、ステップＳＴ２０１において、第１温度測定装置２６５は、貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０の水温を測定する。第１温度測定装置２６５により測定された水温の情報は、システム制御装置２０１の制御部２０２の温度判定部２８２及び滞留時間推定部２８４に入力される。

ステップＳＴ２０２において、温度判定部２８２は、入力された散布水Ｗ２４０の水温の情報に基づいて、散布水Ｗ２４０の水温が所定の範囲内にあるか否かについて判定する。温度判定部２８２による判定結果は、システム制御装置２０１のメモリ２０３に記憶される。散布水Ｗ２４０の水温が所定の範囲内にある（ＹＥＳ）場合には、ステップＳＴ２０３へ進む。散布水Ｗ２４０の水温が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合には、ステップＳＴ２１１へ進む。

散布水Ｗ２４０の水温が所定の範囲内にある（ＹＥＳ）場合には、散布水Ｗ２４０の水温は、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすい温度条件を有している。そのため、散布水Ｗ２４０に殺菌剤を添加して、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制する必要性がある。本実施例においては、散布水Ｗ２４０へ添加する殺菌剤の量は、散布水Ｗ２４０の水温、散布水Ｗ２４０のｐＨ値及び散布水Ｗ２４０の滞留時間により総合的に決定するため、ステップＳＴ２０３へ進む。

散布水Ｗ２４０の水温が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合には、散布水Ｗ２４０の水温は、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しにくい温度条件を有している。そのため、散布水Ｗ２４０に殺菌剤を添加する必要性は低い。本実施例においては、散布水Ｗ２４０へ添加する殺菌剤の量は、散布水Ｗ２４０の水温、散布水Ｗ２４０のｐＨ値及び散布水Ｗ２４０の滞留時間と併せて総合的に判断するため、ステップＳＴ２１１へ進む。

ステップＳＴ２０３において、ｐＨ測定装置２６４は、貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０のｐＨ値を測定する。ｐＨ測定装置２６４により測定されたｐＨ値の情報は、システム制御装置２０１の制御部２０２のｐＨ判定部２８３に入力される。

ステップＳＴ２０４において、ｐＨ判定部２８３は、入力された散布水Ｗ２４０のｐＨ値の情報に基づいて、散布水Ｗ２４０のｐＨ値が所定の範囲内にあるか否かについて判定する。ｐＨ判定部２８３による判定結果は、システム制御装置２０１のメモリ２０３に記憶される。散布水Ｗ２４０のｐＨ値が所定の範囲内にある（ＹＥＳ）場合には、ステップＳＴ２０５へ進む。散布水Ｗ２４０のｐＨ値が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合には、ステップＳＴ２０８へ進む。

散布水Ｗ２４０のｐＨ値が所定の範囲内にある（ＹＥＳ）場合には、散布水Ｗ２４０のｐＨ値は、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすいｐＨ条件を有している。そのため、散布水Ｗ２４０に殺菌剤を添加して、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制する必要性がある。本実施例においては、散布水Ｗ２４０へ添加する殺菌剤の量は、散布水Ｗ２４０の水温、散布水Ｗ２４０のｐＨ値及び散布水Ｗ２４０の滞留時間により総合的に決定するため、ステップＳＴ２０５へ進む。

散布水Ｗ２４０のｐＨ値が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合には、散布水Ｗ２４０のｐＨ値は、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しにくいｐＨ条件を有している。そのため、散布水Ｗ２４０に殺菌剤を添加する必要性は低い。本実施例においては、散布水Ｗ２４０へ添加する殺菌剤の量は、散布水Ｗ２４０の水温、散布水Ｗ２４０のｐＨ値及び散布水Ｗ２４０の滞留時間により総合的に決定するため、ステップＳＴ２０８へ進む。

ステップＳＴ２０５において、第２温度測定装置２６６は、上部水槽２１３に貯留された散布水Ｗ２４０の水温を測定する。第２温度測定装置２６６により測定された水温の情報は、システム制御装置２０１の制御部２０２の滞留時間推定部２８４に入力される。

ステップＳＴ２０６において、滞留時間推定部２８４は、入力された第１温度測定装置２６５により測定された水温及び第２温度測定装置２６６により測定された水温の情報に基づいて、上部水槽２１３に貯留された散布水Ｗ２４０の水温と貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０の水温との差（水温差）を算出する。滞留時間推定部２８４は、算出された水温差から冷却塔２１０の負荷率を求めることにより散布水Ｗ２４０の滞留時間を推定する。

冷却塔２１０の負荷率が低い場合には、負荷率が高い場合に比して散布水Ｗ２４０の滞留時間が長くなる。これにより、散布水Ｗ２４０において、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しやすい状態であること推定される。そのため、散布水Ｗ２４０に殺菌剤を添加して、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制する必要性がある。

一方、冷却塔２１０の負荷率が高い場合には、負荷率が低い場合に比して散布水Ｗ２４０は滞留時間が短くなる。これにより、散布水Ｗ２４０において、一般細菌やレジオネラ属菌等が繁殖しにくい状態であることが推定される。そのため、散布水Ｗ２４０に殺菌剤を添加する必要性は低い。

ステップＳＴ２０７において、殺菌剤添加量制御部２８５は、メモリ２０３に記憶された温度判定部２８２による判定結果、ｐＨ判定部２８３による判定結果、滞留時間推定部２８４による推定結果及びメモリ２０３の殺菌剤添加量記憶部２８７の殺菌剤添加量記憶テーブル２８７ａに基づき、散布水Ｗ２４０に添加する殺菌剤の添加量を制御する。

具体的には、散布水Ｗ２４０の水温が所定の範囲内にある（ステップＳＴ２０２：ＹＥＳ）という判定結果、散布水Ｗ２４０のｐＨ値が所定の範囲内にある（ステップＳＴ２０４：ＹＥＳ）という判定結果及び滞留時間推定部２８４による推定結果に基づき、殺菌剤添加量記憶テーブル２８７ａを参照して、実質的に殺菌剤のみを散布水Ｗ２４０に添加するように第２添加装置２３７Ｂを制御する。第２添加装置２３７Ｂは、殺菌剤添加量記憶テーブル２８７ａに基づいて、殺菌剤を適切な量だけ散布水Ｗ２４０に添加することができる。これにより、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制しつつ、配管等の腐食を抑制することができる。
ステップＳＴ２０７の後に、第２実施例の水処理システム２００における殺菌剤の添加の動作は終了する。

次に、ステップＳＴ２０４において散布水Ｗ２４０のｐＨ値が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合におけるステップＳＴ２０８からステップＳＴ２１０について説明する。
ステップＳＴ２０８からステップＳＴ２１０における動作は、ステップＳＴ２０５からステップＳＴ２０７の動作と同様である。そのため、ステップＳＴ２０５からステップＳＴ２０７の動作の説明を援用して、ステップＳＴ２０８からステップＳＴ２１０における動作についての主要な説明を省略し、ステップＳＴ２１０における具体的内容について補足説明をする。

ステップＳＴ２１０において、散布水Ｗ２４０の水温が所定の範囲内にある（ステップＳＴ２０２：ＹＥＳ）という判定結果、散布水Ｗ２４０のｐＨ値が所定の範囲内にない（ステップＳＴ２０４：ＮＯ）という判定結果及び滞留時間推定部２８４による推定結果に基づき、殺菌剤添加量記憶テーブル２８７ａを参照して、実質的に殺菌剤のみを散布水Ｗ２４０に添加するように第２添加装置２３７Ｂを制御する。第２添加装置２３７Ｂは、殺菌剤添加量記憶テーブル２８７ａに基づいて、殺菌剤を適切な量だけ散布水Ｗ２４０に添加することができる。これにより、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制しつつ、配管等の腐食を抑制することができる。
ステップＳＴ２１０の後に、第２実施例の水処理システム２００における殺菌剤の添加の動作は終了する。

次に、ステップＳＴ２０２において散布水Ｗ２４０の水温が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合におけるステップＳＴ２１１からステップＳＴ２１５について説明する。
ステップＳＴ２１１からステップＳＴ２１５における動作は、ステップＳＴ２０３からステップＳＴ２０７の動作と同様である。そのため、ステップＳＴ２０３からステップＳＴ２０７の動作の説明を援用して、ステップＳＴ２１１からステップＳＴ２１５における動作についての主要な説明を省略し、ステップＳＴ２１５における具体的内容について補足説明をする。

ステップＳＴ２１５において、散布水Ｗ２４０の水温が所定の範囲内にない（ステップＳＴ２０２：ＮＯ）という判定結果、散布水Ｗ２４０のｐＨ値が所定の範囲内にある（ステップＳＴ２１２：ＹＥＳ）という判定結果及び滞留時間推定部２８４による推定結果に基づき、殺菌剤添加量記憶テーブル２８７ａを参照して、実質的に殺菌剤のみを散布水Ｗ２４０に添加するように第２添加装置２３７Ｂを制御する。第２添加装置２３７Ｂは、殺菌剤添加量記憶テーブル２８７ａに基づいて、殺菌剤を適切な量だけ散布水Ｗ２４０に添加することができる。これにより、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制しつつ、配管等の腐食を抑制することができる。
ステップＳＴ２１５の後に、第２実施例の水処理システム２００における殺菌剤の添加の動作は終了する。

次に、ステップＳＴ２１２において散布水Ｗ２４０のｐＨ値が所定の範囲内にない（ＮＯ）場合におけるステップＳＴ２１６からステップＳＴ２１８について説明する。
ステップＳＴ２１６からステップＳＴ２１８における動作は、ステップＳＴ２０５からステップＳＴ２０７の動作と同様である。そのため、ステップＳＴ２０５からステップＳＴ２０７の動作の説明を援用して、ステップＳＴ２１６からステップＳＴ２１８における動作についての主要な説明を省略し、ステップＳＴ２１８における具体的内容について補足説明をする。

ステップＳＴ２１５において、散布水Ｗ２４０の水温が所定の範囲内にない（ステップＳＴ２０２：ＮＯ）という判定結果、散布水Ｗ２４０のｐＨ値が所定の範囲内にない（ステップＳＴ２１２：ＮＯ）という判定結果及び滞留時間推定部２８４による推定結果に基づき、殺菌剤添加量記憶テーブル２８７ａを参照して、実質的に殺菌剤のみを散布水Ｗ２４０に添加するように第２添加装置２３７Ｂを制御する。第２添加装置２３７Ｂは、殺菌剤添加量記憶テーブル２８７ａに基づいて、殺菌剤を適切な量だけ散布水Ｗ２４０に添加することができる。これにより、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖を抑制しつつ、配管等の腐食を抑制することができる。
ステップＳＴ２１８の後に、第２実施例の水処理システム２００における殺菌剤の添加の動作は終了する。

第２実施形態の水処理システム２００によれば、例えば、次のような効果が奏される。
第２実施形態の水処理システム２００は、散布水Ｗ２４０に殺菌剤を添加する殺菌剤添加装置２３７と、散布水Ｗ２４０の水温及び／又はｐＨ値を測定する測定装置２６５，２６４と、測定装置２６５，２６４により測定された散布水Ｗ２４０の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、殺菌剤添加装置２３７による殺菌剤の添加量を制御する殺菌剤添加量制御部２８５と、を備える。そのため、例えば前述の第２実施例のように、散布水Ｗ２４０の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖抑制効果を確保できる程度に殺菌剤を添加すると共に、配管系等の腐食を抑制することができる。従って、一般細菌等の繁殖に起因するスライムの発生の抑制、レジオネラ属菌等の繁殖の抑制及び配管系等の腐食の抑制を一層確実に行うことができる。

また、第２実施形態の水処理システム２００によれば、滞留時間推定部２８４を更に備え、殺菌剤添加量制御部２８５は、散布水Ｗ２４０の水温及びｐＨ値並びに滞留時間推定部２８４に推定される散布水Ｗ２４０の滞留時間のいずれか１つ以上に基づいて、殺菌剤添加装置２３７による殺菌剤の添加量を制御する。そのため、例えば前述の第２実施例のように、散布水Ｗ２４０の水温及びｐＨ値並びに滞留時間推定部２８４に推定される散布水Ｗ２４０の滞留時間のいずれか１つ以上に基づいて、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖抑制効果を確保できる程度に殺菌剤を添加すると共に、配管系等の腐食を抑制することができる。従って、一般細菌等の繁殖に起因するスライムの発生の抑制、レジオネラ属菌等の繁殖の抑制及び配管系等の腐食の抑制を一層確実に行うことができる。

また、第２実施形態の水処理システム２００によれば、滞留時間推定部２８４は、上部水槽２１３に位置する散布水Ｗ２４０の水温と貯留部２１６に位置する散布水Ｗ２４０の水温との差である水温差に基づいて、散布水Ｗ２４０の滞留時間を推定する。そのため、滞留時間推定部２８４は、簡易な構成により散布水Ｗ２４０の滞留時間を推定することができる。

殺菌剤添加装置２３７は、殺菌剤、スケール抑制剤及び腐食抑制剤を含む水処理剤を添加する第１添加装置２３７Ａと、実質的に殺菌剤のみを添加する第２添加装置２３７Ｂとを有し、殺菌剤添加量制御部２８５は、散布水Ｗ２４０の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、第１添加装置２３７Ａの制御を行わず、実質的に殺菌剤のみを添加するように第２添加装置２３７Ｂを制御する。そのため、例えば前述の第２実施例のように、実質的に殺菌剤のみを添加することにより、一般細菌やレジオネラ属菌等の繁殖抑制効果を確保できる程度に効率よく殺菌剤を添加すると共に、配管系等の腐食を抑制することができる。従って、一般細菌等の繁殖に起因するスライムの発生の抑制、レジオネラ属菌等の繁殖の抑制及び配管系等の腐食の抑制を一層確実に行うことができる。

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は前述した実施形態に限定されることなく、種々の形態で実施することができる。
例えば、開放式冷却塔を含む第１実施形態においては、第１温度測定装置１６５は、貯留部１１６の内部に配置され、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０の水温を測定しているが、これに制限されない。例えば、第１温度測定装置１６５は、循環水ラインＬ１１０に接続され、循環水ラインＬ１１０を流通する循環水Ｗ１１０の水温を測定してもよい。

また、密閉式冷却塔を含む第２実施形態においては、第１温度測定装置２６５は、貯留部２１６の内部に配置され、貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０の水温を測定しているが、これに制限されない。例えば、第１温度測定装置２６５は、散布水ラインＬ２６０に接続され、散布水ラインＬ２６０を流通する散布水Ｗ２４０の水温を測定してもよい。

また、開放式冷却塔を含む第１実施形態においては、ｐＨ測定装置１６４は、貯留部１１６の内部に配置され、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０のｐＨ値を測定しているが、これに制限されない。例えば、ｐＨ測定装置１６４は、冷却塔１１０の上部水槽１１３に配置され、上部水槽１１３に貯留される循環水Ｗ１１０のｐＨ値を測定してもよい。また、ｐＨ測定装置１６４は、循環水ラインＬ１１０に接続され、循環水ラインＬ１１０を流通する循環水Ｗ１１０のｐＨ値を測定してもよい。

また、密閉式冷却塔を含む第２実施形態においては、ｐＨ測定装置２６４は、貯留部２１６の内部に配置され、貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０のｐＨ値を測定しているが、これに制限されない。例えば、ｐＨ測定装置２６４は、冷却塔２１０の上部水槽２１３に配置され、上部水槽２１３に貯留される散布水Ｗ２４０のｐＨ値を測定してもよい。また、ｐＨ測定装置２６４は、散布水ラインＬ２６０に接続され、散布水ラインＬ２６０を流通する散布水Ｗ２４０のｐＨ値を測定してもよい。

また、開放式冷却塔を含む第１実施形態においては、殺菌剤添加装置１３７は、貯留部１１６に接続され、貯留部１１６に貯留された循環水Ｗ１１０に殺菌剤を添加しているが、これに制限されない。例えば、殺菌剤添加装置１３７は、冷却塔１１０の上部水槽１１３に接続され、上部水槽１１３に貯留される循環水Ｗ１１０に殺菌剤を添加してもよい。また、殺菌剤添加装置１３７は、循環水ラインＬ１１０に接続され、循環水ラインＬ１１０を流通する循環水Ｗ１１０に殺菌剤を添加してもよい。また、殺菌剤添加装置１３７は、原水補給水ラインＬ１２２又は軟化水補給水ラインＬ１２３に接続され、原水補給水ラインＬ１２２又は軟化水補給水ラインＬ１２３を流通する原水補給水Ｗ１２１又は軟化水補給水Ｗ１２２に殺菌剤を添加してもよい。

また、密閉式冷却塔を含む第２実施形態においては、殺菌剤添加装置２３７は、貯留部２１６に接続され、貯留部２１６に貯留された散布水Ｗ２４０に殺菌剤を添加しているが、これに制限されない。例えば、殺菌剤添加装置２３７は、冷却塔２１０の上部水槽２１３に接続され、上部水槽２１３に貯留される散布水Ｗ２４０に殺菌剤を添加してもよい。また、殺菌剤添加装置２３７は、散布水ラインＬ２６０に接続され、散布水ラインＬ２６０を流通する散布水Ｗ２４０に殺菌剤を添加してもよい。また、殺菌剤添加装置２３７は、原水補給水ラインＬ２２２又は軟化水補給水ラインＬ２２３に接続され、原水補給水ラインＬ２２２又は軟化水補給水ラインＬ２２３を流通する原水補給水Ｗ２２１又は軟化水補給水Ｗ２２２に殺菌剤を添加してもよい。

また、開放式冷却塔を含む第１実施形態においては、原水補給水ラインＬ１２２は、原水補給水Ｗ１２１を貯留部１１６へ補給し、軟化水補給水ラインＬ１２３は、軟化水補給水Ｗ１２２を貯留部１１６へ補給しているが、これに制限されない。例えば、原水補給水ラインＬ１２２は、原水補給水Ｗ１２１を貯留部１１６、散水部１１２及び循環水ラインＬ１１０のうちのいずれか１つ以上へ補給してもよい。また、軟化水補給水ラインＬ１２３は、軟化水補給水Ｗ１２２を貯留部１１６、散水部１１２及び循環水ラインＬ１１０のうちのいずれか１つ以上へ補給してもよい。

図７から図１２を参照して、第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１及び軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する変形例について具体的に説明する。図７は、第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１及び軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する第１変形例を示す図である。図８は、第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１及び軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する第２変形例を示す図である。図９は、第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１及び軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する第３変形例を示す図である。図１０は、第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１及び軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する第４変形例を示す図である。図１１は、第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１及び軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する第５変形例を示す図である。図１２は、第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１及び軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する第６変形例を示す図である。図７から図１２においては、システム制御装置１０１に関連する制御線を省略している。

図７に示す第１変形例のように、原水補給水ラインＬ１２２は、原水補給水Ｗ１２１を貯留部１１６へ補給し、軟化水補給水ラインＬ１２３は、軟化水補給水Ｗ１２２を散水部１１２へ補給してもよい。また、図８に示す第２変形例のように、原水補給水ラインＬ１２２は、原水補給水Ｗ１２１を散水部１１２へ補給し、軟化水補給水ラインＬ１２３は、軟化水補給水Ｗ１２２を貯留部１１６へ補給してもよい。

また、図９に示す第３変形例のように、原水補給水ラインＬ１２２は、原水補給水Ｗ１２１を散水部１１２へ補給し、軟化水補給水ラインＬ１２３は、軟化水補給水Ｗ１２２を散水部１１２へ補給してもよい。また、図１０に示す第４変形例のように、原水補給水ラインＬ１２２は、原水補給水Ｗ１２１を循環水ラインＬ１１０へ補給し、軟化水補給水ラインＬ１２３は、軟化水補給水Ｗ１２２を循環水ラインＬ１１０へ補給してもよい。

また、図１１に示す第５変形例のように、原水補給水ラインＬ１２２は、原水補給水Ｗ１２１を循環水ラインＬ１１０へ補給し、軟化水補給水ラインＬ１２３は、軟化水補給水Ｗ１２２を貯留部１１６へ補給してもよい。また、図１２に示す第６変形例のように、原水補給水ラインＬ１２２は、原水補給水Ｗ１２１を貯留部１１６へ補給し、軟化水補給水ラインＬ１２３は、軟化水補給水Ｗ１２２を循環水ラインＬ１１０へ補給してもよい。

また、密閉式冷却塔を含む第２実施形態においては、原水補給水ラインＬ２２２は、原水補給水Ｗ２２１を貯留部２１６へ補給し、軟化水補給水ラインＬ２２３は、軟化水補給水Ｗ２２２を貯留部２１６へ補給しているが、これに制限されない。例えば、原水補給水ラインＬ２２２は、原水補給水Ｗ２２１を貯留部２１６、散水部２１２及び散布水ラインＬ２６０のうちのいずれか１つ以上へ補給してもよい。また、軟化水補給水ラインＬ２２３は、軟化水補給水Ｗ２２２を貯留部２１６、散水部２１２及び散布水ラインＬ２６０のうちのいずれか１つ以上へ補給してもよい。

具体的には、第２実施形態における原水補給水ラインＬ２２２は、第１実施形態における原水補給水Ｗ１２１の補給位置に関する前記第１変形例から前記第６変形例（図７から図１２参照）と同様に、原水補給水Ｗ２２１を貯留部２１６以外へ補給してもよい。また、第２実施形態における軟化水補給水ラインＬ２２３は、第１実施形態における軟化水補給水Ｗ１２２の補給位置に関する前記第１変形例から前記第６変形例（図７から図１２参照）と同様に、軟化水補給水Ｗ２２２を貯留部２１６以外へ補給してもよい。

また、第１実施形態では、原水補給水Ｗ１２１と軟化水補給水Ｗ１２２とが冷却塔１１０の貯留部１１６に補給されているが、これに制限されない。例えば、原水補給水Ｗ１２１のみが冷却塔１１０の貯留部１１６に補給されてもよいし、軟化水補給水Ｗ１２２のみが冷却塔１１０の貯留部１１６に補給されてもよい。第２実施形態においても同様である。

また、本発明は、第１実施形態において、冷却塔１１０の貯留部１１６に循環水Ｗ１１０が貯留された状態で、水処理システム１００が休止状態（例えば、循環水ポンプ１３２などが停止状態）にある場合にも適用することができる。
また、第２実施形態において、冷却塔２１０の貯留部２１６に散布水Ｗ２４０が貯留された状態で、水処理システム２００が休止状態（例えば、循環液ポンプ２３２や散布水ポンプ２３９などが停止状態）にある場合にも適用することができる。

また、前記第１実施例では、循環水Ｗ１１０へ添加する殺菌剤の量は、循環水Ｗ１１０の水温、循環水Ｗ１１０のｐＨ値及び循環水Ｗ１１０の滞留時間により総合的に決定しているが、これに制限されない。例えば、循環水Ｗ１１０へ添加する殺菌剤の量は、循環水Ｗ１１０の水温、循環水Ｗ１１０のｐＨ値及び循環水Ｗ１１０の滞留時間のいずれか１つにより決定してもよいし、いずれか２つにより決定してもよい。
第１実施例の変形に関する説明は、第２実施例にも適宜適用又は援用される。

１００，２００ 水処理システム
１１０，２１０ 冷却塔
１１２，２１２ 散水部
１１６，２１６ 貯留部
１３１，２３１ 被冷却装置
１６５，２６５ 第１温度測定装置（測定装置）
１６４，２６４ ｐＨ測定装置（測定装置）
１３７，２３７ 殺菌剤添加装置
１４１，２４１ 補給水ポンプ（補給水流通手段、原水補給水流通手段、軟化水補給水流通手段）
１４４，２４４ 軟化水補給水バルブ（補給水流通手段、軟化水補給水流通手段）
１５２，２５２ 原水補給水バルブ（補給水流通手段、原水補給水流通手段）
１８３，２８３ 補給水制御部（流量制御手段）
１８５，２８５ 殺菌剤添加量制御部（殺菌剤添加量制御手段）
Ｌ１１０ 循環水ライン
Ｌ１１１ 循環水供給ライン
Ｌ１１２ 循環水回収ライン
Ｌ１２２，Ｌ２２２ 原水補給水ライン
Ｌ１２３，Ｌ２２３ 軟化水補給水ライン
Ｌ２１０ 循環液ライン
Ｌ２１１ 循環液供給ライン
Ｌ２１２ 循環液回収ライン
Ｌ２５０ 冷却塔内部ライン
Ｌ２６０ 散布水ライン
Ｗ１１０ 循環水
Ｗ１２１，Ｗ２２１ 原水補給水
Ｗ１２２，Ｗ２２２ 軟化水補給水
Ｗ２１０ 循環液
Ｗ２４０ 散布水

Claims (6)

