JP3353498B2 - 殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムとその洗浄方法及び冷却塔システム - Google Patents
殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムとその洗浄方法及び冷却塔システムInfo
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- JP3353498B2 JP3353498B2 JP26523594A JP26523594A JP3353498B2 JP 3353498 B2 JP3353498 B2 JP 3353498B2 JP 26523594 A JP26523594 A JP 26523594A JP 26523594 A JP26523594 A JP 26523594A JP 3353498 B2 JP3353498 B2 JP 3353498B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、冷却水系の冷却塔など
に発生するレジオネラ属菌の殺菌に使用する殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムとその洗浄方法及び冷却塔シス
テムに関するものである。
に発生するレジオネラ属菌の殺菌に使用する殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムとその洗浄方法及び冷却塔シス
テムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、住宅環境の整備及び高級化に伴っ
て建造物の密閉度が高くなってきており、室内の空調を
快適にするため多くの努力が払われている。一方、住宅
や事務所等の高層化、集合化によって大規模空調が普及
し室内の換気や冷房にその効果を発揮している。ところ
で通常の冷房システムは冷却コイルに冷却された冷媒を
循環する冷凍機と、冷凍機に冷却水を供給する冷却塔か
ら構成されている。ここで冷却塔は熱交換機で冷媒の熱
を吸収した冷却水をその内部で給水管から滴下させ空気
と接触させて噴霧状にし、その時の気化熱によって冷却
水の熱を吸収し冷却水の温度を下げるものである。とこ
ろでこの冷却塔は室外に設置されることが多く、外気温
にさらされ、特に夏期には高温多湿の状況で運転される
ことになる。このような高温多湿では多くの細菌が繁殖
しやすく、非衛生的で環境汚染源にもなる。特に近年で
は冷却塔に発生したレジオネラ属菌によって引き起こさ
れる肺炎などの疾病の集団発生が大きな社会問題となっ
てきている。冷却塔に発生したレジオネラ属菌は冷却水
とともにエアロゾル状となって大気中に広く飛散した
り、近接して設置された空調用の外気取り入れ口から吸
入されて各室内に分散して集団的に疾病を引き起こすも
のである。これを防ぐために冷却塔内を定期的に清掃
し、冷却水を全量交換してレジオネラ属菌を洗浄除去す
る方法が広く一般的である。しかしながらこの方法は煩
雑であるのと、レジオネラ属菌の除去が十分ではなくレ
ジオネラ属菌を含んだ廃液の処分にコストがかかるとい
う問題がある。こうした問題を解決するため冷却液に酸
や過酸化水素などの薬剤を手動で添加し、レジオネラ属
菌を殺菌洗浄する方法がある。しかしながらこの方法は
酸や過酸化水素などの薬剤を直接扱うので安全上問題で
あるばかりでなく、作業が煩雑になる。そこで酸や過酸
化水素などの薬剤保管容器を冷却塔に併設して設ける方
法が提案された。つまりこの方法は薬剤保管容器に薬剤
注入ポンプを設けて冷却水の流量積算信号により冷却塔
に薬剤を所定量注入し、レジオネラ属菌を殺菌洗浄しよ
うとするものである。
て建造物の密閉度が高くなってきており、室内の空調を
快適にするため多くの努力が払われている。一方、住宅
や事務所等の高層化、集合化によって大規模空調が普及
し室内の換気や冷房にその効果を発揮している。ところ
で通常の冷房システムは冷却コイルに冷却された冷媒を
循環する冷凍機と、冷凍機に冷却水を供給する冷却塔か
ら構成されている。ここで冷却塔は熱交換機で冷媒の熱
を吸収した冷却水をその内部で給水管から滴下させ空気
と接触させて噴霧状にし、その時の気化熱によって冷却
水の熱を吸収し冷却水の温度を下げるものである。とこ
ろでこの冷却塔は室外に設置されることが多く、外気温
にさらされ、特に夏期には高温多湿の状況で運転される
ことになる。このような高温多湿では多くの細菌が繁殖
しやすく、非衛生的で環境汚染源にもなる。特に近年で
は冷却塔に発生したレジオネラ属菌によって引き起こさ
れる肺炎などの疾病の集団発生が大きな社会問題となっ
てきている。冷却塔に発生したレジオネラ属菌は冷却水
とともにエアロゾル状となって大気中に広く飛散した
り、近接して設置された空調用の外気取り入れ口から吸
入されて各室内に分散して集団的に疾病を引き起こすも
のである。これを防ぐために冷却塔内を定期的に清掃
し、冷却水を全量交換してレジオネラ属菌を洗浄除去す
る方法が広く一般的である。しかしながらこの方法は煩
雑であるのと、レジオネラ属菌の除去が十分ではなくレ
ジオネラ属菌を含んだ廃液の処分にコストがかかるとい
う問題がある。こうした問題を解決するため冷却液に酸
や過酸化水素などの薬剤を手動で添加し、レジオネラ属
菌を殺菌洗浄する方法がある。しかしながらこの方法は
酸や過酸化水素などの薬剤を直接扱うので安全上問題で
あるばかりでなく、作業が煩雑になる。そこで酸や過酸
化水素などの薬剤保管容器を冷却塔に併設して設ける方
法が提案された。つまりこの方法は薬剤保管容器に薬剤
注入ポンプを設けて冷却水の流量積算信号により冷却塔
に薬剤を所定量注入し、レジオネラ属菌を殺菌洗浄しよ
うとするものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、薬剤保
