JP5423650B2

JP5423650B2 - 光走査装置

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Publication number: JP5423650B2
Application number: JP2010236534A
Authority: JP
Inventors: 誠大木
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Publication date: 2014-02-19
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Description

本発明は、光走査装置に関し、特に、感光体に対して光を走査する光走査装置に関する。

一般的な光走査装置は、概略、光源、偏向器及び走査レンズを備えている。光源は、光を放射する。偏向器は、光源が放射した光を主走査方向に走査する。走査レンズは、偏向器が偏向した光を感光体に結像させる。これにより、感光体には、静電潜像が形成される。

ところで、一般的な光走査装置は、ゴースト像が感光体に形成されるという問題を有している。より詳細には、走査レンズは、入射面と射出面とを有している。偏向器が偏向した光は、通常、入射面から入射し、射出面から通常光として射出する。しかしながら、偏向器が偏向した光の一部は、入射面から入射し、射出面及び入射面で反射した後に、射出面からゴースト光として射出する。ゴースト光は、通常光からずれた位置において結像し、ゴースト像を形成する。

前記ゴースト像の形成を抑制するための光走査装置としては、例えば、特許文献１に記載の光走査装置が知られている。該光走査装置は、回転多面鏡で反射した光の軸に対して所定角度傾けて配置された走査用レンズを有している。これにより、ゴースト光が感光体に結像されなくなる。その結果、特許文献１に記載の光走査装置では、ゴースト像の形成が抑制される。

以上のように、光走査装置において、ゴースト像の形成を抑制するために種々の発明がなされている。

特開平５−３４６５５３号公報

そこで、本発明の目的は、ゴースト像の形成を抑制できる光走査装置を提供することである。

本発明の一形態に係る光走査装置は、感光体に対して光を走査する光走査装置において、光を放射する光源と、前記光を主走査方向に走査する偏向手段と、前記偏向手段が偏向した前記光を前記感光体に結像させる走査レンズ群と、を備えており、前記走査レンズ群は、前記光が入射する入射面及び該光が射出する射出面を有し、かつ、副走査方向に負のパワーを有している第１の走査レンズと、前記第１の走査レンズよりも、前記光の進行方向の下流側に設けられている１以上の第２の走査レンズと、を含んでおり、前記射出面及び前記入射面で反射した後に該射出面から放射されたゴースト光は、前記光の進行方向の最も下流側に設けられている前記第２の走査レンズに入射しないこと、を特徴とする。

本発明によれば、ゴースト像の形成を抑制できる。

本発明の一実施形態に係る光走査装置の外観斜視図である。光走査装置を上側から平面視したときにおける通常光の主光線の経路を示した図である。光走査装置を主走査方向から平面視したときにおける通常光の主光線の経路を示した図である。光走査装置を上側から平面視したときにおけるゴースト光の主光線の経路を示した図である。光走査装置を主走査方向から平面視したときにおけるゴースト光の主光線の経路を示した図である。走査レンズの主走査方向に直交する面の断面構造図である。第１の変形例に係る光走査装置を主走査方向から平面視したときにおける外側のゴースト光の主光線の経路を示した図である。第２の変形例に係る光走査装置を主走査方向から平面視したときにおける外側のゴースト光の主光線の経路を示した図である。第２の変形例に係る光走査装置を主走査方向から平面視したときにおける内側のゴースト光の主光線の経路を示した図である。第１の比較例に係る光走査装置を主走査方向から平面視したときにおけるゴースト光の主光線の経路を示した図である。第２の比較例に係る光走査装置を主走査方向から平面視したときにおけるゴースト光の主光線の経路を示した図である。

