JP2003334416A - 可溶性ガス成分の除去装置及びその運転方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 気液接触によって可溶性ガス成分を除去する
にあたり，除去性能を従来より向上させる。 【解決手段】 チャンバ２内に，第１の気液接触部３と
第２の気液接触部４とが直列に配置されている。第１の
気液接触部３と第２の気液接触部４で各々気液接触させ
た後の吸収液は各々ピット５，６によって独立して回収
され，独立した循環系配管３１，３３によって，対応す
るスプレーノズル１１，１２に供給される。外部からの
補給水は，電解水製造装置４１によって酸性水とアルカ
リ水とに分離され，一方はピット５に，他方はピット６
に補給される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，気体中の可溶性ガ
ス成分を除去する除去装置及びその運転方法に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】気中不純物除去装置は，高い清浄度が要
求されるクリーンルームの外気供給系に使われており，
特許第３１７９７００号において開示されたような装置
がよく知られている。これら気液接触により気中の可溶
性ガス成分を除去する装置では，吸収液中での生物体の
発生によるメンテナンス頻度の増大を抑制するために，
一般に生物体の栄養源となる溶解物質が排除された純水
が補給水として使用されている。そのため気中のガス成
分及び濃度によっては，吸収液のｐＨ値が酸性側あるい
はアルカリ性側への偏りが生じやすく，安定したガス除
去性能が得られないという欠点がある。

【０００３】一方，このようなガス除去性能の劣化対策
として，ｐＨ調整剤を投入することで吸収液のｐＨ値を
制御する方法（特開平１０−３０９４３２）や過剰な極
性のイオン成分を選択的に除去することで吸収液のｐＨ
値を制御する方法（特開２０００−７９３１９）が提案
され一部で実施されている。そして特開２０００−７９
３１９に開示されたｐＨ制御方法は，ｐＨ値を全く制御
しない従来方式に比べて，ガス除去性能を１０〜３０％
も改善できその有効性が確認されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら，１つの
除去装置で酸性およびアルカリ性のガスを同時に除去す
る特開２０００−７９３１９の方式には除去性能に限界
があり，年間平均除去率が８０％までであり，さらなる
向上が望まれるところである。また，気中のガス濃度が
一方の極性の方のみ１０倍以上高くなった場合は，最適
なｐＨ値に制御できなくなり，除去性能が７０％以下に
低下するという点もあった，さらに，気中可溶性成分が
吸収液に溶解することで，一般水補給時ほどではないが
吸収液中に細菌などの生物体が発生し，吸収液循環配管
系のフィルタの目詰まりを早めてしまう可能性もあり，
この点改善の余地があった。

【０００５】本発明は，かかる点に鑑みてなされたもの
であり，年間を通じて例えば８０％以上の高い除去性能
を維持し，かつ細菌などの生物体を防止する可溶性ガス
成分の除去装置，並びにその運転方法を提供することを
目的としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め，本発明の可溶性ガス成の除去装置は，可溶性ガス成
分を含む気体が流通する流路と，前記流路に配置された
第１の気液接触部と，当該第１の気液接触部の下流側に
配置された第２の気液接触部と，第１の気液接触部と第
２の気液接触部で各々気液接触させた後の吸収液を各々
独立して回収して，再び第１の気液接触部と第２の気液
接触部に独立して供給する吸収液の循環系とを有し，外
部から供給する補給水から酸性水とアルカリ水とを生成
し，生成した酸性水を一方の気液接触部の吸収液の循環
系に補給し，生成したアルカリ水を他方の気液接触部の
吸収液の循環系に補給するようにしたことを特徴として
いる。

【０００７】かかる構成を有する本発明によれば，外部
から供給する補給水から酸性水とアルカリ水とを生成
し，生成した酸性水を一方の気液接触部の吸収液の循環
系に補給し，生成したアルカリ水を他方の気液接触部の
吸収液の循環系に補給するようにしたので，例えば第１
の気液接触部の循環系にアルカリ水を補給し，第２の気
液接触部の循環系に酸性水を補給すると，上流側では気
中の酸性成分のガスを高効率で除去でき，下流側ではア
ルカリ性のガスを高効率で除去できる。したがって，例
えば年間を通じて例えば８０％以上の高い除去性能を維
持することも可能である。

【０００８】しかも各気液接触部内で循環する吸収液の
ｐＨ値は，それぞれｐＨ８以上，ｐＨ５以下に常に維持
することもできるから，多くの生物体の繁殖域であるｐ
Ｈ５〜８にはならず，したがって生物体発生の発生を防
止できる。その結果メンテナンス頻度の上昇も抑えるこ
とができる。また，従来のように，コストのかかる純水
の製造も必要ないので，運転コストの大幅な削減も可能
である。

【０００９】前記補給水からの酸性水とアルカリ水の生
成は，電気分解を利用した電解水製造装置（例えば，出
願人が先に開示した特開２００１−１０４７３９）で行
われてもよく，またイオン交換カートリッジを用いても
よい。その場合，前記補給水の導入経路を分割して，一
方はアニオンのみを除去するイオン交換カートリッジに
通水させ，他方はカチオンのみを除去するイオン交換カ
ートリッジに通水させて，酸性水とアルカリ水が生成さ
れるようにしてもよい。またアニオンのみを除去するイ
オン交換カートリッジの下流側と，カチオンのみを除去
するイオン交換カートリッジの下流側に，各々ｐＨセン
サを配置すれば，イオン交換カートリッジの寿命を事前
に知ることができる。

【００１０】前記した発明は，補給水から酸性水とアル
カリ水を生成していたが，第１の気液接触部と第２の気
液接触部で各々気液接触させた後の吸収液を一緒に回収
し，回収した吸収液から酸性水とアルカリ水を生成し
て，生成した酸性水を一方の気液接触部に供給し，生成
したアルカリ水を他方の気液接触部に供給する吸収液の
循環系を有する構成としてもよい。

【００１１】この場合には，外部から補給水を補給する
必要はなく，全て吸収液を回収した循環系でまかなうこ
とができ，装置や配管系を簡素化することができ，しか
もポンプなどの機器数を必要最小限に抑えることができ
る。この場合も回収した吸収液からの酸性水とアルカリ
水の生成は，電気分解を利用した電解水製造装置で行っ
てもよい。

【００１２】本発明で使用される吸収液は，水が適して
いるが，水の中でも市水，井水，工水，中水などの一般
水はイオン成分が純水よりはるかに高濃度であり，原水
中の両極性のイオン（正イオン＝カチオンと負イオン＝
アニオン）を，カチオン成分だけの水とアニオン成分だ
けの水，あるいはカチオン成分がリッチな水とアニオン
成分がリッチな水に分離して，酸性水（アニオン過剰の
水）とアルカリ水（カチオン過剰の水）を製造すること
が容易である。したがって，吸収液となる補給水には，
これら一般水や，純水を製造する際に排出される濃縮イ
オン水を用いることが適しており，またコスト面でも有
利である。

【００１３】ところで，電解水製造装置を使用する場
合，電界印加極性を同じままで長期間使用すると，片方
の電極側あるいは膜側にスケールが蓄積し，これが絶縁
抵抗体となり次第に電解水製造能力が低下するという不
具合が発生する。したがって，電解水製造装置での極性
を適当な時間的な間隔で変更する，すなわち電界印加極
性を逆転させれば，そのような不具合を防止することが
できる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下に，本発明の好ましい実施の
形態を図面に基いて説明する。図１は，第１の実施の形
態にかかる除去装置１の構成の概略を示している。この
除去装置１は，クリーンルーム（図示せず）の外気導入
系に設置した例である。

【００１５】この除去装置１は，空気の流路を構成する
チャンバ２内に，処理空気の流れと直角方向に配置され
た上流側の第１の気液接触部３と，第２の気液接触部４
とを有している。第１の気液接触部３，第２の気液接触
部４は，所定の気液接触効率が得られるものであれば特
に構造等は限定されない。本実施の形態では，水加湿器
として従来から使用されている親水性素材から構成され
るハニカム構造体が用いられている。

【００１６】第１の気液接触部３の上方にはスプレーノ
ズル１１が，第２の気液接触部４の上方にはスプレーノ
ズル１２が各々配置され，各ノズルに供給される吸収液
を各々の対応する気液接触部の上部に対して噴霧するよ
うになっている。

【００１７】チャンバ２内における第１の気液接触部
３，第２の気液接触部４の下方には，第１の気液接触部
３，第２の気液接触部４から落下する吸収液を各々受水
して回収するためのタンクとしてピット５，６が設けら
れている。本実施の形態では，単一のピットを仕切板７
で仕切って，第１の気液接触部３，第２の気液接触部４
から落下する吸収液を独立して回収するようになってい
る。

【００１８】ピット５の底部には排水管２１が接続さ
れ，ポンプ２２によって排水される。排水量はバルブ２
３によって制御される。ピット６の底部にも排水管２４
が接続され，ポンプ２５によって排水される。排水量は
バルブ２６によって制御される。ピット５，６からの排
水は，通常連続排水される。排水量は，処理する空気中
の不純物濃度範囲によって決定され，通常，処理空気質
量に対して１／１０００〜１／５０の範囲で設定され
る。

【００１９】排水管２１におけるバルブ２３の上流側に
は，循環系配管３３が接続され，バルブ３４を開放し
て，ピット５からの排水をスプレーノズル１１に対して
供給できるようになっている。これによって第１の気液
接触部３の吸収液の循環系が構成される。排水管２４に
おけるバルブ２６の上流側には，循環系配管３１が接続
され，バルブ３２を開放して，ピット６からの排水をス
プレーノズル１２に対して供給できるようになってい
る。これによって第２の気液接触部３４吸収液の循環系
が構成される。スプレーノズル１１，１２からの噴霧水
量は，前記バルブ３４，３２で各々所定流量に調整され
る。

【００２０】循環系配管３１，３３を通じて循環する循
環水量は，第１の気液接触部３，第２の気液接触部４の
構造等によって異なり，通常，処理空気質量に対して１
／１００〜１．５の範囲で設定される。そしスプレーノ
ズル１１，１２からの噴霧によって第１の気液接触部
３，第２の気液接触部４の上部に循環水は給水され，常
に第１の気液接触部３，第２の気液接触部４において濡
れ面を維持すると共に，ガスを吸収した循環水（すなわ
ち，吸収液）はピット５，６に各々独立して回収され
る。

【００２１】なお循環水の気液接触部への給水方法は，
前記したように第１の気液接触部３，第２の気液接触部
４の上部に配置したスプレーノズル１１，１２からの噴
霧による方法に限らず，例えば第１の気液接触部３，第
２の気液接触部４の上部に循環水を滴下するように適宜
の給水管を第１の気液接触部３，第２の気液接触部４の
上部に設けてもよく，その他，例えば第１の気液接触部
３，第２の気液接触部４の各上流側にスプレーノズルを
配置して，第１の気液接触部３，第２の気液接触部の各
上流側の面に対して噴霧するようにしてもよい。また各
気液接触部の下流側にスプレーノズルを配置して気流と
対向して噴霧し，各気液接触部の下流側を濡らしてもよ
い。

【００２２】ピット５，６への補給水は，電解水製造装
置４１で製造されたイオン水が充てられる。すなわち，
ピット５には，電解水製造装置４１で製造されたアルカ
リ性イオン（カチオン）が選択的に濃縮されたアルカリ
水が，補給管４２を通じて供給され，ピット６には逆の
酸性イオン成分（アニオン）が選択的に濃縮された酸性
水が，補給管４３を通じて供給される。