管容器に薬剤注入ポンプを設けて冷却水の流量積算信号
により冷却塔に薬剤を所定量注入する方法は、薬剤が保
管容器を酸化腐食することから、防錆処理した保管容器
などを使用しなければならず、メンテナンスに多くの時
間を必要とし、洗浄設備の寿命が短いなどの問題があっ
た。
管容器に薬剤注入ポンプを設けて冷却水の流量積算信号
により冷却塔に薬剤を所定量注入する方法は、薬剤が保
管容器を酸化腐食することから、防錆処理した保管容器
などを使用しなければならず、メンテナンスに多くの時
間を必要とし、洗浄設備の寿命が短いなどの問題があっ
た。
【０００４】さらに薬剤保管用器などを使用せずメンテ
ナンスの容易な殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムも提
案されている。しかしこの技術でも防錆処理を施した設
備が依然として必要になるという問題があった。
ナンスの容易な殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムも提
案されている。しかしこの技術でも防錆処理を施した設
備が依然として必要になるという問題があった。
【０００５】そこで本発明は、前記従来の問題点を解決
するもので、錆の発生を防止することができ、メンテナ
ンスが容易であり、洗浄水の凍結を防いだ殺菌用濃縮遊
離塩素水生成システムとその洗浄方法及び冷却塔システ
ムを提供することを目的とするものである。
するもので、錆の発生を防止することができ、メンテナ
ンスが容易であり、洗浄水の凍結を防いだ殺菌用濃縮遊
離塩素水生成システムとその洗浄方法及び冷却塔システ
ムを提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄方
法は、濃縮遊離塩素水を吐出路から吐出させた後、第２
所定量の洗浄水を殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムに
供給するとともに、循環路を介して洗浄水を間欠的に循
環して洗浄することを特徴とする。
に本発明の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄方
法は、濃縮遊離塩素水を吐出路から吐出させた後、第２
所定量の洗浄水を殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムに
供給するとともに、循環路を介して洗浄水を間欠的に循
環して洗浄することを特徴とする。
【０００７】また、本発明の殺菌用濃縮遊離塩素水生成
システムは、貯水槽と、貯水槽と循環路によって接続さ
れるとともに遊離塩素水生成時に電気分解を行う電解槽
と、循環路に設けられた循環ポンプと、遊離塩素水生成
時に添加する塩化物水溶液を収容した塩化物水溶液槽
と、循環路に設けられた流路切り換え手段を介して接続
された吐出路を備えており、遊離塩素水生成時には循環
ポンプを連続的に運転するとともに、残留塩素水等の洗
浄時には循環ポンプを間欠的に運転する制御部を備えた
ことを特徴とする。
システムは、貯水槽と、貯水槽と循環路によって接続さ
れるとともに遊離塩素水生成時に電気分解を行う電解槽
と、循環路に設けられた循環ポンプと、遊離塩素水生成
時に添加する塩化物水溶液を収容した塩化物水溶液槽
と、循環路に設けられた流路切り換え手段を介して接続
された吐出路を備えており、遊離塩素水生成時には循環
ポンプを連続的に運転するとともに、残留塩素水等の洗
浄時には循環ポンプを間欠的に運転する制御部を備えた
ことを特徴とする。
【０００８】また、本発明の冷却塔システムは、殺菌用
濃縮遊離塩素水生成システムの吐出路を冷却塔に接続し
たことを特徴とする。
濃縮遊離塩素水生成システムの吐出路を冷却塔に接続し
たことを特徴とする。
【０００９】
【作用】本発明の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの
洗浄方法は、濃縮遊離塩素水を吐出路から吐出させた
後、第２所定量の洗浄水を殺菌用濃縮遊離塩素水生成シ
ステムに供給するとともに、循環路を介して洗浄水を間
欠的に循環して洗浄するから、濃縮のたび毎に十分な洗
浄をすることができる。また濃縮によって腐食が進みや
すくなったシステムを濃縮のたび毎に当初状態に回復さ
せることができる。
洗浄方法は、濃縮遊離塩素水を吐出路から吐出させた
後、第２所定量の洗浄水を殺菌用濃縮遊離塩素水生成シ
ステムに供給するとともに、循環路を介して洗浄水を間
欠的に循環して洗浄するから、濃縮のたび毎に十分な洗
浄をすることができる。また濃縮によって腐食が進みや
すくなったシステムを濃縮のたび毎に当初状態に回復さ
せることができる。
【００１０】また、本発明の殺菌用濃縮遊離塩素水生成
システムは、貯水槽と、貯水槽と循環路によって接続さ
れるとともに遊離塩素水生成時に電気分解を行う電解槽
と、循環路に設けられた循環ポンプと、遊離塩素水生成
時に添加する塩化物水溶液を収容した塩化物水溶液槽
と、循環路に設けられた流路切り換え手段を介して接続
された吐出路を備えており、遊離塩素水生成時には循環
ポンプを連続的に運転するとともに、残留塩素水等の洗
浄時には循環ポンプを間欠的に運転する制御部を備えて
いるから、遊離塩素水の濃縮と残留塩素水等の洗浄を交
互に繰り返すことができる。
システムは、貯水槽と、貯水槽と循環路によって接続さ
れるとともに遊離塩素水生成時に電気分解を行う電解槽
と、循環路に設けられた循環ポンプと、遊離塩素水生成
時に添加する塩化物水溶液を収容した塩化物水溶液槽
と、循環路に設けられた流路切り換え手段を介して接続
された吐出路を備えており、遊離塩素水生成時には循環
ポンプを連続的に運転するとともに、残留塩素水等の洗
浄時には循環ポンプを間欠的に運転する制御部を備えて
いるから、遊離塩素水の濃縮と残留塩素水等の洗浄を交