以下に、本発明の一実施形態に係る光走査装置について図面を参照しながら説明する。

（光走査装置の構成）
図１は、本発明の一実施形態に係る光走査装置１０の外観斜視図である。

光走査装置１０は、感光体ドラム４０（４０ｙ，４０ｍ，４０ｃ，４０ｋ）にビーム（光）Ｂｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋを走査する。そして、光走査装置１０は、図１に示すように、光源１１（１１ｙ（イエロー），１１ｍ（マゼンタ），１１ｃ（シアン），１１ｋ（ブラック））、コリメータレンズ１２（１２ｙ，１２ｍ，１２ｃ，１２ｋ）、絞り１３（１３ｙ，１３ｍ，１３ｃ，１３ｋ）、合成ミラー１４（１４ｙ，１４ｍ，１４ｃ）、ミラー１５、シリンドリカルレンズ１６、偏向器１７、走査レンズ群２０、ミラー２４（２４ｙ，２４ｍ，２４ｃ，２４ｋ），２５（２５ｙ，２５ｍ，２５ｃ）、２６（２６ｍ，２６ｃ）及び防塵用ウインドウ２７（２７ｙ，２７ｍ，２７ｃ，２７ｋ）を備えている。

光源１１ｙ，１１ｍ，１１ｃ，１１ｋはそれぞれ、ビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋを放射し、例えば、レーザダイオードにより構成されている。図１に示すように、光源１１ｙ，１１ｍ，１１ｃ，１１ｋは、上から下へとこの順に並ぶように配置されている。これにより、光源１１ｙ，１１ｍ，１１ｃ，１１ｋから放射されたビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋは、上から下へとこの順に並んでいる。

コリメータレンズ１２ｙ，１２ｍ，１２ｃ，１２ｋはそれぞれ、光源１１ｙ，１１ｍ，１１ｃ，１１ｋに対応するように設けられており、ビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋを平行光に変換する。絞り１３ｙ，１３ｍ，１３ｃ，１３ｋはそれぞれ、平行光に変換されたビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋを上下方向に所定幅を有するように整形する。

合成ミラー１４ｙ，１４ｍ，１４ｃはそれぞれ、ビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃを反射して、ビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃの進行方向をビームＢｋの進行方向に揃える合成手段として機能する。ミラー１５は、合成ミラーにより進行方向がそろえられたビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋを反射する。

シリンドリカルレンズ１６は、ビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋを上下方向に集光する。より詳細には、シリンドリカルレンズ１６は、図１に示すように、ビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋが偏向器１７のポリゴンミラーの反射面近傍において線状に結像するように、ビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋを上下方向に集光する。

偏向器１７は、ポリゴンミラー及びモータ（図示せず）により構成されており、ビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋを主走査方向に偏向する。

走査レンズ群２０は、偏向器１７が偏向したビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋを感光体ドラム４０ｙ，４０ｍ，４０ｃ，４０ｋの周面に結像させる。より詳細には、走査レンズ群２０は、感光体ドラム４０ｙ，４０ｍ，４０ｃ，４０ｋ上でのビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋの走査速度が一定となると共に、ビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋのビーム径が均一となる光学特性を有している。そして、走査レンズ群２０は、走査レンズ２１，２２，２３（２３ｙ，２３ｍ，２３ｃ，２３ｋ）を含んでいる。走査レンズ（第２の走査レンズ）２２，２３は、走査レンズ（第１の走査レンズ）２１よりも光の進行方向の下流側に設けられている。

ミラー２４（２４ｙ，２４ｍ，２４ｃ，２４ｋ），２５（２５ｙ，２５ｍ，２５ｃ）、２６（２６ｍ，２６ｃ）は、走査レンズ２２を通過したビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋを反射して、感光体ドラム４０ｙ，４０ｍ，４０ｃ，４０ｋに導く。より詳細には、ビームＢｙは、ミラー２４で反射され、走査レンズ２３ｙを通過し、更に、ミラー２５ｙで反射され、防塵用ウインドウ２７ｙを通過して感光体ドラム４０ｙ上に結像する。ビームＢｍは、ミラー２４ｍ，２５ｍで反射され、走査レンズ２３ｍを通過し、更に、ミラー２６ｍで反射され、防塵用ウインドウ２７ｍを通過して感光体ドラム４０ｍ上に結像する。ビームＢｃは、ミラー２４ｃで反射され、走査レンズ２３ｃを通過し、更に、ミラー２５ｃ，２６ｃで反射され、防塵用ウインドウ２７ｃを通過して感光体ドラム４０ｃ上に結像する。ビームＢｋは、走査レンズ２３ｋを通過し、ミラー２４ｋで反射され、防塵用ウインドウ２７ｋを通過して感光体ドラム４０ｋ上に結像する。

また、感光体ドラム４０ｙ，４０ｍ，４０ｃ，４０ｋは一定速度で回転駆動される。以上のような構成により、ビームＢｙ，Ｂｍ，Ｂｃ，Ｂｋが主走査方向に走査されると共に、感光体ドラム４０ｙ，４０ｍ，４０ｃ，４０ｋが回転されることにより、感光体ドラム４０ｙ，４０ｍ，４０ｃ，４０ｋ上に静電潜像が形成される。

（走査レンズの構成）
ところで、光走査装置１０は、ゴースト像の形成を抑制するための構成を有している。以下に、かかる構成についてビームＢｋを例に挙げて図面を参照しながら説明する。図２は、光走査装置１０を上側から平面視したときにおける通常光の主光線の経路を示した図である。図３は、光走査装置１０を主走査方向から平面視したときにおける通常光の主光線の経路を示した図である。図４は、光走査装置１０を上側から平面視したときにおけるゴースト光の主光線の経路を示した図である。図５は、光走査装置１０を主走査方向から平面視したときにおけるゴースト光の主光線の経路を示した図である。主光線とは、絞り１３の中心を通過する光線である。なお、図２ないし図５において、ミラーを省略して記載してある。

また、走査レンズ２１，２２，２３において、光が入射する面を面（入射面）Ｓ１，Ｓ３，Ｓ５と呼び、光が射出する面を面（射出面）Ｓ２，Ｓ４，Ｓ６と呼ぶ。また、感光体ドラム４０の周面をＳ７と呼ぶ。更に、面Ｓ１から入射し走査レンズ２１内にて反射することなく面Ｓ２から射出する光を通常光と呼び、更に、面Ｓ１から入射し面Ｓ２及び面Ｓ１で反射した後に面Ｓ２から射出する光をゴースト光と呼ぶ。

図２及び図３に示すように、光源１１から放射された通常光は、走査レンズ２１〜２３を通過して、感光体ドラム４０に結像する。一方、図４及び図５に示すように、ゴースト光は、走査レンズ２１を通過した後、走査レンズ２２，２３を通過しない。すなわち、ゴースト光は、光の進行方向の最も下流側に設けられている走査レンズ２２，２３に入射していない。より詳細には、ゴースト光は、走査レンズ２３の下側を通過している。このように、走査レンズ２１は、ゴースト光を走査レンズ２３に入射させないために、後述するように、副走査方向に負のパワーを有している。一方、走査レンズ２２，２３は、副走査方向に正のパワーを有している。これにより、ゴースト光は、感光体ドラム４０の周面上に結像することがない。すなわち、光走査装置１０によれば、ゴースト像の形成を抑制することができる。なお、レンズが正のパワーを有するとは、該レンズがビームを集光する特性を有していることを意味し、レンズが負のパワーを有するとは、該レンズがビームを拡散する特性を有することを意味する。

ここで、走査レンズ２１，２２，２３についてより詳細に説明する。図６は、走査レンズ２１の主走査方向に直交する面の断面構造図である。また、表１は、本実施形態における走査レンズ２１〜２３の面頂点座標及び屈折率を示した表である。また、表２ないし表６は、走査レンズ２１〜２３の面Ｓ１〜Ｓ５の自由曲面係数である。自由曲面形状は、以下の式（１）に示される。

表１に示すように、面Ｓ２，Ｓ３，Ｓ６は、近軸曲率半径が無限大であるので、副走査方向に平行である。よって、走査レンズ２１〜２３はそれぞれ、図６に示すように、副走査方向に平行な入射面又は射出面を有している。一方、面Ｓ１，Ｓ４，Ｓ５は、副走査方向に対して平行ではなく、湾曲している。すなわち、面Ｓ１，Ｓ４，Ｓ５は、副走査方向においてパワーを有している。特に、面Ｓ１が副走査方向にパワーを有することにより、走査レンズ２１は、副走査方向において負のパワーを有している。

また、表２ないし表６によれば、走査レンズ２１，２２の面Ｓ１〜Ｓ４は、主走査方向に垂直な断面において、主走査方向及び副走査方向に直交する対称軸（走査レンズ２１では、図６の一点鎖線）を有している。すなわち、走査レンズ２１，２２では、Ｚ奇数次を使用していない。

以上のような構成を有する走査レンズ２１〜２３を用いることにより、図５に示すように、ゴースト光が走査レンズ２３に入射しなくなる。これは、以下に説明するように、副走査断面内において近軸光線追跡を行った場合に、ゴースト光が面Ｓ２を射出する角度が、通常光が面Ｓ２を射出する角度の４倍以上の大きさを有しているためである。ここで、近軸光線とは、光軸に極めて近い高さを通過する光線であり、近軸光線追跡とは、近軸光線を走査レンズ２１〜２３の面Ｓ１〜Ｓ６にて追跡した結果である。また、光軸とは、偏向器１７のポリゴンミラーの回転軸に対して垂直で副走査方向に対してポリゴンミラーの中心を通過する平面と、ポリゴンミラーの回転軸に平行で面Ｓ１〜Ｓ６の面頂点とを含む平面とにより定義される軸である。

式（２）及び式（３）において、Ｅ（ｉ）は面Ｓｉから射出する光の角度であり、Ｇ（ｉ）は面Ｓｉ（ｉは１〜６の整数）における光線高さを示し、Ｒ（ｉ）は面Ｓｉの近軸曲率半径であり、ｄ（ｉ）は面Ｓｉから面Ｓｉ＋１までの距離であり、ｎ（ｉ）は面Ｓｉから面Ｓｉ＋１までの間の屈折率である。また、θが小さいので、ｓｉｎθ≒θとした。

また、本実施形態では、光軸を含む副走査断面において、偏向点を物点とし、走査レンズ２１までの距離を物体距離とし、入射光の高さを０ｍｍとし、入射光の角度を１ｒａｄとし、ポリゴンミラーへの光の副斜入射角度を１．３７ｒａｄとして、通常光及びゴースト光を追跡した。表７は、本実施形態における通常光の近軸光追跡結果である。表８は、本実施形態におけるゴースト光の近軸光追跡結果である。

Ｒ：面Ｓｉの近軸曲率半径
ｄ：面Ｓｉから面Ｓｉ＋１までの距離
ｎ：面Ｓｉから面Ｓｉ＋１までの屈折率

表７及び表８によれば、ゴースト光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）（＝１０．５６）を、通常光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）（＝１．７８）の４倍よりも大きな５．９５倍となった。よって、ゴースト光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）が、通常光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）の４倍よりも大きくすることにより、ゴースト光が走査レンズ２３に入射しなくなることがわかる。

また、走査レンズ２１〜２３はそれぞれ、図６に示すように、副走査方向に平行な入射面又は射出面を有している。これにより、副走査方向の面別偏芯感度を大きく下げることができ、走査レンズ２１〜２３の製造のための金型の形状を簡単にできる。その結果、光走査装置１０の製造コストの低減を図ることができる。

また、走査レンズ２１，２２の面Ｓ１〜Ｓ４は、主走査方向に垂直な断面において、主走査方向及び副走査方向に直交する対称軸を有している。これにより、走査レンズ２１，２２の成形上の面別偏芯感度及び配置上のブロック偏芯角が低減される。よって、走査レンズ２１，２２の製造のための金型の形状を簡単にできる。その結果、光走査装置１０の製造コストの低減を図ることができる。

また、本実施形態に係る光走査装置１０では、副走査方向における倍率は、１．１倍である。このように、光走査装置１０において、副走査方向における倍率を１．２倍以下とすることにより、走査レンズ２２を通過した後の副走査方向の光束幅を小さくでき、光の分離が容易となる。

（第１の変形例）
以下に第１の変形例に係る光走査装置１０ａについて図面を参照しながら説明する。図７は、第１の変形例に係る光走査装置１０ａを主走査方向から平面視したときにおけるゴースト光の主光線の経路を示した図である。

光走査装置１０と光走査装置１０ａとの相違点は、光走査装置１０では、ゴースト光が走査レンズ２２，２３を通過していない（図５参照）のに対して、光走査装置１０ａでは、ゴースト光が走査レンズ２２を通過し走査レンズ２３を通過していない（図７参照）点である。そのため、光走査装置１０の走査レンズ２１〜２３と光走査装置１０ａの走査レンズ２１〜２３とは、以下に説明するように形状が異なっている。そこで、光走査装置１０ａの走査レンズ２１，２２，２３についてより詳細に説明する。表９は、第１の変形例における走査レンズ２１〜２３の面頂点座標及び屈折率を示した表である。また、表１０ないし表１４は、走査レンズ２１〜２３の面Ｓ１〜Ｓ５の自由曲面係数である。

以上のような構成を有する走査レンズ２１〜２３を用いることにより、図７に示すように、ゴースト光が走査レンズ２３に入射しなくなる。これは、以下に説明するように、副走査断面内において近軸光線追跡を行った場合に、ゴースト光が面Ｓ２を射出する角度が、通常光が面Ｓ２を射出する角度の４倍以上の大きさを有しているためである。

第１の変形例では、光軸を含む副走査断面において、偏向点を物点とし、走査レンズ２１までの距離を物体距離とし、入射光の高さを０ｍｍとし、入射光の角度を１ｒａｄとし、ポリゴンミラーへの光の副斜入射角度を１．３７ｒａｄとして、通常光及びゴースト光を追跡した。表１５は、第１の変形例における通常光の近軸光追跡結果である。表１６は、第１の変形例におけるゴースト光の近軸光追跡結果である。

表１５及び表１６によれば、ゴースト光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）（＝６．６７）が、通常光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）（＝１．４９）の４倍よりも大きな４．４６倍となった。よって、ゴースト光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）を、通常光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）の４倍よりも大きくすることにより、ゴースト光が走査レンズ２３に入射しなくなることがわかる。

また、光走査装置１０ａでは、副走査方向の倍率は、１．１倍であり、１．２倍より小さい。よって、光走査装置１０ｂでは、走査レンズ２２を通過した後の副走査方向の光束幅を小さくでき、光の分離が容易となる。

（第２の変形例）
以下に第２の変形例に係る光走査装置１０ｂについて図面を参照しながら説明する。光走査装置１０ｂでは、ポリゴンミラーへの光の副斜入射角が２種類存在する。そして、走査レンズ２３も２種類存在している。以下では、外側に位置している走査レンズを走査レンズ２３と呼び、内側に位置している走査レンズを走査レンズ２３'と呼ぶ。また、走査レンズ２３は、面Ｓ５，Ｓ６を有しており、走査レンズ２３'は、面Ｓ５'，Ｓ６'を有している。ビームＢｙ，Ｂｋが走査レンズ２３を通過し、ビームＢｍ，Ｂｃが走査レンズ２３'を通過する。図８は、第２の変形例に係る光走査装置１０ｂを主走査方向から平面視したときにおける外側のゴースト光の主光線の経路を示した図である。図９は、第２の変形例に係る光走査装置１０ｂを主走査方向から平面視したときにおける内側のゴースト光の主光線の経路を示した図である。

光走査装置１０ｂでは、図８に示すように、外側のゴースト光が走査レンズ２２，２３を通過していない。一方、図９に示すように、内側のゴースト光が走査レンズ２３'を通過していない。以下に、光走査装置１０ｂの走査レンズ２１，２２，２３，２３'についてより詳細に説明する。表１７は、第２の変形例における走査レンズ２１，２２，２３，２３'の面頂点座標及び屈折率を示した表である。また、表１８ないし表２３は、走査レンズ２１，２２，２３，２３'の面Ｓ１〜Ｓ５，Ｓ５'の自由曲面係数である。

以上のような構成を有する走査レンズ２１，２２，２３，２３'を用いることにより、図８及び図９に示すように、ゴースト光が走査レンズ２３，２３'に入射しなくなる。これは、以下に説明するように、副走査断面内において近軸光線追跡を行った場合に、ゴースト光が面Ｓ２を射出する角度が、通常光が面Ｓ２を射出する角度の４倍以上の大きさを有しているためである。

第２の変形例では、光軸を含む副走査断面において、偏向点を物点とし、走査レンズ２１までの距離を物体距離とし、入射光の高さを０ｍｍとし、入射光の角度を１ｒａｄとし、ポリゴンミラーへの光の副斜入射角度を２．１９ｒａｄ（外側），０．７３ｒａｄ（内側）として、通常光及びゴースト光を追跡した。表２４は、第２の変形例における通常光の近軸光追跡結果である。表２５は、第２の変形例におけるゴースト光の近軸光追跡結果である。

表２４及び表２５によれば、ゴースト光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）（＝６．９４）が、通常光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）（＝１．７０）の４倍よりも大きな４．０８倍となった。よって、ゴースト光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）を、通常光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）の４倍よりも大きくすることにより、ゴースト光が走査レンズ２３に入射しなくなることがわかる。

また、光走査装置１０ｂでは、副走査方向の倍率は、０．５９倍であり、１．２倍より小さい。よって、光走査装置１０ｂでは、走査レンズ２２を通過した後の副走査方向の光束幅を小さくでき、光の分離が容易となる。

（比較例）
以下に比較例に係る光走査装置について図面を参照しながら説明する。図１０は、第１の比較例に係る光走査装置を主走査方向から平面視したときにおけるゴースト光の主光線の経路を示した図である。

第１の比較例では、面Ｓ１，Ｓ２が副走査方向にほぼ平行である。この場合には、ゴースト光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）が、通常光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）と等しくなってしまう。そのため、図１０に示すように、ゴースト光は、走査レンズ２３に入射し、感光体ドラム４０に到達してしまう。すなわち、第１の比較例に係る光走査装置では、ゴースト像の形成を抑制できない。

図１１は、第２の比較例に係る光走査装置を主走査方向から平面視したときにおけるゴースト光の主光線の経路を示した図である。

第２の比較例では、ゴースト光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）が、通常光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）の４倍よりも小さな３．６３倍である。そのため、図１１に示すように、ゴースト光は、走査レンズ２３に入射し、感光体ドラム４０に到達してしまう。すなわち、第２の比較例に係る光走査装置では、ゴースト像の形成を抑制できない。以上より、ゴースト光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）を、通常光が面Ｓ２を射出する角度Ｅ（２）の４倍よりも大きくすることにより、ゴースト像の形成を抑制できることがわかる。

なお、光走査装置１０，１０ａ，１０ｂは、偏向器１７の一方に光源１１が配置される片側偏向タンデム光走査装置であるとしたが、偏向器１７の両側に光源１１が配置される両側偏向タンデム光走査装置であってもよい。

本発明は、光走査装置に有用であり、特に、ゴースト像の形成を抑制できる点において優れている。

Ｓ１〜Ｓ７、Ｓ５'，Ｓ６' 面
１０，１０ａ，１０ｂ光走査装置
１１ｃ，１１ｋ，１１ｍ，１１ｙ光源
１７偏向器
２０走査レンズ群
２１，２２，２３，２３'，２３ｃ，２３ｋ，２３ｍ，２３ｙ走査レンズ

Claims

感光体に対して光を走査する光走査装置において、
光を放射する光源と、
前記光を主走査方向に走査する偏向手段と、
前記偏向手段が偏向した前記光を前記感光体に結像させる走査レンズ群と、
を備えており、
前記走査レンズ群は、
前記光が入射する入射面及び該光が射出する射出面を有し、かつ、副走査方向に負のパワーを有している第１の走査レンズと、
前記第１の走査レンズよりも、前記光の進行方向の下流側に設けられている１以上の第２の走査レンズと、
を含んでおり、
前記射出面及び前記入射面で反射した後に該射出面から放射されたゴースト光は、前記光の進行方向の最も下流側に設けられている前記第２の走査レンズに入射しないこと、
を特徴とする光走査装置。
副走査断面内において近軸光線追跡を行った場合に、前記ゴースト光が前記射出面を射出する角度が、前記光が該射出面を射出する角度の４倍以上の大きさを有していること、
を特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
前記第１の走査レンズ及び前記第２の走査レンズの入射面及び射出面は、主走査方向に垂直な断面において、該主走査方向及び前記副走査方向に直交する対称軸を有していること、
を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光走査装置。
前記走査レンズ群の副走査方向における倍率は、１．２倍以下であること、
を特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の光走査装置。
前記第１の走査レンズ及び前記第２の走査レンズはそれぞれ、副走査方向に平行な入射面又は射出面を有していること、
を特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の光走査装置。