JP5298852B2 - 樹脂組成物 - Google Patents
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Description
[1]シアネートエステル樹脂及び下式(1)
で表されるナフトール型エポキシ樹脂を含有することを特徴とする樹脂組成物。
[2]シアネートエステル樹脂の含有量が、樹脂組成物(不揮発分100質量%)に対し5〜60質量%である、上記[1]記載の樹脂組成物。
[3]式(1)で表されるナフトール型エポキシ樹脂の含有量が、樹脂組成物(不揮発分100質量%)に対し1〜50質量%である、上記[1]又は[2]記載の樹脂組成物。
[4]さらにフェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエステル樹脂から選択される1種以上の高分子樹脂を含有する上記[1]〜[3]のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
[5]高分子樹脂の含有量が、樹脂組成物(不揮発分100質量%)に対し1〜60質量%である、上記[4]記載の樹脂組成物。
[6]高分子樹脂の重量平均分子量が5000〜200000である、上記[4]又は[5]記載の樹脂組成物。
[7]高分子樹脂がフェノキシ樹脂である、上記[4]〜[6]のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
[8]さらに無機充填材を含有する、上記[1]〜[7]のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
[9]無機充填材の含有量が、樹脂組成物(不揮発分100質量%)に対し、50質量%以下である、上記[8]記載の樹脂組成物。
[10]無機充填材がシリカである、上記[8]又は[9]記載の樹脂組成物。
[11]上記[1]〜[10]のいずれか1項に記載の樹脂組成物が支持フィルム上に層形成されてなる接着フィルム。
[12]上記[1]〜[10]のいずれか1項に記載の樹脂組成物が繊維からなるシート状補強基材中に含浸されてなるプリプレグ。
[13]上記[1]〜[10]のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物により絶縁層が形成されてなる多層プリント配線板。
エポキシ樹脂中の平均値としての炭化水素基とグリシジル基の比率は、炭化水素基/グリシジル基=0.05〜2.0の範囲であり、好ましくは0.1〜1.0の範囲である。Xが炭素数1〜8の炭化水素基を示す場合の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、アリル基、プロパルギル基、ブチル基、n−ペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基等が挙げられ、特にメチル基が好ましい。式(1)で表されるナフトールエポキシ樹脂は特開2006−160868記載の公知の樹脂であり、該公報記載の製法に従って製造することができる。
ナフトール型エポキシ樹脂「ESN−475V」を、式(4)で表されるビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂として日本化薬(株)製「NC−3000H」(エポキシ当量約290)に固形分換算で同質量部に変更したこと以外は、実施例1と全く同様にして接着フィルムを得た。
ナフトール型エポキシ樹脂「ESN−475V」を、式(5)で表されるβ−ナフトール型エポキシ樹脂として新日鐵化学(株)製「ESN−185V」(エポキシ当量約280)に固形分換算で同質量部に変更したこと以外は、実施例1と全く同様にして接着フィルムを得た。
実施例1および比較例1〜2で得られた接着フィルムを180℃で90分熱硬化させてシート状の硬化物を得た。その硬化物を、幅約5mm、長さ約15mmの試験片に切断し、(株)リガク製熱機械分析装置(Thermo Plus TMA8310)を使用して、引張加重法で熱機械分析を行った。試験片を前記装置に装着後、荷重1g、昇温速度5℃/分の測定条件にて連続して2回測定した。2回目の測定における25℃から150℃までの平均線熱膨張率を算出した。得られた結果を表1に示す。
(1)接着フィルムのラミネート
内層回路付きガラス布基材エポキシ樹脂積層板[銅箔の厚さ18μm、基板厚み0.8mm、松下電工(株)製R5715ES]の両面に、実施例1および各比較例で作製した接着フィルムを、バッチ式真空加圧ラミネーターMVLP−500(商品名、名機(株)製)を用いてラミネートした。ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とし、その後110℃、30秒間、圧力0.74MPaでプレスすることにより行った。ラミネートされた接着フィルムからPETフィルムを剥離し、180℃、30分の硬化条件で樹脂組成物層を硬化して、絶縁層を形成した。
回路基板を、膨潤液であるアトテックジャパン(株)のスエリングディップ・セキュリガントPに80℃で5分間浸漬した。次に、粗化液であるアトテックジャパン(株)のコンセントレート・コンパクトP(KMnO4:60g/L、NaOH:40g/Lの水溶液)に80℃で10分間浸漬した。最後に、中和液であるアトテックジャパン(株)のリダクションソリューション・セキュリガントPに40℃で5分間浸漬し、粗化処理を行った。次いで90℃で30分乾燥した後、非接触型表面粗さ計(ビーコインスツルメンツ社製WYKO NT3300)を用いて、絶縁層表面のRa(10点平均粗さ)を求めた。
次いで、積層板を無電解めっきした後、150℃にて30分間加熱してアニール処理を行い、さらに硫酸銅電解めっきにより25±10μmの厚さで銅層を形成した。最後に、アニール処理を180℃にて30分間行った。得られた積層板のめっき銅層に、幅10mm、長さ100mmの矩形の切込みを入れ、この切込みの長手方向の一方の端部を剥がしてつかみ具で掴み、室温中にて、50mm/分の速度で垂直方向に35mm引き剥がした時の荷重を測定した。めっき導体層の引き剥がし強さ(ピール強度)の結果を表1に示す。
Claims (16)
- シアネートエステル樹脂及び下式(1)
(nは平均値として1〜6の数を示し、Xはグリシジル基又は炭素数1〜8の炭化水素基を示し、炭化水素基/グリシジル基の比率は0.05〜2.0である。)
で表されるナフトール型エポキシ樹脂を含有することを特徴とする多層プリント配線板の絶縁層用樹脂組成物。 - シアネートエステル樹脂がノボラック型シアネートエステル樹脂を含む、請求項1記載の樹脂組成物。
- シアネートエステル樹脂の含有量が、樹脂組成物(不揮発分100質量%)に対し5〜60質量%である、請求項1又は2記載の樹脂組成物。
- 式(1)で表されるナフトール型エポキシ樹脂の含有量が、樹脂組成物(不揮発分100質量%)に対し1〜50質量%である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- さらにフェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエステル樹脂から選択される1種以上の高分子樹脂を含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- 高分子樹脂の含有量が、樹脂組成物(不揮発分100質量%)に対し1〜60質量%である、請求項5記載の樹脂組成物。
- 高分子樹脂の重量平均分子量が5000〜200000である、請求項5又は6記載の樹脂組成物。
- 高分子樹脂がフェノキシ樹脂である、請求項5〜7のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- さらに無機充填材を含有する、請求項1〜8のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- 無機充填材の含有量が、樹脂組成物(不揮発分100質量%)に対し、50質量%以下である、請求項9記載の樹脂組成物。
- 無機充填材がシリカである、請求項9又は10記載の樹脂組成物。
- 無機充填材の平均粒径が5μm以下である、請求項9〜11のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- さらに、硬化触媒として、有機銅化合物、有機亜鉛化合物および有機コバルト化合物からなる群から選択される1種以上を含有する、請求項1〜12のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- 請求項1〜13のいずれか1項に記載の樹脂組成物が支持フィルム上に層形成されてなる接着フィルム。
- 請求項1〜13のいずれか1項に記載の樹脂組成物が繊維からなるシート状補強基材中に含浸されてなるプリプレグ。
- 請求項1〜13のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物により絶縁層が形成されてなる多層プリント配線板。
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