JP5274065B2 - 酸化物膜形成方法 - Google Patents
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例えば、前記基材の加熱温度が200乃至550℃であることを特徴とする。さらには例えば、前記成膜および埋孔された基板の水分吸着量が前記成膜のない基板の10分の1以下であることを特徴とする。
例えば、前記基材表面のSEM断面像において、開口部を有する隙間のうち、その穴径(Dとする)が1μm以下の幅で、開口部からの長さ(Lとする)との比がL/D≧2の範囲にあり、前記金属酸化物が隙間断面の面積比80%以上で開口部より埋めていることを特徴とする。
さらに例えば、前記基材表面のSEM断面像において、開口部を有する隙間のうち、その穴径(Dとする)が0.5μm以下の幅で、開口部からの長さ(Lとする)との比がL/D≧2の範囲にあり、前記金属酸化物が隙間断面の面積比80%以上で開口部より埋めていることを特徴とする。
図1に示す大気開放型CVD装置を使用して、酸化アルミニウム(Al2O3)焼結体基板へ大気開放型CVD法によりY2O3膜を生成し、その断面構造を詳細に解析した。本実施例では、Y2O3膜の出発原料としてY(DPM)3(純度99.6%)を用いた。Y2O3膜の合成条件は、N2キャリアガスのガス流量を3.5l/min、Y(DPM)3の気化温度を260℃、基板の加熱温度を500℃、ノズル−基板間の距離を25mm、合成時間を20分と設定した。そして、得られた最終試料(Y2O3膜)の断面をクロスセクションポリッシャー(CP)法を用いて研磨し、その断面構造を電界放射型走査電子顕微鏡(FE−SEM)法により評価した。
2 流量計
3a〜3c 配管
4 原料気化部
5 原料
6 酸素ガス供給部
7 ノズル
8 孔
9 加熱装置
9a,H1〜H3 ヒーター
10 基材
Claims (5)
- 周期律表IIIA族から選んだ元素からなる金属酸化物原料を気化させ、その金属酸化物原料を大気開放型CVD法により、加熱した基材表面に吹き付けることで、その基材表面に前記金属酸化物を成膜するとともに、その基材表面の孔を前記金属酸化物により埋孔し、
前記金属酸化物原料には少なくともトリス(ジ−ピバロイルメタナート)イットリウムおよびトリスアセチルアセトナートイットリウムが含まれ、酸化イットリウム膜により前記成膜および埋孔がなされることを特徴とする酸化物膜形成方法。 - 前記基材の加熱温度が200乃至550℃であることを特徴とする請求項1に記載の酸化物膜形成方法。
- 前記成膜および埋孔された基板の水分吸着量が前記成膜のない基板の10分の1以下であることを特徴とする請求項2に記載の酸化物膜形成方法。
- 前記基材表面のSEM断面像において、開口部を有する隙間のうち、その穴径(Dとする)が1μm以下の幅で、開口部からの長さ(Lとする)との比がL/D≧2の範囲にあり、前記金属酸化物が隙間断面の面積比80%以上で開口部より埋めていることを特徴とする請求項1に記載の酸化物膜形成方法。
- 前記基材表面のSEM断面像において、開口部を有する隙間のうち、その穴径(Dとする)が0.5μm以下の幅で、開口部からの長さ(Lとする)との比がL/D≧2の範囲にあり、前記金属酸化物が隙間断面の面積比80%以上で開口部より埋めていることを特徴とする請求項1に記載の酸化物膜形成方法。
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