JP5337749B2 - トリクロロシランの製造方法 - Google Patents
トリクロロシランの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5337749B2 JP5337749B2 JP2010052548A JP2010052548A JP5337749B2 JP 5337749 B2 JP5337749 B2 JP 5337749B2 JP 2010052548 A JP2010052548 A JP 2010052548A JP 2010052548 A JP2010052548 A JP 2010052548A JP 5337749 B2 JP5337749 B2 JP 5337749B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- trichlorosilane
- methyldichlorosilane
- tetrachlorosilane
- chlorine
- redistribution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
- C01B33/1071—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/009—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping in combination with chemical reactions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/14—Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column
- B01D3/143—Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column by two or more of a fractionation, separation or rectification step
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
- C01B33/1071—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof
- C01B33/10742—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof prepared by hydrochlorination of silicon or of a silicon-containing material
- C01B33/10757—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof prepared by hydrochlorination of silicon or of a silicon-containing material with the preferential formation of trichlorosilane
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
- C01B33/1071—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof
- C01B33/10742—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof prepared by hydrochlorination of silicon or of a silicon-containing material
- C01B33/10757—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof prepared by hydrochlorination of silicon or of a silicon-containing material with the preferential formation of trichlorosilane
- C01B33/10763—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof prepared by hydrochlorination of silicon or of a silicon-containing material with the preferential formation of trichlorosilane from silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
- C01B33/10778—Purification
Description
CH3SiHCl2 + HCl → SiHCl3 + CH4
CH3SiHCl2 + SiCl4→ CH3SiCl3 + SiHCl3
CH3SiHCl2 + SiHCl3→ CH3SiCl3 + SiH2Cl2
CH3SiHCl2 + H2→ SiH2Cl2 + CH4
CH3SiCl3 + H2→ SiHCl3 + CH4
S101 メチルジクロロシランとテトラクロロシランとトリクロロシランとを含む混合物を蒸留して蒸留前混合物よりもメチルジクロロシラン含有率が高い留分を分画する工程
S102 塩素再配分によりメチルジクロロシランをメチルトリクロロシランに変換する工程
S103 メチルトリクロロシランを含む再分配後の留分を蒸留精製して高純度なトリクロロシランを分離する工程
Claims (7)
- メチルジクロロシラン(CH3HSiCl2)とテトラクロロシラン(SiCl4)とトリクロロシラン(HSiCl3)とを含む混合物から高純度のトリクロロシランを得る方法であって、下記の工程を備えているトリクロロシランの製造方法。
(A)前記混合物を蒸留して蒸留前混合物よりもメチルジクロロシラン含有率が高い留分を分画する工程:
(B)前記分画された留分を加熱してメチルジクロロシランとテトラクロロシランとの間で塩素の再分配を行って前記メチルジクロロシランをメチルトリクロロシラン(CH3SiCl3)に変換する工程:
(C)前記メチルトリクロロシラン(CH3SiCl3)を含む再分配後の留分を蒸留精製してトリクロロシランを分離する工程。 - 前記工程(B)における塩素の再分配を、300〜600℃の温度範囲で行う請求項1に記載のトリクロロシランの製造方法。
- 前記工程(B)における塩素の再分配を、触媒を用いずに実行する請求項2に記載のトリクロロシランの製造方法。
- 前記工程(B)における塩素の再分配を、塩化銅を触媒として含有させたシリコンを流動床とする加熱容器内において水素含有還元性雰囲気下で実行する請求項2に記載のトリクロロシランの製造方法。
- 前記メチルジクロロシランとテトラクロロシランとトリクロロシランとを含む混合物は、冶金級シリコンと塩化水素との反応によりトリクロロシランを合成する際の生成物である請求項1乃至4の何れか1項に記載のトリクロロシランの製造方法。
- 前記メチルジクロロシランとテトラクロロシランとトリクロロシランとを含む混合物は、水素含有還元性雰囲気下でのテトラクロロシランからトリクロロシランへの転換反応の際の生成物である請求項1乃至4の何れか1項に記載のトリクロロシランの製造方法。
- 前記メチルジクロロシランとテトラクロロシランとトリクロロシランとを含む混合物は、トリクロロシランを原料とする多結晶シリコン製造工程で排出される反応生成物である請求項1乃至4の何れか1項に記載のトリクロロシランの製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010052548A JP5337749B2 (ja) | 2010-03-10 | 2010-03-10 | トリクロロシランの製造方法 |