互に繰り返すことができる。
【００１１】また、本発明の冷却塔システムは、殺菌用
濃縮遊離塩素水生成システムの吐出路を冷却塔に接続し
ているから、濃縮遊離塩素水及び残留塩素水等の洗浄水
を冷却塔に吐出することができる。
濃縮遊離塩素水生成システムの吐出路を冷却塔に接続し
ているから、濃縮遊離塩素水及び残留塩素水等の洗浄水
を冷却塔に吐出することができる。
【００１２】
【実施例】以下本発明の実施例の詳細を図面に基づいて
説明する。図１は本発明の一実施例における殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムとその洗浄方法及び冷却塔シス
テムの説明図である。先ず本実施例の殺菌用濃縮遊離塩
素水生成システムと冷却塔システムについて説明する。
図１において１は原水または原水を濃縮した殺菌用濃縮
遊離塩素水を貯水する貯水槽である。この原水は遊離塩
素水を生成するためにも、また洗浄水として利用するた
めにも導入される。２は塩水ポンプ５で原水に塩化ナト
リウム等の塩素成分を含む塩化物を添加する塩化物水溶
液槽、３は電極Ｃ、Ｄを内部に設けた電解槽、４は循環
路１５に設けて原水を循環させる循環ポンプ、６は循環
路１５と吐出路１１を接続するかまたは閉鎖された循環
路１５のどちらを選択するかを切り換える流路切り換え
手段、７は原水の流入量を調節する原水電磁弁、８は原
水である水道水または地下水の流入口、９は貯水槽１に
設けて原水の貯水量を検出する高水位センサ、１０は貯
水槽１に設けて原水の最低貯水量を検出する低水位セン
サ、１２は吐出路１１から吐出する殺菌用濃縮遊離塩素
水を冷却室の中に混入することにより殺菌される冷却塔
である。低水位センサ１０が検出するのは残留殺菌用濃
縮遊離塩素水及び洗浄水であるが、最低貯水量は低けれ
ば低いほど望ましい。また冷却塔１２には後記するよう
に洗浄液も導かれるものである。貯水槽１、電解槽３、
塩化物水溶液槽２、循環ポンプ４、循環路１５、流路切
り換え手段６、吐出路１１、後述する制御部１４などが
本実施例の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムを構成す
るし、この殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムと冷却塔
１２から構成されるのが冷却塔システムとなる。１３は
塩化物水溶液の貯水槽１への流入量を調節する塩水電磁
弁、１４は電極Ｃ、Ｄ、循環ポンプ４、流路切り換え手
段６、原水電磁弁７及び塩水電磁弁１３を制御して殺菌
用濃縮遊離塩素水の生成および殺菌用濃縮遊離塩素水生
成システムの循環洗浄を行う制御部である。１６はイン
ターバルタイマー部で、予め設定されたインターバルで
電力を開閉して制御部１４を介して循環ポンプ４を起動
または停止するものである。
説明する。図１は本発明の一実施例における殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムとその洗浄方法及び冷却塔シス
テムの説明図である。先ず本実施例の殺菌用濃縮遊離塩
素水生成システムと冷却塔システムについて説明する。
図１において１は原水または原水を濃縮した殺菌用濃縮
遊離塩素水を貯水する貯水槽である。この原水は遊離塩
素水を生成するためにも、また洗浄水として利用するた
めにも導入される。２は塩水ポンプ５で原水に塩化ナト
リウム等の塩素成分を含む塩化物を添加する塩化物水溶
液槽、３は電極Ｃ、Ｄを内部に設けた電解槽、４は循環
路１５に設けて原水を循環させる循環ポンプ、６は循環
路１５と吐出路１１を接続するかまたは閉鎖された循環
路１５のどちらを選択するかを切り換える流路切り換え
手段、７は原水の流入量を調節する原水電磁弁、８は原
水である水道水または地下水の流入口、９は貯水槽１に
設けて原水の貯水量を検出する高水位センサ、１０は貯
水槽１に設けて原水の最低貯水量を検出する低水位セン
サ、１２は吐出路１１から吐出する殺菌用濃縮遊離塩素
水を冷却室の中に混入することにより殺菌される冷却塔
である。低水位センサ１０が検出するのは残留殺菌用濃
縮遊離塩素水及び洗浄水であるが、最低貯水量は低けれ
ば低いほど望ましい。また冷却塔１２には後記するよう
に洗浄液も導かれるものである。貯水槽１、電解槽３、
塩化物水溶液槽２、循環ポンプ４、循環路１５、流路切
り換え手段６、吐出路１１、後述する制御部１４などが
本実施例の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムを構成す
るし、この殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムと冷却塔
１２から構成されるのが冷却塔システムとなる。１３は
塩化物水溶液の貯水槽１への流入量を調節する塩水電磁
弁、１４は電極Ｃ、Ｄ、循環ポンプ４、流路切り換え手
段６、原水電磁弁７及び塩水電磁弁１３を制御して殺菌
用濃縮遊離塩素水の生成および殺菌用濃縮遊離塩素水生
成システムの循環洗浄を行う制御部である。１６はイン
ターバルタイマー部で、予め設定されたインターバルで
電力を開閉して制御部１４を介して循環ポンプ４を起動
または停止するものである。
【００１３】ここで貯水槽１の容量は冷却塔１２内を循
環する冷却水の量の約１／４０〜１／５０の程度が望ま
しい。この程度の容量によって遊離塩素水を短時間に生
成、濃縮でき生成システムが酸化腐食するのを抑えるこ
とができる。この実施例では冷却塔１２の冷却水を２０
００リットル、貯水槽１の容量を５０リットルとしてい
る。このとき後述する濃縮遊離塩素水生成プロセスに要
する時間は約５時間、冷却塔１２への吐出プロセス時間
は約５分となる。
環する冷却水の量の約１／４０〜１／５０の程度が望ま
しい。この程度の容量によって遊離塩素水を短時間に生
成、濃縮でき生成システムが酸化腐食するのを抑えるこ
