JP3339196B2 - 殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄方法 - Google Patents
殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄方法Info
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- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/02—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
- C02F2103/023—Water in cooling circuits
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- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、冷却水系の冷却塔など
に発生するレジオネラ属菌の殺菌に使用する殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムの洗浄方法に関するものであ
る。
に発生するレジオネラ属菌の殺菌に使用する殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムの洗浄方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、住宅環境の整備及び高級化に伴っ
て建造物の密閉度が高くなってきており、室内の空調を
快適にするため多くの努力が払われている。一方、住宅
や事務所等の高層化、集合化によって大規模空調が普及
し室内の換気や冷房にその効果を発揮している。ところ
で通常の冷房システムは冷却コイルに冷却された冷媒を
循環する冷凍機と、冷凍機に冷却水を供給する冷却塔か
ら構成されている。ここで冷却塔は熱交換機で冷媒の熱
を吸収した冷却水をその内部で給水管から滴下させ空気
と接触させて噴霧状にし、その時の気化熱によって冷却
水の熱を吸収し冷却水の温度を下げるものである。とこ
ろでこの冷却塔は室外に設置されることが多く、外気温
にさらされ、特に夏期には高温多湿の状況で運転される
ことになる。このような高温多湿では多くの細菌が繁殖
しやすく、非衛生的で環境汚染源にもなる。特に近年で
は冷却塔に発生したレジオネラ属菌によって引き起こさ
れる肺炎などの疾病の集団発生が大きな社会問題となっ
てきている。冷却塔に発生したレジオネラ属菌は冷却水
とともにエアロゾル状となって大気中に広く飛散した
り、近接して設置された空調用の外気取り入れ口から吸
入されて各室内に分散して集団的に疾病を引き起こすも
のである。これを防ぐために冷却塔内を定期的に清掃
し、冷却水を全量交換してレジオネラ属菌を洗浄除去す
る方法が広く一般的である。しかしながらこの方法は煩
雑であるのと、レジオネラ属菌の除去が十分ではなくレ
ジオネラ属菌を含んだ廃液の処分にコストがかかるとい
う問題がある。こうした問題を解決するため冷却液に酸
や過酸化水素などの薬剤を手動で添加し、レジオネラ属
菌を殺菌洗浄する方法がある。しかしながらこの方法は
酸や過酸化水素などの薬剤を直接扱うので安全上問題で
あるばかりでなく、作業が煩雑になる。さらに、酸や過
酸化水素などの薬剤保管容器を冷却塔に併設して設ける
方法がある。つまりこの方法は薬剤保管容器に薬剤注入
ポンプを設けて冷却水の流量積算信号により冷却塔に薬
剤を所定量注入し、レジオネラ属菌を殺菌洗浄しようと
するものである。
て建造物の密閉度が高くなってきており、室内の空調を
快適にするため多くの努力が払われている。一方、住宅
や事務所等の高層化、集合化によって大規模空調が普及
し室内の換気や冷房にその効果を発揮している。ところ
で通常の冷房システムは冷却コイルに冷却された冷媒を
循環する冷凍機と、冷凍機に冷却水を供給する冷却塔か
ら構成されている。ここで冷却塔は熱交換機で冷媒の熱
を吸収した冷却水をその内部で給水管から滴下させ空気
と接触させて噴霧状にし、その時の気化熱によって冷却
水の熱を吸収し冷却水の温度を下げるものである。とこ
ろでこの冷却塔は室外に設置されることが多く、外気温
にさらされ、特に夏期には高温多湿の状況で運転される
ことになる。このような高温多湿では多くの細菌が繁殖