US13/583,794 US9266742B2 (en) | 2010-03-10 | 2011-03-01 | Method for producing trichlorosilane |
EP11753001.4A EP2546197B1 (en) | 2010-03-10 | 2011-03-01 | Method for producing trichlorosilane |
CN201180013151.5A CN102791630B (zh) | 2010-03-10 | 2011-03-01 | 三氯硅烷的制造方法 |
PCT/JP2011/001189 WO2011111335A1 (ja) | 2010-03-10 | 2011-03-01 | トリクロロシランの製造方法 |
AU2011225614A AU2011225614B2 (en) | 2010-03-10 | 2011-03-01 | Method for producing trichlorosilane |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010052548A JP5337749B2 (ja) | 2010-03-10 | 2010-03-10 | トリクロロシランの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011184255A JP2011184255A (ja) | 2011-09-22 |
JP5337749B2 true JP5337749B2 (ja) | 2013-11-06 |
Family
ID=44563171
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010052548A Active JP5337749B2 (ja) | 2010-03-10 | 2010-03-10 | トリクロロシランの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9266742B2 (ja) |
EP (1) | EP2546197B1 (ja) |
JP (1) | JP5337749B2 (ja) |
CN (1) | CN102791630B (ja) |
AU (1) | AU2011225614B2 (ja) |
WO (1) | WO2011111335A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5909153B2 (ja) | 2012-06-14 | 2016-04-26 | 信越化学工業株式会社 | 高純度多結晶シリコンの製造方法 |
CN103112858B (zh) * | 2013-01-15 | 2015-02-25 | 宁波大学 | 多晶硅副产物中二氯二氢硅的液相氯化方法 |
JP5879283B2 (ja) * | 2013-02-13 | 2016-03-08 | 信越化学工業株式会社 | トリクロロシランの製造方法 |
DE102015210762A1 (de) | 2015-06-12 | 2016-12-15 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Aufarbeitung von mit Kohlenstoffverbindungen verunreinigten Chlorsilanen oder Chlorsilangemischen |
JP6586405B2 (ja) * | 2016-09-28 | 2019-10-02 | 信越化学工業株式会社 | トリクロロシランの精製システムおよび多結晶シリコンの製造方法 |
US10584035B2 (en) * | 2017-02-24 | 2020-03-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Purification system of trichlorosilane and silicon crystal |
CN111629996B (zh) * | 2018-02-08 | 2023-06-20 | 瓦克化学股份公司 | 对冶金硅进行分级的方法 |
EP3620436A1 (en) * | 2018-09-10 | 2020-03-11 | Momentive Performance Materials Inc. | Synthesis of trichlorosilane from tetrachlorosilane and hydridosilanes |
CN108946742A (zh) * | 2018-09-28 | 2018-12-07 | 洛阳中硅高科技有限公司 | 提纯三氯氢硅的装置 |
CN108892143A (zh) * | 2018-09-28 | 2018-11-27 | 洛阳中硅高科技有限公司 | 提纯三氯氢硅的方法 |
CN109179426A (zh) * | 2018-11-19 | 2019-01-11 | 天津科技大学 | 一种反应精馏去除三氯氢硅中甲基二氯硅烷的装置和方法 |
CN114956092A (zh) * | 2022-04-21 | 2022-08-30 | 新疆大全新能源股份有限公司 | 一种分离三氯氢硅中一甲基二氯硅烷杂质的方法 |
CN115650242A (zh) * | 2022-11-21 | 2023-01-31 | 青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司 | 三氯氢硅除碳装置及三氯氢硅除碳方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5673617A (en) | 1979-11-17 | 1981-06-18 | Osaka Titanium Seizo Kk | Manufacture of trichlorosilane |
FR2541666B1 (fr) * | 1983-02-25 | 1985-06-21 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de dismutation de silanes |
US4526769A (en) | 1983-07-18 | 1985-07-02 | Motorola, Inc. | Trichlorosilane production process |
FR2552436B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1985-10-25 | Rhone Poulenc Spec Chim | Nouveau procede de fabrication d'hydrogeno-silanes par reaction de redistribution |
FR2552434B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1985-10-25 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de fabrication de silane a partir de methyldichlorosilane et de chlorosilanes |
AU2976784A (en) | 1983-12-22 | 1985-06-27 | Carb-A-Drink International | Beverage dispenser |