【００２３】そのような補給水の供給は，各ピット５，
６の水位が常に一定となるように自動給水される。本実
施の形態では，ピット５，６内に各々設置されたフロー
ト４４，４５を利用したバルブ（ボールタップ）によっ
て補給管４２，４３からの供給が制御されている。もち
ろんピット内の水位に基づいて適宜の流量制御できるも
のであれば，かかる機構に限られない。補給水量は，排
水量＋気液接触処理時の蒸発分である。

【００２４】電解水製造装置４１に供給される補給水と
しては，市水や井水，工水，中水（排水を浄化処理した
水）又は，純水プラントにおいて純水を製造する時に排
水される濃縮イオン水など，容易にかつ安価に入手でき
る水を用いる。本実施の形態では市水（上水）を用いて
いる。

【００２５】第１の実施の形態にかかる除去装置１は，
以上の構成を有しており，次にその作用について説明す
ると，まずポンプ２２を作動させてピット５内の循環水
をスプレーノズル１１に供給し，上流側に位置する第１
の気液接触部３に噴霧し，またポンプ２５を作動させて
ピット６内の循環水をスプレーノズル１２に供給し，下
流側に位置する第２の気液接触部４に噴霧させる。これ
によって，上流側の第１の気液接触部３においては，そ
の表面がカチオン成分リッチなアルカリ水によって濡れ
た状態となっており，一方，下流側の第２の気液接触部
４においては，その表面がアニオン成分リッチな酸性水
によって濡れた状態となっている。

【００２６】そして処理空気が第１の気液接触部３を通
過する際に，処理空気中の酸性ガス成分は高効率で除去
される。ただしこの段階では，アルカリ性ガス成分はあ
まり除去されない。次いで処理空気が第２の気液接触部
４を通過する際に，処理空気中のアルカリ性ガス成分は
高効率で除去される。このような２段の処理により，処
理空気中の酸性及びアルカリ性ガス共に，高効率に除去
された清浄な空気が生成されクリーンルームに清浄な新
鮮空気として給気されるのである。

【００２７】次に，前記除去装置１の連続運転時におけ
る電解水製造装置４１のメンテナンス軽減手段について
説明する。電解水製造装置４１の電界印加極性を同じま
まで長期間使用すると，片方の電極側あるいは膜側にス
ケールが蓄積し，これが絶縁抵抗体となり次第に電解水
製造能力が低下するという不具合が発生する。このよう
な劣化の防止手段として，例えば電界印加極性をある時
間的な間隔で逆転させる方法が提案できる。すなわち，
電解水製造装置４１における極性を適宜間隔で逆転さ
せ，ピット５にはアニオン成分リッチな酸性水を供給
し，ピット６にはカチオン成分リッチなアルカリ性水を
供給するのである。

【００２８】極性を変える時間的な間隔は，印加電圧と
補給水の水質に大きく依存する。スケール成分の多い井
水などでは２日以内，スケール成分の少ない雨水では２
週間以内，といったように，水の種類に応じた最適値を
選択する。なお，極性が変わった直後は一時的に，酸性
側およびアルカリ性側共に中性域となり，除去性能は従
来技術並になるが，１０〜数十分程度の時間であれば特
に大きな問題とはならない。

【００２９】次に，酸性及びアルカリ性ガス濃度を所定
の濃度に調整した空気を実際に処理したときの除去性能
結果を，図２に示したｐＨ制御機能付きの除去装置１０
１の結果と共に図３の表に示す。

