JP5259952B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
このうち、図1は、本発明の一の実施の形態における基板処理装置を正面から見たときの概略構成図であり、図2は、図1における基板処理装置のA−A矢視縦断面図である。
保持機構40の基部42は、図示しない昇降機構に連結されている。この昇降機構によってウエハWを保持した保持機構40を降下させることにより、内槽20に貯留された処理液中にウエハWを浸漬することが可能となる。
11 オーバーフロー槽
12 オーバーフロー管
15 超音波発生器
20 内槽
30 純水供給部
31 吐出部材
31a 吐出口
32 純水供給管
33 ポンプ
35 純水貯留槽
40 保持機構
41 棒状部材
42 基部
60 外槽
61 オーバーフロー槽
62 オーバーフロー管
65 超音波発生器
70 内槽
80 純水供給部
81 吐出部材
82 純水供給管
83 ポンプ
85 純水貯留槽
Claims (6)
- 液体を貯留する外槽と、
前記外槽に設けられ、当該外槽に貯留された液体に超音波を照射する超音波発生器と、
前記外槽の内部に設けられ超音波を透過させる部材を有する内槽であって、処理液を貯留しこの処理液中に被処理基板を浸漬させるような内槽と、
前記外槽に液体を供給する液体供給部と、
を備え、
前記内槽の底面には、前記超音波発生器により照射された超音波により前記外槽内の液体中に発生した気泡が付着するようになっており、
前記内槽の底面は、付着した気泡が左右対称及び前後対称に離脱するよう幅方向および奥行き方向の両方向において当該内槽の中心線に対して対称形となっており、
前記液体供給部は、前記外槽内における液体の流れが幅方向および奥行き方向の両方向において前記内槽の中心線に対して対称となるよう、前記外槽内に液体を供給するようになっていることを特徴とする基板処理装置。 - 前記内槽の底面は、当該内槽に収容された処理されるべき被処理基板の板面に沿った縦断面において中央部が両端部よりも低い位置にあることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記内槽の底面は、当該内槽に収容された処理されるべき被処理基板の板面に沿った縦断面がV字形状となっていることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記液体供給部は、前記外槽内部において、前記超音波発生器が当該外槽内の液体に超音波を照射する範囲の外側の位置に設置されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記液体供給部は、幅方向または奥行き方向において前記内槽の中心線に対して対称となるような位置に複数設けられており、各液体供給部からの液体の吐出方向が、幅方向または奥行き方向において前記内槽の中心線に対して対称となっていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記液体供給部は、幅方向または奥行き方向において前記内槽の中心線に対して対称となるような位置に設けられた一対の筒状部材からなり、各筒状部材には吐出口が設けられており、各筒状部材における当該吐出口の位置は、各筒状部材の吐出口から吐出された液体の吐出方向が幅方向または奥行き方向において前記内槽の中心線に対して対称となるような箇所となっていることを特徴とする請求項5記載の基板処理装置。
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