NO166032C (no) | 1988-12-08 | 1991-05-22 | Elkem As | Fremgangsmaate ved fremstilling av triklormonosilan. |
DE4208152A1 (de) * | 1992-03-13 | 1993-09-16 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von dimethylchlorsilan |
DE4240730A1 (de) * | 1992-12-03 | 1994-06-09 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Dimethylchlorsilan |
US5321147A (en) * | 1993-07-16 | 1994-06-14 | Dow Corning Corporation | Conversion of direct process high-boiling component to chlorosilane monomers in the presence of chlorine |
JP3324922B2 (ja) | 1995-12-22 | 2002-09-17 | 株式会社トクヤマ | 三塩化ケイ素の製造方法 |
JP3708648B2 (ja) | 1995-12-25 | 2005-10-19 | 株式会社トクヤマ | トリクロロシランの製造方法 |
JP3892794B2 (ja) * | 2002-09-04 | 2007-03-14 | 住友チタニウム株式会社 | クロロシラン及びその精製方法 |
JP2004250317A (ja) | 2002-12-24 | 2004-09-09 | Tokuyama Corp | クロロシラン類の精製方法 |
DE102004045245B4 (de) * | 2004-09-17 | 2007-11-15 | Degussa Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Silanen |
CN100491246C (zh) | 2005-10-26 | 2009-05-27 | 杭州师范学院 | 特种有机氯硅烷的制备方法 |
JP2007269679A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Sumitomo Titanium Corp | 高純度アルキルシランの製造方法 |
JP4659798B2 (ja) * | 2007-09-05 | 2011-03-30 | 信越化学工業株式会社 | トリクロロシランの製造方法 |
JP4659797B2 (ja) * | 2007-09-05 | 2011-03-30 | 信越化学工業株式会社 | 多結晶シリコンの製造方法 |
JP4714197B2 (ja) * | 2007-09-05 | 2011-06-29 | 信越化学工業株式会社 | トリクロロシランの製造方法および多結晶シリコンの製造方法 |
-
2010
- 2010-03-10 JP JP2010052548A patent/JP5337749B2/ja active Active
-
2011
- 2011-03-01 AU AU2011225614A patent/AU2011225614B2/en not_active Ceased
- 2011-03-01 CN CN201180013151.5A patent/CN102791630B/zh active Active
- 2011-03-01 EP EP11753001.4A patent/EP2546197B1/en active Active
- 2011-03-01 US US13/583,794 patent/US9266742B2/en active Active
- 2011-03-01 WO PCT/JP2011/001189 patent/WO2011111335A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2546197A1 (en) | 2013-01-16 |
WO2011111335A1 (ja) | 2011-09-15 |
EP2546197B1 (en) | 2016-08-24 |
US9266742B2 (en) | 2016-02-23 |
US20130001063A1 (en) | 2013-01-03 |
JP2011184255A (ja) | 2011-09-22 |
AU2011225614B2 (en) | 2013-03-28 |
CN102791630B (zh) | 2014-11-19 |
CN102791630A (zh) | 2012-11-21 |
AU2011225614A1 (en) | 2012-10-11 |
EP2546197A4 (en) | 2015-05-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5337749B2 (ja) | トリクロロシランの製造方法 | |
JP5879283B2 (ja) | トリクロロシランの製造方法 | |
EP2634142B1 (en) | Method for purifying chlorosilanes | |
JP5442780B2 (ja) | クロロシランの蒸留による精製方法 | |
RU2499801C2 (ru) | Способ получения трихлорсилана и тетрахлорсилана | |
KR20100112576A (ko) | 할로실란의 원소, 예컨대 붕소의 함량을 감소시키기 위한 설비 및 방법 | |
JP4659797B2 (ja) | 多結晶シリコンの製造方法 | |
US10207932B2 (en) | Trichlorosilane purification system and method for producing polycrystalline silicon | |
JP2006169012A (ja) | ヘキサクロロジシラン及びその製造方法 | |
KR20170027824A (ko) | 클로로실레인의 정제 방법 | |
WO2011024257A1 (ja) | アミン化合物によるクロロシラン類の精製 | |
JP2006176357A (ja) | ヘキサクロロジシランの製造方法 | |
JP2015113250A (ja) | テトラクロロシランの精製方法 | |
WO2023243466A1 (ja) | 精製トリクロロシランの製造方法 | |
JP7304443B2 (ja) | 少なくとも1つの部分水素化クロロジシランを、固体の非官能性吸着体と反応させて、ヘキサクロロジシランを入手する方法 | |
KR102618387B1 (ko) | 할로실란 함유 조성물내 보론 화합물의 함량을 감소시키는 방법 | |
JP6743326B1 (ja) | 精製クロロシラン類の製造方法 | |
JP2536360B2 (ja) | クロルシラン類の精製方法 | |
JP2021100902A (ja) | 高純度トリクロロシランの精製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111027 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130723 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130805 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5337749 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |