JP5388503B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5388503B2 JP5388503B2 JP2008209453A JP2008209453A JP5388503B2 JP 5388503 B2 JP5388503 B2 JP 5388503B2 JP 2008209453 A JP2008209453 A JP 2008209453A JP 2008209453 A JP2008209453 A JP 2008209453A JP 5388503 B2 JP5388503 B2 JP 5388503B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring
- semiconductor substrate
- element formation
- formation layer
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/0401—Bonding areas specifically adapted for bump connectors, e.g. under bump metallisation [UBM]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05005—Structure
- H01L2224/05009—Bonding area integrally formed with a via connection of the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/061—Disposition
- H01L2224/0618—Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
- H01L2224/06181—On opposite sides of the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/1302—Disposition
- H01L2224/13025—Disposition the bump connector being disposed on a via connection of the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
- H01L2224/16146—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked the bump connector connecting to a via connection in the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01047—Silver [Ag]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
Description
本実施の形態では、素子形成層及び埋込配線が設けられた半導体基板を薄膜化した後に、当該半導体基板の一部を分離した構造を有するLSIチップなどの半導体チップに関して図面を参照して説明する。具体的には、素子形成層及び埋込配線が設けられた半導体基板を薄膜化した後に、当該半導体基板の一部を分離することにより埋込配線が露出した構造を有するLSIチップなどの半導体チップ及びその作製方法に関して説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態1で示したLSIチップが積層された積層型LSIチップを有する半導体装置に関して図面を参照して説明する。
本実施の形態では、異なるLSIチップ間の埋込配線の接続方法に関して図面を参照して説明する。具体的には、めっき処理を用いて埋込配線同士を電気的に接続する場合について示す。
本実施の形態では、埋込配線が設けられたLSIチップを有する半導体装置に関して図面を参照して説明する。具体的には、配線が設けられた基板にLSIチップの埋込配線を電気的に接続して設ける場合に関して示す。
本実施の形態では、積層型LSIチップを有する半導体装置に関して上記実施の形態と異なる構成について図面を参照して説明する。具体的には、LSIチップを積層させた後に埋込配線を設ける場合に関して説明する。
101 素子形成層
101a 第1の素子形成層
101b 第2の素子形成層
102 埋込配線
102a 第1の埋込配線
102b 第2の埋込配線
103a トランジスタ
103b トランジスタ
105 脆化層
107 イオン
110 支持基板
111 開口部
112 開口部
120 半導体基板
120a 半導体基板
120b 半導体基板
124 ギャップ
125 スペーサ
126 導電性材料
127 導電膜
130 LSIチップ
130a LSIチップ
130b LSIチップ
130c LSIチップ
130d LSIチップ
150 基板
151 接続端子
152 配線
1011 第1の素子形成層
1012 第2の素子形成層
1013 第3の素子形成層
1014 第4の素子形成層
1015 第5の素子形成層
1018 第(n−1)の素子形成層
1019 第nの素子形成層
1021 第1の埋込配線
1022 第2の埋込配線
1023 第3の埋込配線
1028 第(n−1)の埋込配線
1029 第nの埋込配線
1032 埋込配線
1033 埋込配線
1034 埋込配線
1042 埋込配線
1052 埋込配線
2124 ギャップ
2125 スペーサ
2126 導電性材料
2127 導電膜
Claims (10)
- 表面に第1の素子形成層が設けられ、且つ前記第1の素子形成層と電気的に接続された第1の配線が埋め込まれた第1の半導体基板の裏面側からイオンを照射して、前記第1の半導体基板の表面から所定の深さの領域に脆化層を形成し、
前記脆化層に沿って前記第1の半導体基板の一部を分離することによって、前記第1の素子形成層及び前記第1の配線を有する第1の半導体基板を形成するとともに、前記第1の配線の一部を露出させ、
前記第1の素子形成層及び前記第1の配線を有する前記第1の半導体基板と、第2の素子形成層及び前記第2の素子形成層と電気的に接続された第2の配線が設けられた第2の半導体基板とを、前記第1の配線及び前記第2の配線を挟んで積層し、
前記第1の配線の一部と前記第2の配線とを接着する導電性材料によって、前記第1の素子形成層と前記第2の素子形成層とを電気的に接続することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1において、
前記導電性材料を、銀ペースト、銅ペースト又ははんだを用いて形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 表面に第1の素子形成層が設けられ、且つ前記第1の素子形成層と電気的に接続された第1の配線が埋め込まれた第1の半導体基板の裏面側からイオンを照射して、前記第1の半導体基板の表面から所定の深さの領域に脆化層を形成し、
前記脆化層に沿って前記第1の半導体基板の一部を分離することによって、前記第1の素子形成層及び前記第1の配線を有する第1の半導体基板を形成するとともに、前記第1の配線の一部を露出させ、
前記第1の素子形成層及び前記第1の配線を有する第1の半導体基板と、第2の素子形成層及び前記第2の素子形成層と電気的に接続された第2の配線を有する第2の半導体基板とを、前記第1の配線及び前記第2の配線を挟んで積層し、