1. 被冷却装置を冷却する循環水を冷却するために循環水を散布する散水部と、冷却された循環水を貯留する貯留部とを有する冷却塔と、
   前記貯留部に貯留された循環水を前記冷却塔から前記被冷却装置へ供給する循環水供給ラインと、循環水を前記被冷却装置から前記冷却塔の前記散水部へ回収する循環水回収ラインとを有し、前記循環水供給ライン及び前記循環水回収ラインを介して前記冷却塔と前記被冷却装置との間で循環水を循環させる循環水ラインと、
   補給水を前記貯留部、前記散水部及び前記循環水ラインのうちのいずれか１つ以上へ補給する補給水ラインと、
   前記補給水ラインを介して補給水を前記貯留部、前記散水部及び前記循環水ラインのうちのいずれか１つ以上へ向けて流通させる補給水流通手段と、
   循環水に殺菌剤を添加する殺菌剤添加装置と、
   循環水の水温及び／又はｐＨ値を測定する測定装置と、
   前記測定装置により測定された循環水の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、前記殺菌剤添加装置による殺菌剤の添加量を制御する殺菌剤添加量制御手段と、を備え、
   前記殺菌剤添加装置は、殺菌剤、スケール抑制剤及び腐食抑制剤を含む水処理剤を添加する第１添加装置と、実質的に殺菌剤のみを添加する第２添加装置とを有し、
   前記殺菌剤添加量制御手段は、前記測定装置により測定された循環水の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、前記第１添加装置の制御を行わず、実質的に殺菌剤のみを添加するように前記第２添加装置を制御する
   水処理システム。
2. 循環水が前記散水部、前記循環水ライン及び前記貯留部のいずれかに滞留する滞留時間を推定する循環水滞留時間推定手段を更に備え、
   前記殺菌剤添加量制御手段は、前記測定装置により測定される循環水の水温及びｐＨ値並びに前記循環水滞留時間推定手段により推定される循環水の前記滞留時間のいずれか１つ以上に基づいて、前記殺菌剤添加装置による殺菌剤の添加量を制御する
   請求項１に記載の水処理システム。
3. 前記循環水滞留時間推定手段は、前記散水部に位置する循環水の水温と前記貯留部に位置する循環水の水温との差である水温差に基づいて、循環水の前記滞留時間を推定する
   請求項２に記載の水処理システム。
4. 被冷却装置を冷却する循環液が密閉状態で流通する冷却塔内部ラインと、該冷却塔内部ラインに位置する循環液を冷却するために散布水を該冷却塔内部ラインの外側へ散布する散水部と、散布された散布水を貯留する貯留部とを有する冷却塔と、
   前記冷却塔内部ラインに位置する循環液を前記冷却塔から前記被冷却装置へ供給する循環液供給ラインと、循環液を前記被冷却装置から前記冷却塔の前記冷却塔内部ラインへ回収する循環液回収ラインとを有し、前記循環液供給ライン、前記循環液回収ライン及び冷却塔内部ラインを介して前記冷却塔と前記被冷却装置との間で循環液を循環させる循環液ラインと、
   前記貯留部に接続されると共に前記散水部に接続され、該散水部から散布され前記貯留部に貯留された散布水を循環させる散布水ラインと、
   補給水を前記貯留部、前記散水部及び前記散布水ラインのうちのいずれか１つ以上へ補給する補給水ラインと、
   前記補給水ラインを介して補給水を前記貯留部、前記散水部及び前記散布水ラインのうちのいずれか１つ以上へ向けて流通させる補給水流通手段と、
   散布水に殺菌剤を添加する殺菌剤添加装置と、
   散布水の水温及び／又はｐＨ値を測定する測定装置と、
   前記測定装置により測定された散布水の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、前記殺菌剤添加装置による殺菌剤の添加量を制御する殺菌剤添加量制御手段と、を備え、
   前記殺菌剤添加装置は、殺菌剤、スケール抑制剤及び腐食抑制剤を含む水処理剤を添加する第１添加装置と、実質的に殺菌剤のみを添加する第２添加装置とを有し、
   前記殺菌剤添加量制御手段は、前記測定装置により測定された散布水の水温及び／又はｐＨ値に基づいて、前記第１添加装置の制御を行わず、実質的に殺菌剤のみを添加するように前記第２添加装置を制御する
   水処理システム。
5. 散布水が前記散水部、前記散布水ライン及び前記貯留部のいずれかに滞留する滞留時間を推定する散布水滞留時間推定手段を更に備え、
   前記殺菌剤添加量制御手段は、前記測定装置により測定される散布水の水温及びｐＨ値並びに前記散布水滞留時間推定手段により推定される散布水の前記滞留時間のいずれか１つ以上に基づいて、前記殺菌剤添加装置による殺菌剤の添加量を制御する
   請求項４に記載の水処理システム。
6. 前記散布水滞留時間推定手段は、前記散水部に位置する散布水の水温と前記貯留部に位置する散布水の水温との差である水温差に基づいて、散布水の前記滞留時間を推定する
   請求項５に記載の水処理システム。

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