JP5234742B2 - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 166
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 164
- 238000012856 packing Methods 0.000 claims description 115
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 53
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 15
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 claims description 9
- 238000005553 drilling Methods 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 60
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 37
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 25
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 24
- 230000008569 process Effects 0.000 description 21
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 10
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 10
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 8
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 5
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 5
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 5
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 4
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920006284 nylon film Polymers 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019222 CoCrPt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 208000014674 injury Diseases 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Packaging For Recording Disks (AREA)
- Packages (AREA)
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Description
以下に、本発明を適用した磁気ディスクの製造方法について実施例を説明する。この磁気ディスク用ガラス基板100および磁気ディスクは、0.8インチ型ディスク(内径6mm、外径21.7mm、板厚0.381mm)、1.0インチ型ディスク(内径7mm、外径27.4mm、板厚0.381mm)、1.8インチ型磁気ディスク(内径12mm、外径48mm、板厚0.508mm)などの所定の形状を有する磁気ディスクとして製造される。また、2.5インチ型ディスクや3.5インチ型ディスクとして製造してもよい。
本実施例においてガラス基板100の材質としてはソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられるが、中でもアルミノシリケートガラスが好適である。アルミノシリケートガラスは、平滑かつ高剛性が得られるので、磁気的スペーシング、特に、磁気ヘッドの浮上量をより安定して低減できる。また、アルミノシリケートガラスは化学強化により、高い剛性強度を得ることができる。
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円板状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板100とした(コアリング)。そして内周端面および外周端面120をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した(フォーミング)。
次に、得られたガラス基板100の両主表面110について、第1ラッピング工程と同様に、第2ラッピング加工を行った。この第2ラッピング工程を行なうことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面110に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
次に、ガラス基板100の外周の端面研磨を行なう。まず端面120については、面取面130に先立ち、単独で研磨を行なう。研磨の方法は、例えば複数枚のガラス基板100を同時にブラシにて研磨する方法でもよいが、取代が多くなってしまう。そこで、例えば枚葉式の研磨方法を用いてよい。
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面110に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面110の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板100に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板100を300℃に予熱し、化学強化溶液中に約3時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板100の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板100が端面120で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
得られた磁気ディスク用ガラス基板100の主表面110について平滑性の検査を行った。検査工程は、表面欠陥検出装置(AOI:Automatic Optical Inspection)やOSA(Optical Surface Analyzer)等の機器を用いて、磁気ディスク用ガラス基板100に光を照射し磁気ディスク用ガラス基板100から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定し、付着物、凹部および凸部が存在するか否か等を測定し、基板状態を評価する。
25枚の磁気ディスク用ガラス基板100をケース200に収容し、ケース200を4個並べ、アルミニウムラミネート製フィルムの第1の梱包袋210に入れ、第1の梱包袋210内を減圧しながら脱気する。そして、脱気した状態で二重にヒートシールすることにより封止して密封梱包し、梱包体212とした。このとき、第1の梱包袋210を脱気する減圧速度は低速であることが好ましい。
二重梱包体222の二重の梱包袋のうち、外側の梱包袋である第2の梱包袋220を所定の室(図示せず)において開梱し、梱包体212とした。
梱包体212の第1の梱包袋210を、生産ラインが設置されているクリーンルームに隣接する室(図示せず)において開梱する。まず、第1の梱包袋210内への気体の梱包開放速度Vpが0.1MPa/secとなる直径0.3mmの細孔230を、第1の梱包袋210に針を用いて穿孔する。穿孔に針を用いることにより、針の直径を変えることで細孔230の直径を容易に変えることができ、Vpを調節することが可能となる。
ガラス基板100上に磁性層を形成する成膜工程を行うため、ケース200に収納されたガラス基板100を、生産ラインが設置されているクリーンルームへ搬送する。そして、成膜工程を行う前に、純水、またはpH12以下のアルカリ洗浄液および純水を用いて、搬入したガラス基板100を洗浄する。これにより、ガラス基板100の清浄度をより向上することができる。
上述した工程を経て得られたガラス基板100の両面に、ガラス基板100の表面にCr合金からなる付着層、CoTaZr基合金からなる軟磁性層、Ruからなる下地層、CoCrPt基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。
以上の工程によって製造された磁気ディスクにおける本実施形態の有効性について説明する。図7は、梱包開放速度Vpとパーティクル数の関係を示すグラフである。本実施形態の第一開梱工程において、Vpの条件を変更してガラス基板を開梱し、成膜工程においてかかるガラス基板に磁性層等を成膜させて磁気ディスクを製造後、Vp毎に磁気ディスクを15枚ずつサンプリングした。
Claims (8)
- 磁気ディスク用ガラス基板を脱気梱包した梱包袋に、
前記梱包袋内に0.1MPa/sec以下の梱包開放速度Vpにて気体が送入される大きさの細孔を穿孔し、
前記梱包袋に気体が送入された後に前記梱包袋を開梱し、
前記開梱された磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁気記録層を成膜することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 - 前記梱包袋は金属ラミネートフィルム製であることを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスクの製造方法。
- 当該磁気ディスクは、DFHヘッドを用いて記録されることを特徴とする請求項1または2に記載の磁気ディスクの製造方法。
- 当該磁気ディスクは、該磁気ディスクへの記録の際の磁気ヘッドの浮上量が10nm以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の磁気ディスクの製造方法。
- 当該磁気ディスクは、記録密度が200Gbit/inch2以上であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の磁気ディスクの製造方法。
- 前記磁気記録層は、垂直磁気記録ディスク用磁気記録層であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の磁気ディスクの製造方法。
- 前記開梱された磁気ディスク用ガラス基板を、前記磁気記録層を成膜する前に、純水によって洗浄することを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の磁気ディスクの製造方法。
- 前記開梱された磁気ディスク用ガラス基板を、前記磁気記録層を成膜する前に、pHが12以下のアルカリ洗浄液によって洗浄することを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008048087A JP5234742B2 (ja) | 2008-02-28 | 2008-02-28 | 磁気ディスクの製造方法 |
MYPI2018000693A MY201980A (en) | 2007-12-28 | 2008-12-26 | Method of supporting manufacture of magnetic disk, method of manufacturing a magnetic disk, package for a magnetic-disk glass substrate, method of packaging a magnetic-disk glass substrate, method of manufacturing a magnetic-disk glass substrate |
PCT/JP2008/073852 WO2009084683A1 (ja) | 2007-12-28 | 2008-12-26 | 磁気ディスク製造支援方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の梱包体、磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
MYPI2010003025A MY176254A (en) | 2007-12-28 | 2008-12-26 | Method of supporting manufacture of a magnetic disk, method of manufacturing a magnetic disk, package for a magnetic-disk glass substrate, method of packaging a magnetic-disk glass substrate, method of manufacturing a magnetic-disk glass substrate |
SG200900616-4A SG155126A1 (en) | 2008-02-28 | 2009-01-29 | Method of manufacturing a magnetic disk |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008048087A JP5234742B2 (ja) | 2008-02-28 | 2008-02-28 | 磁気ディスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009205756A JP2009205756A (ja) | 2009-09-10 |
JP5234742B2 true JP5234742B2 (ja) | 2013-07-10 |
Family
ID=41147864
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008048087A Active JP5234742B2 (ja) | 2007-12-28 | 2008-02-28 | 磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5234742B2 (ja) |
SG (1) | SG155126A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5920403B2 (ja) * | 2013-06-21 | 2016-05-18 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2540524B2 (ja) * | 1985-10-24 | 1996-10-02 | テキサス インスツルメンツ インコ−ポレイテツド | ウエ−ハ支持体 |
JP2001267407A (ja) * | 2000-03-14 | 2001-09-28 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP4617850B2 (ja) * | 2004-11-29 | 2011-01-26 | 凸版印刷株式会社 | 真空パックを用いたガラス基板の梱包方法及びその包装体 |
JP2007153353A (ja) * | 2005-12-01 | 2007-06-21 | Nitto Denko Corp | 板状物品収容ケース及び板状物品移送用台車及びこれらを用いた光学表示装置の製造方法 |
JP4809714B2 (ja) * | 2006-05-12 | 2011-11-09 | ミライアル株式会社 | 薄板収納容器 |
WO2007138913A1 (ja) * | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | 基板収納容器 |
-
2008
- 2008-02-28 JP JP2008048087A patent/JP5234742B2/ja active Active
-
2009
- 2009-01-29 SG SG200900616-4A patent/SG155126A1/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009205756A (ja) | 2009-09-10 |
SG155126A1 (en) | 2009-09-30 |
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A621 | Written request for application examination |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130319 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5234742 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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