めっき処理により前記第1の配線の一部と前記第2の配線との間に導電膜を形成することによって、前記第1の素子形成層と前記第2の素子形成層とを電気的に接続することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項3において、
前記めっき処理を、銅、ニッケル、金、又は白金を用いて行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 表面に第1の素子形成層が設けられ、且つ前記第1の素子形成層と電気的に接続された第1の配線が埋め込まれた第1の半導体基板の裏面側からイオンを照射して、前記第1の半導体基板の表面から所定の深さの領域に第1の脆化層を形成し、
前記第1の脆化層に沿って前記第1の半導体基板の一部を分離することによって、前記第1の素子形成層及び前記第1の配線を有する第1の半導体基板を形成するとともに、前記第1の配線の一部を露出させ、
前記第1の素子形成層及び前記第1の配線を有する第1の半導体基板と、表面に設けられた第2の素子形成層及び前記第2の素子形成層と電気的に接続された第2の配線を有する第2の半導体基板とを、前記第2の素子形成層を挟んで積層し、
前記第1の配線の一部と前記第2の配線とを電気的に接続することによって、前記第1の素子形成層と前記第2の素子形成層とを電気的に接続し、
前記第2の半導体基板の裏面側からイオンを照射して、前記第2の半導体基板の表面から所定の深さの領域に第2の脆化層を形成し、
前記第2の脆化層に沿って前記第2の半導体基板の一部を分離することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項5において、
前記第2の配線に設けられた凹部に前記第1の配線の一部をはめ込むことによって、前記第1の配線の一部と前記第2の配線を電気的に接続することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項5において、
前記第2の配線に設けられた凸部を前記第1の配線の一部に突き刺すことによって、前記第1の配線の一部と前記第2の配線を電気的に接続することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項5乃至請求項7のいずれか一項において、
100℃以上400℃以下の熱処理を行うことによって、前記第1の配線の一部と前記第2の配線を電気的に接続することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 表面に第1の素子形成層が設けられ、且つ前記第1の素子形成層と電気的に接続された第1の配線が埋め込まれた第1の半導体基板の裏面側からイオンを照射して、前記第1の半導体基板の表面から所定の深さの領域に第1の脆化層を形成し、
前記第1の脆化層に沿って前記第1の半導体基板の一部を分離することによって、前記第1の素子形成層及び前記第1の配線を有する第1の半導体基板を形成するとともに、前記第1の配線の一部を露出させ、
表面に設けられた第2の素子形成層及び前記第2の素子形成層を貫通する第2の配線を有する第2の半導体基板の裏面側からイオンを照射して、前記第2の半導体基板の表面から所定の深さの領域に第2の脆化層を形成し、
前記第2の脆化層に沿って前記第2の半導体基板の一部を分離することによって、前記第2の素子形成層及び前記第2の配線を有する第2の半導体基板を形成するとともに、前記第2の配線の一部を露出させ、
前記第1の半導体基板と前記第2の半導体基板とを、前記第1の配線の一部及び前記第2の配線の一部を挟んで積層し、
前記第1の配線の一部と前記第2の配線の一部とを電気的に接続することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項9において、
100℃以上400℃以下の熱処理を行うことによって、前記第1の配線の一部と前記第2の配線の一部とを電気的に接続することを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008209453A JP5388503B2 (ja) | 2007-08-24 | 2008-08-18 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007218891 | 2007-08-24 | ||
JP2007218891 | 2007-08-24 | ||
JP2008209453A JP5388503B2 (ja) | 2007-08-24 | 2008-08-18 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009076882A JP2009076882A (ja) | 2009-04-09 |
JP5388503B2 true JP5388503B2 (ja) | 2014-01-15 |
Family
ID=40447801
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008209453A Expired - Fee Related JP5388503B2 (ja) | 2007-08-24 | 2008-08-18 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5388503B2 (ja) |
CN (1) | CN101373722B (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8525342B2 (en) * | 2010-04-12 | 2013-09-03 | Qualcomm Incorporated | Dual-side interconnected CMOS for stacked integrated circuits |
JP2012119532A (ja) | 2010-12-01 | 2012-06-21 | Seiko Epson Corp | 薄膜トランジスタ形成用基板、半導体装置、電気装置 |
US9704793B2 (en) | 2011-01-04 | 2017-07-11 | Napra Co., Ltd. | Substrate for electronic device and electronic device |
JP2012174826A (ja) * | 2011-02-21 | 2012-09-10 | Napura:Kk | 電子デバイス及びその製造方法 |
EP2779332A4 (en) | 2011-11-10 | 2015-11-25 | Citizen Holdings Co Ltd | OPTICAL INTEGRATED DEVICE |
JP6128787B2 (ja) | 2012-09-28 | 2017-05-17 | キヤノン株式会社 | 半導体装置 |
JP6173022B2 (ja) * | 2013-05-07 | 2017-08-02 | キヤノン株式会社 | 画像処理装置 |
CN105633099B (zh) * | 2016-01-28 | 2018-11-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板、其制作方法及显示面板 |