【００３０】図２の除去装置１０１は発明者が開発し実
用化したものであり，チャンバ２２内には，気液接触部
１０３が配置され，その下方にピット１０４が設けられ
ている。ピット１０４の回収水は一部は排水管１０５に
よって排水され，一部は循環系配管１０６を通じてポン
プ１０７によってスプレーノズル１０８に供給される。
補給水は補給管１０９によって循環系配管１０６に補給
される。循環系配管１０６には，ｐＨ調整用の配管１１
０，１１１が並列に配管されており，配管１１０には，
カチオン用イオン交換カートリッジ１１２が設けられて
いる。配管１１１には，アニオン用イオン交換カートリ
ッジ１１３が設けられている。ピット１０４には，回収
した水のｐＨを測定するｐＨセンサ１１４が設けられ，
その測定値に基づいて，補給管１０９のバルブ１２１，
配管１１０のバルブ１２２，配管１１１のバルブ１２３
の開閉を，ｐＨ制御ユニットがコントロールするように
なっている。すなわち，ピット１０４内の回収水がアル
カリ性に偏った場合には，配管１１０のバルブ１２２を
閉鎖して配管１１１のバルブを開放してアニオン成分リ
ッチな酸性水をスプレーノズル１０８に供給して，アル
カリ成分の除去性能の低下を補償するように構成された
ものである。

【００３１】なお本実施の形態にかかる除去装置１と図
２の除去装置１との評価比較においては，アルカリ性ガ
スとしてアンモニアガス（ＮＨ_３），酸性ガスとして二
酸化硫黄ガス（ＳＯ_２）を上流空気中に所定量添加し
て，対象処理空気としている。

【００３２】図３の表からわかるように，図２の従前の
技術でのアルカリ性ガス及び酸性ガスの除去率に対し
て，本実施例での除去率が飛躍的に改善していることが
実証された。アルカリ性ガスにおいては８０．７％から
９３．３％と約１３％改善，酸性ガスにおいては７０％
から９２．５％と約２３％も改善した。本実施の形態で
の，各気液接触分での除去率を見ると，期待される結果
が得られている。つまり，アルカリ水が補給されている
上流側（第１の気液接触部３）においては酸性ガスの除
去率が，酸性水が給水されている下流側（第２の気液接
触部４）においては，アルカリ性ガスの除去率がそれぞ
れ極めて高くなっている。

【００３３】１ヶ月の長期連続運転により，細菌類の発
生状況を評価した結果，実施の形態にかかる除去装置１
では，循環水中の菌数が常時１０３個／ｃｃ以下であっ
た。また循環水系内の目視評価でも，ピット内壁面上な
どに「ぬめり」等は全く確認されなかった。一方，図２
に示した除去装置１０１においては，一般水を補給水に
使用した場合は，水中の菌数は１０４〜１０５個／ｃ
ｃ，「ぬめり」も１週間ほどで確認できるほどに蓄積す
ることが知見できた。このように，防菌に対しても本発
明の技術の有効性が確認できた。

【００３４】次に第２の実施の形態にかかる除去装置を
図４に基づいて説明する。この第２の実施の形態にかか
る除去装置５１は，チャンバ２内において第１の気液接
触部３，第２の気液接触部４の下方に設置する回収用の
ピット５２を単一のものとし，排水管５３も１つの系統
として，排水管５３の吸い込み口となる開口面５３をピ
ット５２内の所定位置に設定して，これによってピット
５２内の水位が一定となるように制御される。そして排
水管５３とは別に，ピット５２と電解水製造装置４１と
の間には，配管５４が接続されている。そしてこの配管
５４に補給水を補給する補給管５５が接続されている。
電解水製造装置４１にはポンプ５６によってピット５２
内の回収水が送られる。

【００３５】そして電解水製造装置４１の出口側には，
陽極側，陰極側に各々独立した供給管５７，５８が接続
され，供給管５７から供給されるカチオン成分リッチな
アルカリ性水は，スプレーノズル５９を介して，上流側
に位置する第１の気液接触部３の上流側面に対して噴霧
される。一方，供給管５８から供給されるアニオン成分
リッチな酸性水は，スプレーノズル６０を介して，下流
側に位置する第２の気液接触部４の上流側面に対して噴
霧されるようになっている。したがって，この除去装置
５１では，循環系に電解水製造装置４１が介在した構成
を有し，かつ補給水を電解水製造装置４１の上流側に導
入することで，循環水と補給水を同時に処理するように
なっている。なお配管５４にはバルブ６１が設けられ，
補給管５５にはバルブ６２が設けられている。

【００３６】この第２の実施の形態にかかる除去装置５
１においても，先の実施の形態にかかる除去装置１と同
様，処理空気が第１の気液接触部３を通過する際に，処
理空気中の酸性ガス成分は高効率で除去され，次いで処
理空気が第２の気液接触部４を通過する際に，処理空気
中のアルカリ性ガス成分は高効率で除去される。そして
第２の実施の形態にかかる除去装置５１によれば，電解
水製造装置４１を循環配管系に設けたので，ポンプを１
台に，給水配管を１箇所に削減することができ，さらに
また循環配管も簡素化できる。

【００３７】この第２の実施の形態にかかる除去装置５
１においても，第１の実施の形態にかかる除去装置１と
同様，電解水製造装置４１の極性を変えて運転すること
も可能であるが，極性を変化させた後の性能について
は，第１の実施の形態にかかる除去装置１よりも優れて
いる。すなわち第２の実施の形態にかかる除去装置５１
では，電解水製造装置４１の極性を変えた直後から噴霧
水のｐＨ値はアルカリ水から酸性水に，酸性水からアル
カリ水に変わるので，ほんの数分で第１の気液接触部
３，第２の気液接触部４におけるガス除去部のｐＨ値も
追従する。したがって，この点において，第１の実施の
形態にかかる除去装置１よりも短時間で所期の除去効率
を達成できる。

【００３８】次に第３の実施の形態にかかる除去装置を
図５に基づいて説明する。この第３の実施の形態にかか
る除去装置７１は，アルカリ水および酸性水の製造方法
が先の実施の形態の除去装置１，５１とは異なってい
る。すなわちこの第３の実施の形態にかかる除去装置７
１では，ピット５に補給水を供給する補給管４２にｐＨ
センサ７２とその上流側にアニオン除去用イオン交換カ
ートリッジ７３を設け，ピット６に補給水を供給する補
給管４３にｐＨセンサ７４とその上流側にカチオン除去
用イオン交換カートリッジ７５を設けている。そして各
ｐＨセンサ７２，７４からの測定値は，ｐＨ監視装置７
６に出力される。

【００３９】かかる構成の第３の実施の形態にかかる除
去装置７１によれば，アニオン除去用イオン交換カート
リッジ７３，カチオン除去用イオン交換カートリッジ７
５を通過することで，それぞれアルカリ水と酸性水を得
ることができ，前記した核実施の形態と同様，第１の気
液接触部３で酸性ガス成分を除去し，次段の第２の気液
接触部４でアルカリ性ガス成分を除去することができ
る。また電解水製造装置を用いていないので，同極性の
連続使用に起因する問題等も生じない。なお循環水およ
び排水等の運転条件，および補給水水質は先の実施の形
態と同様である。

【００４０】ただし，イオン交換カートリッジの寿命に
よる交換が必要となるが，第３の実施の形態にかかる除
去装置７１では，個々のカートリッジ下流の処理水のｐ
Ｈ値ｐＨセンサ７２，７４によって測定しており，その
結果がｐＨ監視装置７６で確認できる。したがって，例
えば，アニオン除去用イオン交換カートリッジ７３の下
流では，寿命前の処理水ｐＨ値は８〜９以上であること
から，例えばｐＨ値が８．５以下になった場合に交換警
報を発報するようにしておけば，事前にカートリッジの
交換時期を知ることができ，常に所定のアルカリ水を得
ることができる。他方，カチオン除去用カートリッジ７
５についても，例えば，ｐＨ値が５以上になった場合に
交換警報を発報するように設定しておけば，常に所定の
酸性水を得ることができる。

【００４１】なお発明者らが第３の実施の形態にかかる
除去装置７１を使用してガス除去性能を検証したとこ
ろ，ＮＨ_３ガスでは９４％，ＳＯ_２ガスでは９３．５％
の除去性能が得られた。このように，第１の実施の形態
にかかる除去装置１よりもさらに除去性能が向上した理
由は，イオン交換カートリッジにより得られるアルカリ
水および酸性水のｐＨ値が，各々第１の実施の形態にか
かる除去装置１より，強アルカリ水側および強酸性側に
なるためである。

【００４２】次に，図２に示したｐＨ制御機能のある除
去装置１０１とのコスト比較結果（試算結果）を表２に
示す。平均的なＬＳＩ量産工場（クリーンルーム面積１
００００ｍ^２）の外気処理系に適用した場合を仮定して
試算した。この場合処理風量を３０００００ｍ^３／ｈ，
原水費には使用後の排水を原水レベルまで再生する費用
だけを考慮して５０円／ｍ^３とした。現在，多くの工場
では水はリサイクル率８０〜９０％になっているためこ
のように安価で済む。

【００４３】イニシャルコストは，第１の実施の形態に
かかる除去装置１ではｐＨ制御が不要な分，減額する
が，気液接触部を２倍およびポンプが２台となる分増額
となり合計では若干高くなる。一方，第３の実施の形態
にかかる除去装置７１では，第１の実施の形態にかかる
除去装置１以上に高くなる。

【００４４】一方，ランニングコストについてみれば，
両者とも大幅に削減でき，電解水製造装置４１を利用し
た第１の実施の形態にかかる除去装置１では１／６，カ
ートリッジ法を利用した第３の実施の形態にかかる除去
装置７１では１／３のランニングコストになる。従っ
て，イニシャルコスト増額分は，第１の実施の形態にか
かる除去装置１では半年，第３の実施の形態にかかる除
去装置７１でも１年半で償却できることになる。

【００４５】さらに，このランニングコスト差の大部分
は純水製造に関するものであり，純水製造には多くの電
力を要することから，本発明を用いれば，二酸化炭素の
大幅な削減にもなり，環境保全に対しても貢献できるも
のである。

【００４６】なお前記各実施の形態はいずれも，第１の
気液接触部３，第２の気液接触部４を空気流路を構成す
るチャンバ内で直列二段に配置したものであったが，本
発明では，気液接触部を３段以上設置してもよく，少な
くとも２段が各々アルカリ性ガス除去，酸性ガス除去と
して機能していれば，付加する気液接触部はいずれの機
能を採用しても良く，したがって付加する当該気液接触
部に補給する補給水の水質は特に限定する必然性はな
い。

【００４７】

【発明の効果】本発明によれば，可溶性の酸性ガス成分
およびアルカリ性ガス成分の除去性能を従来より改善す
ることができる。しかも生物体の発生を防止して，その
分清掃等のメンテナンス頻度の大幅な削減が達成でき
る。さらに補給水として一般水が使用でき，大幅なコス
ト削減および省エネが達成できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態にかかる除去装置の
構成の概略を示す説明図である。

【図２】第１の実施の形態にかかる除去装置との効果を
比較するための除去装置の構成の概略を示す説明図であ
る。

【図３】第１の実施の形態にかかる除去装置と図２の除
去装置との除去効率を比較した結果を示す図表である。

【図４】本発明の第２の実施の形態にかかる除去装置の
構成の概略を示す説明図である。

【図５】本発明の第３の実施の形態にかかる除去装置の
構成の概略を示す説明図である。

【図６】本発明の除去装置と図２の除去装置とのコスト
を比較した図表である。

【符号の説明】

１，５１，７１ 除去装置 ２ チャンバ ３ 第１の気液接触部 ４ 第２の気液接触部 ５，６ ピット １１，１２ スプレーノズル ２１，２４ 排水管 ２２，２５ ポンプ ３１，３３ 循環系配管 ４１ 電解水製造装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D020 AA06 AA10 BA23 BA30 BB03 BC03 CB08 CB25 CC02 CC30 DA02 DB08 4D025 AA01 AA04 AA10 BA24 CA03 4D061 DA01 DA10 DB07 EA01

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 気体中に含まれる可溶性ガス成分を，吸
   収液との気液接触によって除去する装置であって，可溶
   性ガス成分を含む気体が流通する流路と，前記流路に配
   置された第１の気液接触部と，当該第１の気液接触部の
   下流側に配置された第２の気液接触部と，第１の気液接
   触部と第２の気液接触部で各々気液接触させた後の吸収
   液を各々独立して回収して，再び第１の気液接触部と第
   ２の気液接触部に独立して供給する吸収液の循環系とを
   有し，外部から供給する補給水から酸性水とアルカリ水
   とを生成し，生成した酸性水を一方の気液接触部の吸収
   液の循環系に補給し，生成したアルカリ水を他方の気液
   接触部の吸収液の循環系に補給するようにしたことを特
   徴とする，可溶性ガス成分の除去装置。
2. 【請求項２】 前記補給水からの酸性水とアルカリ水の
   生成は，電気分解を利用した電解水製造装置で行われる
   ことを特徴とする，請求項１に記載の可溶性ガス成分の
   除去装置。
3. 【請求項３】 前記補給水からの酸性水とアルカリ水の
   生成はイオン交換カートリッジを用いて行われることを
   特徴とする，請求項１に記載の可溶性ガス成分の除去装
   置。
4. 【請求項４】 前記補給水の導入経路を分割して一方
   は，アニオンのみを除去するイオン交換カートリッジに
   通水させ，他方はカチオンのみを除去するイオン交換カ
   ートリッジに通水させて，酸性水とアルカリ水が生成さ
   れるように構成されたことを特徴とする，請求項３に記
   載の可溶性ガス成分の除去装置。
5. 【請求項５】 アニオンのみを除去するイオン交換カー
   トリッジの下流側と，カチオンのみを除去するイオン交
   換カートリッジの下流側に，各々ｐＨセンサを有するこ
   とを特徴とする，請求項４に記載の可溶性ガス成分の除
   去装置。
6. 【請求項６】 気体中に含まれる可溶性ガス成分を，吸
   収液との気液接触によって除去する装置であって，可溶
   性ガス成分を含む気体が流通する流路と，前記流路に配
   置された第１の気液接触部と，当該第１の気液接触部の
   下流側に配置された第２の気液接触部と，第１の気液接
   触部と第２の気液接触部で各々気液接触させた後の吸収
   液を一緒に回収し，回収した吸収液から酸性水とアルカ
   リ水を生成して，生成した酸性水を一方の気液接触部に
   供給し，生成したアルカリ水を他方の気液接触部に供給
   する吸収液の循環系を有することを特徴とする，可溶性
   ガス成分の除去装置。
7. 【請求項７】 前記回収した吸収液からの酸性水とアル
   カリ水の生成は，電気分解を利用した電解水製造装置で
   行われることを特徴とする，請求項６に記載の可溶性ガ
   ス成分の除去装置。
8. 【請求項８】 前記補給水は，市水，井水，工水，中
   水，又は純水を製造する際に排出される濃縮イオン水で
   あることを特徴とする，請求項１，２，３，４又は５の
   いずれかに記載の可溶性ガス成分の除去装置。
9. 【請求項９】 請求項２又は７の可溶性ガス成分の除去
   装置を用いて気体中に含まれる可溶性ガス成分を除去す
   るにあたり，電解水製造装置での極性を所定の時間ごと
   に変更することを特徴とする，可溶性ガス成分の除去装
   置の運転方法。