とができる。この実施例では冷却塔１２の冷却水を２０
００リットル、貯水槽１の容量を５０リットルとしてい
る。このとき後述する濃縮遊離塩素水生成プロセスに要
する時間は約５時間、冷却塔１２への吐出プロセス時間
は約５分となる。
【００１４】ところで濃縮遊離塩素水生成プロセスに続
いて吐出プロセスが終了すると、殺菌を継続的に続ける
必要はなく、次回の生成プロセス開始までの約１週間程
度の間、殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムを休止して
おくというのが効果的な運転方法である。しかしながら
殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムを休止するとこのシ
ステムの内部には高濃度の遊離塩素水が不可避的に残留
し、各構成部材を酸化腐食し錆を発生させるという問題
が生じる。したがって生成プロセス直後のできるだけ早
い時期に洗浄することが重要である。また最近では高層
ビルの空調には暖房システムと冷房システムを併用して
室温の調節をすることも多く、冬季にも冷房システムを
稼働することが行われている。更に工業用設備を冷却す
る場合にも年中冷房システムの冷却水を循環して利用す
ることが多い。こうした冷房システムにおいては冷却塔
の殺菌を目的として付設される殺菌用濃縮遊離塩素水生
成システムを長時間屋外で休止すると、凍結して生成シ
ステムを破壊したり、運転の再開が煩雑になるという問
題も生じる。本発明はこれらの問題を解決するものであ
るがその前提としてまずこの殺菌用濃縮遊離塩素水生成
プロセスについて説明する。その後吐出プロセスについ
て説明し、最後に上記の問題を解決した本実施例の循環
洗浄プロセスについて説明する。
いて吐出プロセスが終了すると、殺菌を継続的に続ける
必要はなく、次回の生成プロセス開始までの約１週間程
度の間、殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムを休止して
おくというのが効果的な運転方法である。しかしながら
殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムを休止するとこのシ
ステムの内部には高濃度の遊離塩素水が不可避的に残留
し、各構成部材を酸化腐食し錆を発生させるという問題
が生じる。したがって生成プロセス直後のできるだけ早
い時期に洗浄することが重要である。また最近では高層
ビルの空調には暖房システムと冷房システムを併用して
室温の調節をすることも多く、冬季にも冷房システムを
稼働することが行われている。更に工業用設備を冷却す
る場合にも年中冷房システムの冷却水を循環して利用す
ることが多い。こうした冷房システムにおいては冷却塔
の殺菌を目的として付設される殺菌用濃縮遊離塩素水生
成システムを長時間屋外で休止すると、凍結して生成シ
ステムを破壊したり、運転の再開が煩雑になるという問
題も生じる。本発明はこれらの問題を解決するものであ
るがその前提としてまずこの殺菌用濃縮遊離塩素水生成
プロセスについて説明する。その後吐出プロセスについ
て説明し、最後に上記の問題を解決した本実施例の循環
洗浄プロセスについて説明する。
【００１５】制御部１４からの信号で原水電磁弁７が開
かれ流入口８から原水が貯水槽１に流入する。貯水槽１
に設けた高水位センサ９が所定の水位を検知すると原水
電磁弁７が閉止され、原水の供給が止められる。この実
施例の場合は貯水槽１に貯水する原水の第１所定量は５
０リットルとする。次に塩水電磁弁１３を開け塩水ポン
プ５によって塩化物水溶液槽２から１０％濃度の塩化ナ
トリウム水溶液の一部を貯水槽１の原水に添加し、約３
００ｐｐｍの塩素濃度を生成する。塩化ナトリウム水溶
液を添加された原水は循環ポンプ４で吸引され、流路切
り換え手段６に送られる。流路切り換え手段６は例えば
三方弁など用いるのがよく、循環路１５で原水を循環し
ているときには吐出路１１に原水が吐出しないように閉
じられている。この流路切り換え手段６を経由して循環
路１５から塩化ナトリウムを添加された原水は電解槽３
に注水される。循環ポンプ４は１０リットル／分の吐出
能力を有している。電解槽３に注水された原水が図示し
ないフロースイッチの検知によって所定の水量に達する
と、制御部１４から電圧が電極Ｃ、Ｄに印加され電気分
解が開始される。電気分解によって生成された遊離塩素
（Ｃｌ2 、ＨＯＣｌ、ＯＣｌ- 等）を含んだ原水は、循
環路１５から貯水槽１に還流されることになる。以上の
プロセスを１サイクルとして最初の原水に比べ遊離塩素
濃度の高くなった原水が貯水槽１に貯水される。循環ポ
ンプ４は連続的に貯水槽１の原水を電解槽３に注水し続
け、電解槽３では電極Ｃ、Ｄに連続して電圧が印加され
電気分解されていることから、貯水槽１に環流してくる
原水の遊離塩素濃度は時間経過とともに上記サイクルを
繰り返すことで濃縮されることになる。この実施例では
約５時間の連続循環で約４０ｐｐｍ濃度の遊離塩素を含
んだ濃縮遊離塩素水５０リットルが得られ貯水槽１に貯
水することができた。
かれ流入口８から原水が貯水槽１に流入する。貯水槽１
に設けた高水位センサ９が所定の水位を検知すると原水
電磁弁７が閉止され、原水の供給が止められる。この実
施例の場合は貯水槽１に貯水する原水の第１所定量は５
０リットルとする。次に塩水電磁弁１３を開け塩水ポン
プ５によって塩化物水溶液槽２から１０％濃度の塩化ナ
トリウム水溶液の一部を貯水槽１の原水に添加し、約３
００ｐｐｍの塩素濃度を生成する。塩化ナトリウム水溶
液を添加された原水は循環ポンプ４で吸引され、流路切
り換え手段６に送られる。流路切り換え手段６は例えば
三方弁など用いるのがよく、循環路１５で原水を循環し
ているときには吐出路１１に原水が吐出しないように閉
じられている。この流路切り換え手段６を経由して循環
路１５から塩化ナトリウムを添加された原水は電解槽３
に注水される。循環ポンプ４は１０リットル／分の吐出
能力を有している。電解槽３に注水された原水が図示し
ないフロースイッチの検知によって所定の水量に達する
と、制御部１４から電圧が電極Ｃ、Ｄに印加され電気分
解が開始される。電気分解によって生成された遊離塩素
（Ｃｌ2 、ＨＯＣｌ、ＯＣｌ- 等）を含んだ原水は、循
環路１５から貯水槽１に還流されることになる。以上の
プロセスを１サイクルとして最初の原水に比べ遊離塩素
濃度の高くなった原水が貯水槽１に貯水される。循環ポ
ンプ４は連続的に貯水槽１の原水を電解槽３に注水し続
け、電解槽３では電極Ｃ、Ｄに連続して電圧が印加され
電気分解されていることから、貯水槽１に環流してくる
原水の遊離塩素濃度は時間経過とともに上記サイクルを
繰り返すことで濃縮されることになる。この実施例では
約５時間の連続循環で約４０ｐｐｍ濃度の遊離塩素を含
んだ濃縮遊離塩素水５０リットルが得られ貯水槽１に貯
水することができた。
【００１６】ところで電極Ｃ、Ｄに同じ電位を印加し続
けるとその表面に原水中のＣａイオンなどが付着して電
気分解を妨げるので、それを防ぐため定期的に互いに逆
の極性の電圧を印加する逆電操作が必要となる。ここで
は３０分毎に極性を交換してＣａイオンなどの付着物を
除去して電気分解能力を維持している。以上の操作によ
り約４０ｐｐｍの濃縮遊離塩素水が得られたとき殺菌用
濃縮遊離塩素水の生成プロセスを終了する。
けるとその表面に原水中のＣａイオンなどが付着して電
気分解を妨げるので、それを防ぐため定期的に互いに逆
の極性の電圧を印加する逆電操作が必要となる。ここで
は３０分毎に極性を交換してＣａイオンなどの付着物を
除去して電気分解能力を維持している。以上の操作によ
り約４０ｐｐｍの濃縮遊離塩素水が得られたとき殺菌用
濃縮遊離塩素水の生成プロセスを終了する。
【００１７】つぎに吐出プロセスについて説明する。制
御部１４からの電解中止信号によって電極Ｃ、Ｄへの電
圧印加を中止し、流路切り換え手段６の循環路１５側が
閉じられ、吐出路１１側が開けられることによって貯水
槽１に貯水された約４０ｐｐｍ濃度の濃縮遊離塩素水５
０リットルは冷却塔システムの冷却塔１２に吐出され、
高濃度の濃縮遊離塩素水に瞬時に触れさせることでレジ
オネラ属菌を殺菌洗浄することができる。この実施例の
冷却塔１２は１００冷凍トンの容量を有する冷房システ
ムを構成するもので、約２０００リットルの冷却水を循
環している。従ってこの冷却水に約４０ｐｐｍ濃度の濃
縮遊離塩素水５０リットルを吐出することによって、冷
却水には約１ｐｐｍ濃度の遊離塩素が含まれることにな
り、レジオネラ属菌を殺菌洗浄するのに適した濃度にな
るのである。レジオネラ属菌を殺菌洗浄するのには通常
０．４ｐｐｍ以上の遊離塩素が効果的であると言われて
いるから、殆ど完全に殺菌することができる。生成プロ
セスの終了と同時に殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム
から全量の濃縮遊離塩素水が吐出されるのが望ましい
が、貯水槽１や電解槽３内に不可避的に残留遊離塩素水
が残ることが多い。従って生成プロセスで得られた濃縮
遊離塩素水はこの残留遊離塩素水分を除いてほぼ全量が
吐出されることになる。
御部１４からの電解中止信号によって電極Ｃ、Ｄへの電
圧印加を中止し、流路切り換え手段６の循環路１５側が
閉じられ、吐出路１１側が開けられることによって貯水
槽１に貯水された約４０ｐｐｍ濃度の濃縮遊離塩素水５
０リットルは冷却塔システムの冷却塔１２に吐出され、
高濃度の濃縮遊離塩素水に瞬時に触れさせることでレジ
オネラ属菌を殺菌洗浄することができる。この実施例の
冷却塔１２は１００冷凍トンの容量を有する冷房システ
ムを構成するもので、約２０００リットルの冷却水を循
環している。従ってこの冷却水に約４０ｐｐｍ濃度の濃
縮遊離塩素水５０リットルを吐出することによって、冷
却水には約１ｐｐｍ濃度の遊離塩素が含まれることにな
り、レジオネラ属菌を殺菌洗浄するのに適した濃度にな
るのである。レジオネラ属菌を殺菌洗浄するのには通常
０．４ｐｐｍ以上の遊離塩素が効果的であると言われて
いるから、殆ど完全に殺菌することができる。生成プロ
セスの終了と同時に殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム
から全量の濃縮遊離塩素水が吐出されるのが望ましい
が、貯水槽１や電解槽３内に不可避的に残留遊離塩素水
が残ることが多い。従って生成プロセスで得られた濃縮
遊離塩素水はこの残留遊離塩素水分を除いてほぼ全量が
吐出されることになる。
【００１８】ところで貯水槽１、循環ポンプ４、流路切
り換え手段６、電解槽３及び循環路１５内には濃縮遊離
塩素水が付着残留し、これらの各部材を酸化腐食させ錆
を発生させることになる。これを防止するために従来は
これらの各部材に特別な防錆処理を行っていたが、シス
テムが高価になり耐用年数も短くなるものであった。本
実施例の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの循環洗浄
プロセスはこのような問題点を解決するものである。以
下この殺菌用濃縮遊離塩素水の循環洗浄プロセスについ
て説明する。
り換え手段６、電解槽３及び循環路１５内には濃縮遊離
塩素水が付着残留し、これらの各部材を酸化腐食させ錆
を発生させることになる。これを防止するために従来は
これらの各部材に特別な防錆処理を行っていたが、シス
テムが高価になり耐用年数も短くなるものであった。本
実施例の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの循環洗浄
プロセスはこのような問題点を解決するものである。以
下この殺菌用濃縮遊離塩素水の循環洗浄プロセスについ
て説明する。
【００１９】上記の吐出プロセスが終了すると制御部１
４からの吐出中止信号によって原水電磁弁７が開き、洗
浄水である原水を貯水槽１に第２所定量である５０リッ
トル程度貯水する。この時同時にインターバルタイマー
部１６にも制御部１４から計時開始信号が伝達されて計
時を開始する。このインターバルタイマー部１６は予め
設定したインターバル毎にタイムアウト信号を制御部１
４に送り、制御部１４は循環ポンプ４を発停させる。す
なわち吐出プロセス終了時点から計時開始して所定の時
間後に循環ポンプ４を起動して循環洗浄を開始し、さら
に所定時間経過後に停止して循環洗浄を終了するという
サイクルを間欠的に繰り返すものである。
４からの吐出中止信号によって原水電磁弁７が開き、洗
浄水である原水を貯水槽１に第２所定量である５０リッ
トル程度貯水する。この時同時にインターバルタイマー
部１６にも制御部１４から計時開始信号が伝達されて計
時を開始する。このインターバルタイマー部１６は予め
設定したインターバル毎にタイムアウト信号を制御部１
４に送り、制御部１４は循環ポンプ４を発停させる。す
なわち吐出プロセス終了時点から計時開始して所定の時
間後に循環ポンプ４を起動して循環洗浄を開始し、さら
に所定時間経過後に停止して循環洗浄を終了するという
サイクルを間欠的に繰り返すものである。
【００２０】すなわちインターバルタイマー部１６がＯ
Ｎになると原水は循環ポンプ４で吸引されて流路切り換
え手段６を経由して電解槽３に吐出され、さらに循環路
１５から貯水槽１に環流されてその際に残留遊離塩素を
洗浄する。流路切り換え手段６は洗浄プロセスの時には
循環路１５側を連結し、吐水路１１側を閉じている。ま
たこの洗浄プロセス中は電極Ｃ、Ｄには電圧は印加され
ない。このようにして貯水槽１、循環ポンプ４、流路切
り換え手段６、電解槽３及び循環路１５内を所定時間循
環洗浄し内部の残留遊離塩素を洗い流して貯水槽１に貯
水する。このときの循環洗浄時間は殺菌用濃縮遊離塩素
水生成システム内に不可避的に残留する濃縮遊離塩素水
の量によって適宜設定される。所定時間経過後にインタ
ーバルタイマー部１６がＯＦＦになり、循環ポンプ４が
停止して殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム内の第１回
目サイクルの循環洗浄が終了する。
Ｎになると原水は循環ポンプ４で吸引されて流路切り換
え手段６を経由して電解槽３に吐出され、さらに循環路
１５から貯水槽１に環流されてその際に残留遊離塩素を
洗浄する。流路切り換え手段６は洗浄プロセスの時には
循環路１５側を連結し、吐水路１１側を閉じている。ま
たこの洗浄プロセス中は電極Ｃ、Ｄには電圧は印加され
ない。このようにして貯水槽１、循環ポンプ４、流路切
り換え手段６、電解槽３及び循環路１５内を所定時間循
環洗浄し内部の残留遊離塩素を洗い流して貯水槽１に貯
水する。このときの循環洗浄時間は殺菌用濃縮遊離塩素
水生成システム内に不可避的に残留する濃縮遊離塩素水
の量によって適宜設定される。所定時間経過後にインタ
ーバルタイマー部１６がＯＦＦになり、循環ポンプ４が
停止して殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム内の第１回
目サイクルの循環洗浄が終了する。
【００２１】つぎに予め設定した所定時間経過後にイン
ターバルタイマー部１６がＯＮになって、循環ポンプ４
が再び貯水槽１の洗浄水を吸引し第２回目のサイクルの
循環洗浄が開始される。さらに所定時間経過後にインタ
ーバルタイマー部１６がＯＦＦになり、循環ポンプ４が
停止して殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム内の第２回
目のサイクルの循環洗浄が終了する。以上の繰り返しに
よって殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム内は常に洗浄
後の状態が保たれて、各構成部材が酸化腐食され錆が発
生するのを防ぐことができるのである。この循環洗浄の
サイクル回数は殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム内に
不可避的に残留する遊離塩素の濃度や量によって設定さ
れ、数回から十数回程度が適当である。
ターバルタイマー部１６がＯＮになって、循環ポンプ４
が再び貯水槽１の洗浄水を吸引し第２回目のサイクルの
循環洗浄が開始される。さらに所定時間経過後にインタ
ーバルタイマー部１６がＯＦＦになり、循環ポンプ４が
停止して殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム内の第２回
目のサイクルの循環洗浄が終了する。以上の繰り返しに
よって殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム内は常に洗浄
後の状態が保たれて、各構成部材が酸化腐食され錆が発
生するのを防ぐことができるのである。この循環洗浄の
サイクル回数は殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム内に
不可避的に残留する遊離塩素の濃度や量によって設定さ
れ、数回から十数回程度が適当である。
【００２２】ところで殺菌用濃縮遊離塩素水生成システ
ム及び冷却塔システムは屋外に設置する場合が多く、上
記した通り寒冷地であれば冬季に凍結することもある。
本実施例は洗浄のほか凍結防止にも寄与するもので、循
環路１５内にある水を流動させて凍結を防止するのであ
る。この場合にはインターバルタイマー部１６のインタ
ーバル設定を短くし、洗浄水の滞留時間を短くして頻繁
に循環させることが効果的である。この際凍結防止剤を
洗浄水に混合しておくことによって更に凍結防止効果を
大きくすることができる。一方殺菌用濃縮遊離塩素水生
成システム内に不可避的に残留する遊離塩素濃度が高
く、数回のサイクルの循環洗浄によって洗浄水中の遊離