しやすく、非衛生的で環境汚染源にもなる。特に近年で
は冷却塔に発生したレジオネラ属菌によって引き起こさ
れる肺炎などの疾病の集団発生が大きな社会問題となっ
てきている。冷却塔に発生したレジオネラ属菌は冷却水
とともにエアロゾル状となって大気中に広く飛散した
り、近接して設置された空調用の外気取り入れ口から吸
入されて各室内に分散して集団的に疾病を引き起こすも
のである。これを防ぐために冷却塔内を定期的に清掃
し、冷却水を全量交換してレジオネラ属菌を洗浄除去す
る方法が広く一般的である。しかしながらこの方法は煩
雑であるのと、レジオネラ属菌の除去が十分ではなくレ
ジオネラ属菌を含んだ廃液の処分にコストがかかるとい
う問題がある。こうした問題を解決するため冷却液に酸
や過酸化水素などの薬剤を手動で添加し、レジオネラ属
菌を殺菌洗浄する方法がある。しかしながらこの方法は
酸や過酸化水素などの薬剤を直接扱うので安全上問題で
あるばかりでなく、作業が煩雑になる。さらに、酸や過
酸化水素などの薬剤保管容器を冷却塔に併設して設ける
方法がある。つまりこの方法は薬剤保管容器に薬剤注入
ポンプを設けて冷却水の流量積算信号により冷却塔に薬
剤を所定量注入し、レジオネラ属菌を殺菌洗浄しようと
するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、薬剤保
管容器に薬剤注入ポンプを設けて冷却水の流量積算信号
により冷却塔に薬剤を所定量注入する方法は、薬剤が保
管容器を酸化腐食することから、防錆処理した保管容器
などを使用しなければならず、メンテナンスに多くの時
間を必要とし、洗浄設備の寿命が短いなどの問題があっ
た。
管容器に薬剤注入ポンプを設けて冷却水の流量積算信号
により冷却塔に薬剤を所定量注入する方法は、薬剤が保
管容器を酸化腐食することから、防錆処理した保管容器
などを使用しなければならず、メンテナンスに多くの時
間を必要とし、洗浄設備の寿命が短いなどの問題があっ
た。
【０００４】そこで本発明は、前記従来の問題点を解決
するもので、錆の発生を防止することができ、メンテナ
ンスが容易であり、洗浄後の液処理が容易な殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムの洗浄方法を提供することを目
的とするものである。
するもので、錆の発生を防止することができ、メンテナ
ンスが容易であり、洗浄後の液処理が容易な殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムの洗浄方法を提供することを目
的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄方
法は、濃縮遊離塩素水を吐出路から吐出させた後、第２
所定量の洗浄水を殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムに
供給し、循環路を介しての循環洗浄を継続した後で切り
換え手段を切り換え、第２所定量のほぼ全量の洗浄水を
吐出路から吐出させることを特徴とする。
に本発明の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄方
法は、濃縮遊離塩素水を吐出路から吐出させた後、第２
所定量の洗浄水を殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムに
供給し、循環路を介しての循環洗浄を継続した後で切り
換え手段を切り換え、第２所定量のほぼ全量の洗浄水を
吐出路から吐出させることを特徴とする。
【０００６】
【作用】本発明の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの
洗浄方法は、濃縮した殺菌用濃縮遊離塩素水を生成した
後、一度に吐出させて殺菌し、新たに第２所定量の洗浄
水を供給して循環させるから、濃縮のたび毎に十分な洗
浄をすることができる。また濃縮によって腐食が進みや
すくなったシステムを濃縮のたび毎に当初状態に回復さ
せることができる。また、循環路で循環洗浄後、吐出路
に洗浄後の洗浄水を吐出するから、洗浄液でさらに殺菌
でき、洗浄後の液処理が容易である。
洗浄方法は、濃縮した殺菌用濃縮遊離塩素水を生成した
後、一度に吐出させて殺菌し、新たに第２所定量の洗浄
水を供給して循環させるから、濃縮のたび毎に十分な洗
浄をすることができる。また濃縮によって腐食が進みや