CN111785715B (zh) * | 2020-07-20 | 2022-09-16 | 潍坊歌尔微电子有限公司 | 一种芯片组件、芯片封装结构及电子设备 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001044357A (ja) * | 1999-07-26 | 2001-02-16 | Seiko Epson Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP4123682B2 (ja) * | 2000-05-16 | 2008-07-23 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
FR2828762B1 (fr) * | 2001-08-14 | 2003-12-05 | Soitec Silicon On Insulator | Procede d'obtention d'une couche mince d'un materiau semi-conducteur supportant au moins un composant et/ou circuit electronique |
FR2835097B1 (fr) * | 2002-01-23 | 2005-10-14 | Procede optimise de report d'une couche mince de carbure de silicium sur un substrat d'accueil | |
JP4147578B2 (ja) * | 2002-07-30 | 2008-09-10 | 信越半導体株式会社 | Soiウエーハの製造方法 |
JP2005039078A (ja) * | 2003-07-16 | 2005-02-10 | Masaki Esashi | 薄板基板構造形成用ウエーハ基板、この製造方法およびmems素子の製造方法 |
JP2005183689A (ja) * | 2003-12-19 | 2005-07-07 | Seiko Epson Corp | 支持基板、搬送体、半導体装置の製造方法、半導体装置、回路基板、並びに電子機器 |
JP2006165073A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Hitachi Ulsi Systems Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
KR100865365B1 (ko) * | 2005-01-12 | 2008-10-24 | 샤프 가부시키가이샤 | 반도체 장치의 제조방법 및 반도체 장치 |
JP2006287118A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Canon Inc | 半導体装置及びその製造方法 |
JP4869664B2 (ja) * | 2005-08-26 | 2012-02-08 | 本田技研工業株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
-
2008
- 2008-08-18 JP JP2008209453A patent/JP5388503B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-08-22 CN CN2008102136104A patent/CN101373722B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009076882A (ja) | 2009-04-09 |
CN101373722A (zh) | 2009-02-25 |
CN101373722B (zh) | 2013-03-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5388503B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
TWI483316B (zh) | 半導體裝置及其製造方法 | |
JP6177854B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR20230164153A (ko) | 캐리어의 직접 결합 및 분리 | |
JP5617835B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
WO2014184988A1 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
TW200805569A (en) | Process for manufacturing semiconductor device | |
KR20130126979A (ko) | 반도체장치의 제조방법 | |
WO2014196105A1 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP6485897B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
TW201240040A (en) | Stacked microelectronic assembly with TSVs formed in stages with plural active chips | |
JP6393036B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
WO2010035375A1 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPWO2015136821A1 (ja) | 積層半導体集積回路装置 | |
CN104332441B (zh) | 生产半导体器件的方法 | |
JP2018049938A (ja) | 半導体装置 | |
TW201110311A (en) | Method of manufacturing semiconductor chip | |
JP2007266044A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
TW200935580A (en) | Method for manufacturing stack package using through-electrodes | |
JP2011159869A (ja) | 半導体装置の積層構造体とその製造方法 | |
JP2010114155A (ja) | 積層半導体装置および積層半導体装置の製造方法 | |
CN112563241A (zh) | 半导体装置 | |
JP2013118264A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP5416931B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP6762004B2 (ja) | 半導体集積回路装置及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110617 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130604 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130627 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131001 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131008 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |