JP5377849B2 - 磁気ディスク用ガラス基板の梱包体、磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法および磁気ディスク製造方法 - Google Patents
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以下に、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクについて実施例を説明する。梱包対象となる磁気ディスク用ガラス基板100は、2.5インチ型ディスクとして製造されるものを意図している。その他、0.8インチ型ディスク(内径6mm、外径21.7mm、板厚0.381mm)、1.0インチ型ディスク(内径7mm、外径27.4mm、板厚0.381mm)、1.8インチ型磁気ディスク(内径12mm、外径48mm、板厚0.508mm)などの所定の形状を有する磁気ディスクとしてもよい。3.5インチ型ディスクに適用してもよいが、アルミニウム製の基板など、基板自体がガラスでないものは梱包対象として意図していない。
本実施形態においてガラス基板100の材質としてはソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられるが、中でもアルミノシリケートガラスが好適である。アルミノシリケートガラスは、平滑かつ高剛性が得られるので、磁気的スペーシング、特に、磁気ヘッドの浮上量をより安定して低減できる。また、アルミノシリケートガラスは化学強化により、高い剛性強度を得ることができる。
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円板状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板100とした(コアリング)。そして内周端面および外周端面120をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した(フォーミング)。
次に、得られたガラス基板100の両主表面110について、第1ラッピング工程と同様に、第2ラッピング加工を行った。この第2ラッピング工程を行なうことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面110に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
次に、ガラス基板100の外周の端面研磨を行なう。まず端面120については、面取面130に先立ち、単独で研磨を行なう。研磨の方法は、例えば複数枚のガラス基板100を同時にブラシにて研磨する方法でもよいが、取代が多くなってしまう。そこで、例えば枚葉式の研磨方法を用いてよい。
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面110に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面110の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板100に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板100を300℃に予熱し、化学強化溶液中に約3時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板100の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板100が端面120で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
得られた磁気ディスク用ガラス基板100の主表面110について平滑性の検査を行った。検査工程は、表面欠陥検出装置(AOI:Automatic Optical Inspection)やOSA(Optical Surface Analyzer)等の機器を用いて、磁気ディスク用ガラス基板100に光を照射し磁気ディスク用ガラス基板100から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定し、付着物、凹部および凸部が存在するか否か等を測定し、基板状態を評価する。
25枚の磁気ディスク用ガラス基板100をケース200に収容し、ケース200を4個重ね、アルミニウムラミネートフィルム製の第1の梱包袋210を、脱気した状態で密封して梱包体212とした。次に、梱包体212を、プラスチックフィルム製の第2の梱包袋220をさらに外側から、脱気した状態で密封して二重梱包体222とした。
二重梱包体222のうち、外側の梱包袋である第2の梱包袋220を所定の室において開梱し、梱包体212とした。かかる所定の室は、別室と隣接していて、別室から気流が流れこんでいる(所定の室および別室は図示を省略する)。
ガラス基板100上に磁性層を形成する成膜工程を行うため、ケース200に収納されたガラス基板100を、生産ラインが設置されているクリーンルーム(図示は省略)へ搬送した。
以上の工程によって開梱されたガラス基板における本実施形態の有効性について説明する。図7は、本実施形態である二重梱包体222と、比較例である一重の梱包体212とを、高温多湿(50℃/60%RH)の環境下で5日間放置した後に、ガラス表面に付着したパーティクルの数を、再び表面欠陥検出装置(OSA6100)を用いてカウントした。(各々100枚ずつを測定)その結果、本実施形態(二重梱包)および比較例(一重梱包)との間に明らかなパーティクルカウント数の差異が見られ、前者が梱包品質として高い優位を示す結果が得られている。
上記の梱包体を用いて梱包された磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性層を形成する成膜工程を行うことを特徴とする。
110…主表面
120…端面
130…面取面
200…ケース
210…第一の梱包袋
212…梱包体
220…第二の梱包袋
222…二重梱包体
Claims (7)
- 化学強化用のガラスからなり少なくとも磁性層が形成される垂直磁気記録用の磁気ディスク用ガラス基板を1つ以上収容するケースと、
前記ケースを、脱気した状態で密封する金属ラミネートフィルム製の遮光性を有し、水蒸気およびガスを遮断する第1の梱包袋と、
前記第1の梱包袋をさらに外側から、脱気した状態で密封するプラスチックフィルム製の第2の梱包袋と、
を含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。 - 前記第2の梱包袋は、前記第1の梱包袋を直接に梱包していて、第1の梱包袋の四方は丸められている、あるいは鈍角化されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
- 前記第1の梱包袋は、ポリエチレンフィルム、アルミニウムフィルム、延伸ナイロンフィルムおよびポリエチレンテレフタレートフィルムから成ることを特徴とする請求項1または2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
- 前記第1の梱包袋の水蒸気透過率は、0.1g/m2・day以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
- 前記第1の梱包袋の酸素透過率は、0.1cc/m2・day以下であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の梱包体。
- 化学強化用のガラスからなり少なくとも磁性層が形成される垂直磁気記録用の磁気ディスク用ガラス基板を1つ以上ケースに収容し、
前記ケースを、金属ラミネートフィルム製の遮光性を有し、水蒸気およびガスを遮断する第1の梱包袋を脱気して密封し、
前記第1の梱包袋を、プラスチックフィルム製の第2の梱包袋を脱気してさらに外側から密封することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法。 - 請求項1から6までのいずれか1項に記載の梱包体を用いて梱包された磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性層を形成する成膜工程を行うことを特徴とする磁気ディスク製造方法。
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