すくなったシステムを濃縮のたび毎に当初状態に回復さ
せることができる。また、循環路で循環洗浄後、吐出路
に洗浄後の洗浄水を吐出するから、洗浄液でさらに殺菌
でき、洗浄後の液処理が容易である。
【０００７】
【実施例】以下本発明の実施例の詳細を図面に基づいて
説明する。図１は本発明の一実施例における殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システム洗浄方法の説明図である。図１
において１は原水または原水を濃縮した殺菌用濃縮遊離
塩素水を貯水する貯水槽である。この原水は遊離塩素水
を生成するためにも、また洗浄水として利用するために
も導入される。２は塩水ポンプ５で原水に塩化ナトリウ
ム等の塩素成分を含む塩化物を添加する塩化物水溶液
槽、３は電極Ｃ、Ｄを内部に設けた電解槽、４は循環路
１５に設けて原水を循環させるポンプ、６は循環路１５
を吐出路１１に接続するか、または閉鎖された循環路１
５に接続するかを選択して切り換える流路切り換え手
段、７は原水の流入量を調節する原水電磁弁、８は原水
である水道水または地下水の流入口、９は貯水槽１に設
けて原水の貯水量を検出する高水位センサ、１０は貯水
槽１に設けて原水の最低貯水量を検出する低水位セン
サ、１２は吐出路１１から吐出する殺菌用濃縮遊離塩素
水を冷却室の中に混入して殺菌される冷却塔である。低
水位センサ１０が検出するのは残留殺菌用濃縮遊離塩素
水及び洗浄水であるが、最低貯水量は低ければ低いほど
望ましい。また冷却塔１２には後記するように洗浄液も
導かれるものである。１３は塩化物水溶液の貯水槽１へ
の流入量を調節する塩水電磁弁、１４は電極Ｃ、Ｄ、ポ
ンプ４、流路切り換え手段６、原水電磁弁７及び塩水電
磁弁１３を制御して殺菌用濃縮遊離塩素水の生成および
殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄を行う制御部
である。
説明する。図１は本発明の一実施例における殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システム洗浄方法の説明図である。図１
において１は原水または原水を濃縮した殺菌用濃縮遊離
塩素水を貯水する貯水槽である。この原水は遊離塩素水
を生成するためにも、また洗浄水として利用するために
も導入される。２は塩水ポンプ５で原水に塩化ナトリウ
ム等の塩素成分を含む塩化物を添加する塩化物水溶液
槽、３は電極Ｃ、Ｄを内部に設けた電解槽、４は循環路
１５に設けて原水を循環させるポンプ、６は循環路１５
を吐出路１１に接続するか、または閉鎖された循環路１
５に接続するかを選択して切り換える流路切り換え手
段、７は原水の流入量を調節する原水電磁弁、８は原水
である水道水または地下水の流入口、９は貯水槽１に設
けて原水の貯水量を検出する高水位センサ、１０は貯水
槽１に設けて原水の最低貯水量を検出する低水位セン
サ、１２は吐出路１１から吐出する殺菌用濃縮遊離塩素
水を冷却室の中に混入して殺菌される冷却塔である。低
水位センサ１０が検出するのは残留殺菌用濃縮遊離塩素
水及び洗浄水であるが、最低貯水量は低ければ低いほど
望ましい。また冷却塔１２には後記するように洗浄液も
導かれるものである。１３は塩化物水溶液の貯水槽１へ
の流入量を調節する塩水電磁弁、１４は電極Ｃ、Ｄ、ポ
ンプ４、流路切り換え手段６、原水電磁弁７及び塩水電
磁弁１３を制御して殺菌用濃縮遊離塩素水の生成および
殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄を行う制御部
である。
【０００８】ここで貯水槽１の容量は冷却塔１２内を循
環する冷却水の量の約１／４０〜１／５０の程度が望ま
しい。この程度の容量によって遊離塩素水を短時間に生
成、濃縮でき生成システムが酸化腐食するのを抑えるこ
とができる。この実施例では冷却塔１２の冷却水を２０
００リットル、貯水槽１の容量を５０リットルとしてい
る。このとき後述する濃縮遊離塩素水生成プロセスに要
する時間は約５時間、冷却塔１２への吐出プロセス時間
は約５分、洗浄プロセスに約１時間となる。
環する冷却水の量の約１／４０〜１／５０の程度が望ま
しい。この程度の容量によって遊離塩素水を短時間に生
成、濃縮でき生成システムが酸化腐食するのを抑えるこ
とができる。この実施例では冷却塔１２の冷却水を２０
００リットル、貯水槽１の容量を５０リットルとしてい
る。このとき後述する濃縮遊離塩素水生成プロセスに要
する時間は約５時間、冷却塔１２への吐出プロセス時間
は約５分、洗浄プロセスに約１時間となる。
【０００９】ところで上記した通り殺菌洗浄は１時間程
度で終了するが、次回の冷却塔１２への吐出まで約１週
間程度の間、殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムを休止
する。したがって生成プロセス直後のできるだけ早い時
期に洗浄することが重要である。そこでまずこの殺菌用
濃縮遊離塩素水生成プロセスについて説明し、その後で
吐出プロセス、洗浄プロセスについて説明する。
度で終了するが、次回の冷却塔１２への吐出まで約１週
間程度の間、殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムを休止
する。したがって生成プロセス直後のできるだけ早い時
期に洗浄することが重要である。そこでまずこの殺菌用
濃縮遊離塩素水生成プロセスについて説明し、その後で
吐出プロセス、洗浄プロセスについて説明する。
【００１０】制御部１４からの信号で原水電磁弁７が開
かれ流入口８から原水が貯水槽１に流入する。貯水槽１
に設けた水位センサ９が所定の水位を検知すると原水電
磁弁７が閉止され、原水の供給が止められる。この実施
例の場合は貯水槽１に貯水する原水の第１所定量は５０
リットルとする。次に塩水電磁弁１３を開け塩水ポンプ
５によって塩化物水溶液槽２から１０％濃度の塩化ナト
リウム水溶液の一部をを貯水槽１の原水に添加し、約３
００ｐｐｍの塩素濃度を生成する。塩化ナトリウム水溶
液を添加された原水はポンプ４で吸引され、流路切り換
え手段６に送られる。流路切り換え手段６は例えば三方
弁など用いるのがよく、循環路１５で原水を循環してい
るときには吐出路１１に原水が吐出しないように閉じら
れている。この流路切り換え手段６を経由して循環路１
５から塩化ナトリウムを添加された原水は電解槽３に注
水される。ポンプ４は１０リットル／分の吸引容量を有
している。電解槽３に注水された原水が図示しないフロ
ースイッチの検知によって所定の水量に達すると、制御
部１４から電圧が電極Ｃ、Ｄに印加され電気分解が開始
される。電気分解によって生成された遊離塩素（Ｃ
ｌ2 、ＨＯＣｌ、ＯＣｌ - 等）を含んだ原水は、循環路
１５から貯水槽１に還流されることになる。以上のプロ
セスを１サイクルとして最初の原水に比べ遊離塩素濃度
の高くなった原水が貯水槽１に貯水される。ポンプ４は
連続的に貯水槽１の原水を電解槽３に注水し続け、電解
槽３では電極Ｃ、Ｄに連続して電圧が印加され電気分解
されていることから、貯水槽１に環流してくる原水の遊
離塩素濃度は時間経過とともに上記サイクルを繰り返す
ことで濃縮されることになる。この実施例では約５時間
の連続循環で約４０ｐｐｍ濃度の遊離塩素を含んだ濃縮
遊離塩素水５０リットルが得られ貯水槽１に貯水するこ
とができた。
かれ流入口８から原水が貯水槽１に流入する。貯水槽１
に設けた水位センサ９が所定の水位を検知すると原水電
磁弁７が閉止され、原水の供給が止められる。この実施
例の場合は貯水槽１に貯水する原水の第１所定量は５０
リットルとする。次に塩水電磁弁１３を開け塩水ポンプ
５によって塩化物水溶液槽２から１０％濃度の塩化ナト
リウム水溶液の一部をを貯水槽１の原水に添加し、約３
００ｐｐｍの塩素濃度を生成する。塩化ナトリウム水溶
液を添加された原水はポンプ４で吸引され、流路切り換
え手段６に送られる。流路切り換え手段６は例えば三方
弁など用いるのがよく、循環路１５で原水を循環してい
るときには吐出路１１に原水が吐出しないように閉じら
れている。この流路切り換え手段６を経由して循環路１
５から塩化ナトリウムを添加された原水は電解槽３に注
水される。ポンプ４は１０リットル／分の吸引容量を有
している。電解槽３に注水された原水が図示しないフロ
ースイッチの検知によって所定の水量に達すると、制御
部１４から電圧が電極Ｃ、Ｄに印加され電気分解が開始
される。電気分解によって生成された遊離塩素（Ｃ
ｌ2 、ＨＯＣｌ、ＯＣｌ - 等）を含んだ原水は、循環路
１５から貯水槽１に還流されることになる。以上のプロ
セスを１サイクルとして最初の原水に比べ遊離塩素濃度
の高くなった原水が貯水槽１に貯水される。ポンプ４は
連続的に貯水槽１の原水を電解槽３に注水し続け、電解
槽３では電極Ｃ、Ｄに連続して電圧が印加され電気分解
されていることから、貯水槽１に環流してくる原水の遊
離塩素濃度は時間経過とともに上記サイクルを繰り返す
ことで濃縮されることになる。この実施例では約５時間
の連続循環で約４０ｐｐｍ濃度の遊離塩素を含んだ濃縮
遊離塩素水５０リットルが得られ貯水槽１に貯水するこ
とができた。
【００１１】ところで電極Ｃ、Ｄに同じ電位を印加し続
けるとその表面に原水中のＣａイオンなどが付着して電
気分解を妨げるので、それを防ぐため定期的に互いに逆
の極性の電圧を印加する逆電操作が必要となる。ここで
は３０分毎に極性を交換してＣａイオンなどの付着物を
除去して電気分解能力を維持している。以上の操作によ
り約４０ｐｐｍの濃縮遊離塩素水が得られたとき殺菌用
濃縮遊離塩素水の生成プロセスを終了する。
けるとその表面に原水中のＣａイオンなどが付着して電
気分解を妨げるので、それを防ぐため定期的に互いに逆
の極性の電圧を印加する逆電操作が必要となる。ここで
は３０分毎に極性を交換してＣａイオンなどの付着物を
除去して電気分解能力を維持している。以上の操作によ
り約４０ｐｐｍの濃縮遊離塩素水が得られたとき殺菌用
濃縮遊離塩素水の生成プロセスを終了する。
【００１２】つぎに吐出プロセスについて説明する。制
御部１４からの信号によって電極Ｃ、Ｄへの電圧印加を
中止し、流路切り換え手段６の循環路１５側が閉じら
れ、吐出路１１側が開けられることによって貯水槽１に
貯水された約４０ｐｐｍ濃度の濃縮遊離塩素水５０リッ
トルは冷却塔１２に吐出され、高濃度の濃縮遊離塩素水
に瞬時に触れさせることでレジオネラ属菌を殺菌洗浄す
ることができる。この実施例の冷却塔１２は１００冷凍
トンの容量を有する冷房システムを構成するもので、約
２０００リットルの冷却水を循環している。従ってこの
冷却水に約４０ｐｐｍ濃度の濃縮遊離塩素水５０リット
ルを吐出することによって、冷却水には約１ｐｐｍ濃度
の遊離塩素が含まれることになり、レジオネラ属菌を殺
菌洗浄するのに適した濃度になるのである。レジオネラ
属菌を殺菌洗浄するのには通常０．４ｐｐｍ以上の遊離
塩素が効果的であると言われているから、殆ど完全に殺
菌することができる。生成プロセスの終了と同時に殺菌
用濃縮遊離塩素水生成システムから全量の濃縮遊離塩素
水が吐出されるのが望ましいが、貯水槽１や電解槽３内
に不可避的に残留遊離塩素水が残ることが多い。従って
生成プロセスで得られた濃縮遊離塩素水はこの残留遊離
塩素水分を除いてほぼ全量が吐出されることになる。
御部１４からの信号によって電極Ｃ、Ｄへの電圧印加を
中止し、流路切り換え手段６の循環路１５側が閉じら
れ、吐出路１１側が開けられることによって貯水槽１に
貯水された約４０ｐｐｍ濃度の濃縮遊離塩素水５０リッ
トルは冷却塔１２に吐出され、高濃度の濃縮遊離塩素水
に瞬時に触れさせることでレジオネラ属菌を殺菌洗浄す
ることができる。この実施例の冷却塔１２は１００冷凍
トンの容量を有する冷房システムを構成するもので、約
２０００リットルの冷却水を循環している。従ってこの
冷却水に約４０ｐｐｍ濃度の濃縮遊離塩素水５０リット
ルを吐出することによって、冷却水には約１ｐｐｍ濃度
の遊離塩素が含まれることになり、レジオネラ属菌を殺
菌洗浄するのに適した濃度になるのである。レジオネラ
属菌を殺菌洗浄するのには通常０．４ｐｐｍ以上の遊離
塩素が効果的であると言われているから、殆ど完全に殺
菌することができる。生成プロセスの終了と同時に殺菌
用濃縮遊離塩素水生成システムから全量の濃縮遊離塩素
水が吐出されるのが望ましいが、貯水槽１や電解槽３内
に不可避的に残留遊離塩素水が残ることが多い。従って
生成プロセスで得られた濃縮遊離塩素水はこの残留遊離
塩素水分を除いてほぼ全量が吐出されることになる。
【００１３】ところで貯水槽１、ポンプ４、流路切り換
え手段６、電解槽３及び循環路１５内には濃縮遊離塩素
水が付着残留し、これらの各部材を酸化腐食することに
なる。これを防止するために従来はこれらの各部材に特
別な防錆処理を行っていたが、システムが高価になり耐
用年数も短くなるものであった。本実施例の殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムの洗浄プロセスはこのよな問題
点を解決するものである。以下この殺菌用濃縮遊離塩素
水の洗浄プロセスについて説明する。
え手段６、電解槽３及び循環路１５内には濃縮遊離塩素
水が付着残留し、これらの各部材を酸化腐食することに
なる。これを防止するために従来はこれらの各部材に特
別な防錆処理を行っていたが、システムが高価になり耐
用年数も短くなるものであった。本実施例の殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムの洗浄プロセスはこのよな問題
点を解決するものである。以下この殺菌用濃縮遊離塩素
水の洗浄プロセスについて説明する。
【００１４】上記の生成プロセスが終了すると制御部１
４からの信号によって原水電磁弁７が開き、洗浄水であ
る原水を貯水槽１に第２所定量である５０リットル程度
貯水する。次に原水はポンプ４で吸引されて流路切り換
え手段６を経由して電解槽３に注水し循環路１５から貯
水槽１に残留遊離塩素を洗浄して還流する。このとき流
路切り換え手段６は最初の状態に戻って循環路１５側を
開け、吐出路１１側は閉じられているからである。また
この洗浄プロセス中は電極Ｃ、Ｄには電圧は印加されな
い。このようにして貯水槽１、ポンプ４、流路切り換え
手段６、電解槽３及び循環路１５内を繰り返して循環洗
浄し内部の残留遊離塩素を洗い流して貯水槽１に貯水す
る。この実施例の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム内
では上述したように不可避的に残留する約４０ｐｐｍの
濃縮遊離塩素水が約５リットル程度残留しており、新た
に洗浄水として５０リットル貯水して循環洗浄すること
によって遊離塩素が約４ｐｐｍにまで薄められた洗浄液
が貯水槽１に貯水されることになる。ここで再び流路切
り換え手段６の吐出路１１側を開け、遊離塩素が約４ｐ
ｐｍにまで薄められた洗浄液を冷却塔１２に吐出してレ
ジオネラ属菌を殺菌洗浄する。殺菌用濃縮遊離塩素水の
生成プロセスの後の吐出プロセスで吐出した濃縮遊離塩
素水に比べ遊離塩素の濃度が低いが、既に述べた通りレ
ジオネラ属菌の発生を抑えるには十分である。またこの
洗浄液は冷却塔１２内の冷却水の補充液の役割も担って
いることになる。
４からの信号によって原水電磁弁７が開き、洗浄水であ
る原水を貯水槽１に第２所定量である５０リットル程度
貯水する。次に原水はポンプ４で吸引されて流路切り換
え手段６を経由して電解槽３に注水し循環路１５から貯
水槽１に残留遊離塩素を洗浄して還流する。このとき流
路切り換え手段６は最初の状態に戻って循環路１５側を
開け、吐出路１１側は閉じられているからである。また
この洗浄プロセス中は電極Ｃ、Ｄには電圧は印加されな
い。このようにして貯水槽１、ポンプ４、流路切り換え
手段６、電解槽３及び循環路１５内を繰り返して循環洗
浄し内部の残留遊離塩素を洗い流して貯水槽１に貯水す
る。この実施例の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム内
では上述したように不可避的に残留する約４０ｐｐｍの
濃縮遊離塩素水が約５リットル程度残留しており、新た
に洗浄水として５０リットル貯水して循環洗浄すること
によって遊離塩素が約４ｐｐｍにまで薄められた洗浄液
が貯水槽１に貯水されることになる。ここで再び流路切
り換え手段６の吐出路１１側を開け、遊離塩素が約４ｐ
ｐｍにまで薄められた洗浄液を冷却塔１２に吐出してレ
ジオネラ属菌を殺菌洗浄する。殺菌用濃縮遊離塩素水の
生成プロセスの後の吐出プロセスで吐出した濃縮遊離塩
素水に比べ遊離塩素の濃度が低いが、既に述べた通りレ
ジオネラ属菌の発生を抑えるには十分である。またこの
洗浄液は冷却塔１２内の冷却水の補充液の役割も担って
いることになる。
【００１５】貯水槽１の洗浄水をほぼ全量吐出して後に
再び原水を貯水槽１に貯水しポンプ４によって殺菌用濃
縮遊離塩素水生成システム内を繰り返し循環洗浄するの
もよい。これらの洗浄プロセスに要する時間は約１時間
程度で十分である。こうして貯水槽１に貯水される洗浄
水の遊離塩素の濃度は約０．４ｐｐｍ程度にまで薄めら
れ通常の水道水の含有量の変動範囲にまでになる。この
濃度では殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム内の各部材
が酸化腐食される速度が非常に遅くなっており、実用上
特別な防錆処理を施す必要がない。また次の濃縮遊離塩
素水の生成プロセス開始まで約一週間程度の期間が空く
ことの多いこの殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムにお
いては、この０．４ｐｐｍ程度の洗浄水を貯水しておけ
ば一般細菌等が繁殖することを防ぐことができる。約一
週間程度経過後に濃縮遊離塩素水の生成プロセスを再開
する場合には、この貯水した０．４ｐｐｍ程度の洗浄水
をそのまま原水として用い、制御部１４に接続された濃
度検知センサで塩素の濃度を検出し、約３００ｐｐｍの
塩素濃度になるように塩化物水溶液槽２の塩化ナトリウ
ム水溶液を適当量添加して電気分解すればよく、新たに
原水を給水して貯水槽１の洗浄水を置換する必要がな
い。この実施例での冷却塔１２は１００冷凍トンの容量
を有する冷房システムを構成するもので、約２０００リ
ットルの冷却水中のレジオネラ属菌を殺菌洗浄する場合
の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄方法につい
て説明した。冷却水の量がこれ以外の場合には貯水槽
１、電解槽３及びポンプ４などの容量や能力を適当に調
整、変更するだけでよく、本発明による効果にはなんら
影響を与えるものではない。
再び原水を貯水槽１に貯水しポンプ４によって殺菌用濃
縮遊離塩素水生成システム内を繰り返し循環洗浄するの
もよい。これらの洗浄プロセスに要する時間は約１時間
程度で十分である。こうして貯水槽１に貯水される洗浄
水の遊離塩素の濃度は約０．４ｐｐｍ程度にまで薄めら
れ通常の水道水の含有量の変動範囲にまでになる。この
濃度では殺菌用濃縮遊離塩素水生成システム内の各部材
が酸化腐食される速度が非常に遅くなっており、実用上
特別な防錆処理を施す必要がない。また次の濃縮遊離塩
素水の生成プロセス開始まで約一週間程度の期間が空く
ことの多いこの殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムにお
いては、この０．４ｐｐｍ程度の洗浄水を貯水しておけ
ば一般細菌等が繁殖することを防ぐことができる。約一
週間程度経過後に濃縮遊離塩素水の生成プロセスを再開
する場合には、この貯水した０．４ｐｐｍ程度の洗浄水
をそのまま原水として用い、制御部１４に接続された濃
度検知センサで塩素の濃度を検出し、約３００ｐｐｍの
塩素濃度になるように塩化物水溶液槽２の塩化ナトリウ
ム水溶液を適当量添加して電気分解すればよく、新たに
原水を給水して貯水槽１の洗浄水を置換する必要がな
い。この実施例での冷却塔１２は１００冷凍トンの容量
を有する冷房システムを構成するもので、約２０００リ
ットルの冷却水中のレジオネラ属菌を殺菌洗浄する場合
の殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄方法につい
て説明した。冷却水の量がこれ以外の場合には貯水槽
１、電解槽３及びポンプ４などの容量や能力を適当に調
整、変更するだけでよく、本発明による効果にはなんら
影響を与えるものではない。
【００１６】また、冷却塔１２内に発生するレジオネラ
属菌を殺菌洗浄するだけでなく、加湿器、給水・給湯
器、及び装飾用噴水などの貯水部を配設した装置の各種
細菌の殺菌洗浄プロセスにおいても本発明の殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムの洗浄方法は有効なものであ
る。
属菌を殺菌洗浄するだけでなく、加湿器、給水・給湯
器、及び装飾用噴水などの貯水部を配設した装置の各種
細菌の殺菌洗浄プロセスにおいても本発明の殺菌用濃縮
遊離塩素水生成システムの洗浄方法は有効なものであ
る。
【００１７】
【発明の効果】以上から明らかなように本発明によれ
ば、濃縮した殺菌用濃縮遊離塩素水を生成した後、一度
に吐出させて殺菌し、新たに第２所定量の洗浄水を供給
して循環させるから、システム内の特別な防錆処理が不
要で、メンテナンスが容易であり、吐出路に洗浄後の洗
浄水を吐出するから、洗浄液でさらに殺菌でき、洗浄後
の液処理が容易である。
ば、濃縮した殺菌用濃縮遊離塩素水を生成した後、一度
に吐出させて殺菌し、新たに第２所定量の洗浄水を供給
して循環させるから、システム内の特別な防錆処理が不
要で、メンテナンスが容易であり、吐出路に洗浄後の洗
浄水を吐出するから、洗浄液でさらに殺菌でき、洗浄後
の液処理が容易である。
【図１】本発明の一実施例における殺菌用濃縮遊離塩素
水生成システム洗浄方法の説明図
水生成システム洗浄方法の説明図
１ 貯水槽 ２ 塩化物水溶液槽 ３ 電解槽 ４ ポンプ ５ 塩水ポンプ ６ 流路切り換え手段 ７ 原水電磁弁 ８ 流入口 ９ 水位センサ １０ 低水位センサ １１ 吐出路 １２ 冷却塔 １３ 塩水電磁弁 １４ 制御部 １５ 循環路
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５３１ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５３１Ｎ ５４０ ５４０Ｂ ５５０ ５５０Ｄ ５５０Ｌ ５６０ ５６０Ｆ 1/76 1/76 Ａ (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C25B 1/00 - 15/08 C02F 1/50 C02F 1/76
Claims (1)
- 【請求項１】 貯水槽と電解槽を循環路によって接続す
るとともに、塩化物を添加した第１所定量の原水を前記
循環路を介して循環させながら前記電解槽で電気分解し
て濃縮遊離塩素水を生成し、前記循環路に設けた流路切
り換え手段によって吐出路と前記循環路を選択的に接続
して前記第１所定量のほぼ全量の濃縮遊離塩素水を吐出
先に吐出する殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄
方法であって、前記濃縮遊離塩素水を前記吐出路から吐
出させた後、第２所定量の洗浄水を前記殺菌用濃縮遊離
塩素水生成システムに供給し、前記循環路を介しての循
環洗浄を継続した後で前記切り換え手段を切り換え、前
記第２所定量のほぼ全量の洗浄水を吐出先に吐出路から
吐出させることを特徴とする殺菌用濃縮遊離塩素水生成
システムの洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22335894A JP3339196B2 (ja) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | 殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22335894A JP3339196B2 (ja) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | 殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0885891A JPH0885891A (ja) | 1996-04-02 |
| JP3339196B2 true JP3339196B2 (ja) | 2002-10-28 |
Family
ID=16796907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22335894A Expired - Fee Related JP3339196B2 (ja) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | 殺菌用濃縮遊離塩素水生成システムの洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3339196B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69821973T2 (de) | 1997-12-04 | 2004-11-11 | Steris Corp., Mentor | Chemische änderung von elektrochemisch aktiviertem wasser |
| DE10201089A1 (de) * | 2002-01-14 | 2003-07-31 | P & W Invest Vermoegensverwalt | Verfahren zum Entkeimen und Reinigen von wasserführenden Systemen, insbesondere in Schwimm- und Badebeckenanlagen, und Vorrichtung für dessen Durchführung |
-
1994
- 1994-09-19 JP JP22335894A patent/JP3339196B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0885891A (ja) | 1996-04-02 |
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