塩素濃度が高くなって洗浄効果が低下したと判断される
場合には、上述の吐出プロセスと同じ動作に移り、流路
切り換え手段６の循環路１５側を閉じ、吐出路１１側を
開ることによって洗浄水を冷却塔１２に吐出すればよ
い。その後新たに原水を貯水槽１に流入させ洗浄水とし
て循環洗浄するのである。ここで洗浄効果の判断は洗浄
水中の遊離塩素濃度の測定によってなされるのが適当
で、ｐＨセンサやイオンセンサまたは電流センサ等を貯
水槽１か循環路１５などの適当なところに設け、それら
センサからの出力を制御部１４に伝達し、予め設定した
遊離塩素濃度と比較して判断すればよい。
ム及び冷却塔システムは屋外に設置する場合が多く、上
記した通り寒冷地であれば冬季に凍結することもある。
本実施例は洗浄のほか凍結防止にも寄与するもので、循
環路１５内にある水を流動させて凍結を防止するのであ
る。この場合にはインターバルタイマー部１６のインタ
ーバル設定を短くし、洗浄水の滞留時間を短くして頻繁
に循環させることが効果的である。この際凍結防止剤を
洗浄水に混合しておくことによって更に凍結防止効果を
大きくすることができる。一方殺菌用濃縮遊離塩素水生
成システム内に不可避的に残留する遊離塩素濃度が高
く、数回のサイクルの循環洗浄によって洗浄水中の遊離
塩素濃度が高くなって洗浄効果が低下したと判断される
場合には、上述の吐出プロセスと同じ動作に移り、流路
切り換え手段６の循環路１５側を閉じ、吐出路１１側を
開ることによって洗浄水を冷却塔１２に吐出すればよ
い。その後新たに原水を貯水槽１に流入させ洗浄水とし
て循環洗浄するのである。ここで洗浄効果の判断は洗浄
水中の遊離塩素濃度の測定によってなされるのが適当
で、ｐＨセンサやイオンセンサまたは電流センサ等を貯
水槽１か循環路１５などの適当なところに設け、それら
センサからの出力を制御部１４に伝達し、予め設定した
遊離塩素濃度と比較して判断すればよい。
【００２３】この実施例での冷却塔システムの冷却塔１
２は１００冷凍トンの容量を有する冷房システムを構成
するもので、約２０００リットルの冷却水中のレジオネ
ラ属菌を殺菌洗浄する場合の殺菌用濃縮遊離塩素水生成
システム及び冷却塔システムの洗浄方法について説明し
た。冷却水の量がこれ以外の場合には貯水槽１、電解槽
３及び循環ポンプ４などの容量や能力を適当に調整、変
更するだけでよく、本発明による効果にはなんら影響を
与えるものではない。
２は１００冷凍トンの容量を有する冷房システムを構成
するもので、約２０００リットルの冷却水中のレジオネ
ラ属菌を殺菌洗浄する場合の殺菌用濃縮遊離塩素水生成
システム及び冷却塔システムの洗浄方法について説明し
た。冷却水の量がこれ以外の場合には貯水槽１、電解槽
３及び循環ポンプ４などの容量や能力を適当に調整、変
更するだけでよく、本発明による効果にはなんら影響を
与えるものではない。
【００２４】また、冷却塔１２内に発生するレジオネラ
属菌を殺菌洗浄するだけでなく、加湿器、給水・給湯
器、及び装飾用噴水などの貯水部を配設した装置の各種
細菌の殺菌洗浄プロセスにおいても本発明の殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムの洗浄方法は有効なものであ
る。
属菌を殺菌洗浄するだけでなく、加湿器、給水・給湯
器、及び装飾用噴水などの貯水部を配設した装置の各種
細菌の殺菌洗浄プロセスにおいても本発明の殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムの洗浄方法は有効なものであ
る。
【００２５】
【発明の効果】以上から明らかなように本発明によれ
ば、濃縮遊離塩素水を吐出路から吐出させた後、第２所
定量の洗浄水を殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムに供
給するとともに、循環路を介して洗浄水を間欠的に循環
して洗浄するから、システム内の特別な防錆処理が不要
で、冬季の凍結を防いで、メンテナンスを容易にするこ
とができる。
ば、濃縮遊離塩素水を吐出路から吐出させた後、第２所
定量の洗浄水を殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムに供
給するとともに、循環路を介して洗浄水を間欠的に循環
して洗浄するから、システム内の特別な防錆処理が不要
で、冬季の凍結を防いで、メンテナンスを容易にするこ
とができる。
【００２６】また、貯水槽と、貯水槽と循環路によって
接続されるとともに遊離塩素水生成時に電気分解を行う
電解槽と、循環路に設けられた循環ポンプと、遊離塩素
水生成時に添加する塩化物水溶液を収容した塩化物水溶
液槽と、循環路に設けられた流路切り換え手段を介して
接続された吐出路を備えており、遊離塩素水生成時には
循環ポンプを連続的に運転するとともに、残留塩素水等
の洗浄時には循環ポンプを間欠的に運転する制御部を備
えているから、殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの運
転休止時には低濃度の残留塩素水等を貯水することがで
きる。
接続されるとともに遊離塩素水生成時に電気分解を行う
電解槽と、循環路に設けられた循環ポンプと、遊離塩素
水生成時に添加する塩化物水溶液を収容した塩化物水溶
液槽と、循環路に設けられた流路切り換え手段を介して
接続された吐出路を備えており、遊離塩素水生成時には
循環ポンプを連続的に運転するとともに、残留塩素水等
の洗浄時には循環ポンプを間欠的に運転する制御部を備
えているから、殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの運
転休止時には低濃度の残留塩素水等を貯水することがで
きる。
【００２７】また、殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム
の吐出路を冷却塔に接続しているから、冷却塔システム
の殺菌が容易にでき、メンテナンスを容易にすることが
できる。
の吐出路を冷却塔に接続しているから、冷却塔システム
の殺菌が容易にでき、メンテナンスを容易にすることが
できる。
【図１】本発明の一実施例における殺菌用濃縮遊離塩素
水生成システムとその洗浄方法及び冷却塔システムの説
明図
水生成システムとその洗浄方法及び冷却塔システムの説
明図
１ 貯水槽 ２ 塩化物水溶液槽 ３ 電解槽 ４ 循環ポンプ ５ 塩水ポンプ ６ 流路切り換え手段 ７ 原水電磁弁 ８ 流入口 ９ 高水位センサ １０ 低水位センサ １１ 吐出路 １２ 冷却塔 １３ 塩水電磁弁 １４ 制御部 １５ 循環路 １６ インターバルタイマー部
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５５０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５５０Ｈ ５６０ ５６０Ｆ 1/76 1/76 Ａ Ｆ２８Ｆ 19/01 Ｆ２８Ｆ 27/00 ５０１Ｚ 27/00 ５０１ 19/00 ５０１Ｂ (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C02F 1/46 C02F 1/50 C02F 1/76 F28F 19/01 F28F 27/00
Claims (3)
- 【請求項１】貯水槽と電解槽を循環路によって接続する
とともに、塩化物を添加した第１所定量の原水を前記循
環路を介して循環させながら前記電解槽で電気分解して
濃縮遊離塩素水を生成し、前記循環路に設けた流路切り
換え手段によって吐出路と前記循環路を選択的に接続し
て前記第１所定量のほぼ全量の濃縮遊離塩素水を吐出す
る殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄方法であっ
て、前記濃縮遊離塩素水を前記吐出路から吐出させた
後、第２所定量の洗浄水を前記殺菌用濃縮遊離塩素水生
成システムに供給するとともに、前記循環路を介して前
記洗浄水を間欠的に循環して洗浄することを特徴とする
殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄方法。 - 【請求項２】貯水槽と、前記貯水槽と循環路によって接
続されるとともに遊離塩素水生成時に電気分解を行う電
解槽と、前記循環路に設けられた循環ポンプと、遊離塩
素水生成時に添加する塩化物水溶液を収容した塩化物水
溶液槽と、前記循環路に設けられた流路切り換え手段を
介して接続された吐出路を備えており、遊離塩素水生成
時には前記循環ポンプを連続的に運転するとともに、残
留塩素水等の洗浄時には前記循環ポンプを間欠的に運転
する制御部を備えたことを特徴とする殺菌用濃縮遊離塩
素水生成システム。 - 【請求項３】請求項２記載の殺菌用濃縮遊離塩素水生成
システムの吐出路を冷却塔に接続したことを特徴とする
冷却塔システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26523594A JP3353498B2 (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムとその洗浄方法及び冷却塔システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26523594A JP3353498B2 (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムとその洗浄方法及び冷却塔システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08126889A JPH08126889A (ja) | 1996-05-21 |
| JP3353498B2 true JP3353498B2 (ja) | 2002-12-03 |
Family
ID=17414403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26523594A Expired - Fee Related JP3353498B2 (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムとその洗浄方法及び冷却塔システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3353498B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1036037B1 (en) | 1997-12-04 | 2004-02-25 | Steris Corporation | Chemical modification of electrochemically activated water |
| JP2000042553A (ja) * | 1998-08-03 | 2000-02-15 | Rakan:Kk | 冷却塔 |
| JP4982134B2 (ja) * | 2006-08-28 | 2012-07-25 | 三洋電機株式会社 | 空気調和システム |
| JP5700736B1 (ja) * | 2014-08-28 | 2015-04-15 | 株式会社日立パワーソリューションズ | 水処理装置及び水処理装置の制御方法 |
-
1994
- 1994-10-28 JP JP26523594A patent/JP3353498B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08126889A (ja) | 1996-05-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |