JP5278247B2 - ガラス基板用スペーサ分離装置及びガラス基板の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、ガラス基板の主平面に付着しているスペーサをガラス基板から分離するガラス基板用スペーサ分離装置及びガラス基板の製造方法に関する。

例えば、円盤状のガラス基板を製造する製造工程においては、ガラス基板の平面及び端面に研削、研磨などの加工を施す加工工程があり、例えば、ガラス基板の端面の研磨効率を高める手法として複数枚（例えば、数百枚程度）のガラス基板を樹脂製のスペーサを介して面方向に重ね合わせたガラス基板積層体を形成し、多数のガラス基板の端面を同時に研削、研磨する方法が用いられている。

このガラス基板積層体の端面の加工が終了すると、ガラス基板の平面部分を研削、研磨加工する工程に移行する前に、ガラス基板積層体からガラス基板を１枚ずつ分離し、さらにガラス基板からスペーサを剥がしてガラス基板を所定のカセットに収容させる作業を行なう。このガラス基板をガラス基板積層体から分離してカセットに収容する工程は、主に作業員の人手で行なっていた。

しかし、人手による分離方式は、ガラス基板の平面同士が圧接されているので、スペーサを容易にガラス基板から分離させることができず、手間がかかるという問題がある。

そこで、従来は、ガラス基板積層体からガラス基板を１枚ずつ分離して、当該ガラス基板からスペーサを除去する方法として、例えば、ガラス基板積層体を水槽の液中に沈めた状態で真空吸着パッドなどの治具によりガラス基板の上面側平面を吸着して分離させると共に、水圧をガラス基板積層体に加えることでスペーサを除去する方式（特許文献１）、基板の端面の複数箇所（少なくとも３箇所）を把持するアームを有し、ガラス基板に水流、ブラシ、超音波を当てながらアームを上昇させてガラス基板をガラス基板積層体から分離させると共に、スペーサをガラス基板から剥がす方式（特許文献２〜４）が提案されている。

特開２００８−３０２４４８号公報 特開２００８−３０７６１２号公報 特開２００９−４８７３５号公報 特開２００９−４８６８８号公報

しかしながら、上記従来の方式を用いてスペーサをガラス基板から剥がす方法では、ガラス基板の主平面に密着したスペーサを１枚ずつ確実に剥がすため、スペーサを分離するのに時間がかかり、生産効率が低いといった問題があった。

そこで、本発明は上記事情に鑑み、上記課題を解決したガラス基板用スペーサ分離装置及びガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、本発明は以下のような手段を有する。
（１）本発明は、ガラス基板の主平面に付着しているスペーサをガラス基板から分離するガラス基板用スペーサ分離装置において、
複数のスペーサ付きガラス基板を一組毎に分離した状態で収容するカセットと、
前記カセットを液浸させるための液体が貯留された液槽と、
前記液槽内に液浸された前記カセットの内部に向けて気泡を発生させる気泡発生機構と、を備え、
前記気泡発生機構は、
前記カセットの下方に設けられ、前記液体中に気泡を発生する複数の孔が設けられた気泡発生部を有し、
前記液槽は、前記カセットと前記気泡発生部の前記複数の孔との位置を相対的に変化させるように前記カセットを揺動する揺動機構を有し、
前記複数の孔から発生させた気泡が前記液槽内の前記カセット内に収容した前記複数のスペーサ付きガラス基板の表面に接触することにより、前記複数のスペーサ付きガラス基板のそれぞれから前記スペーサを分離させることを特徴とする。
（２）本発明の前記気泡発生機構は、
前記液槽の外部に設けられ、前記気泡発生部に前記圧縮気体を供給する圧縮気体源と、
前記圧縮気体源から供給された圧縮気体の圧力を所定圧に調整する圧力調整弁と、
前記圧力調整弁により調整された圧縮気体を前記気泡発生部の前記複数の孔に供給する接続配管と、
を有することを特徴とする。
（３）本発明の前記複数の孔は、パイプまたは平板の表面に開孔径０．２ｍｍ〜２．０ｍｍを有することを特徴とする。
（４）本発明の前記複数の孔は、前記スペーサ付きガラス基板を一組毎に分離した状態で収容した前記カセットのガラス基板収容間隔距離に対し、０．２〜２倍の間隔距離で形成されていることを特徴とする。
（５）本発明は、前記液槽内で分離した前記スペーサを回収するための別液槽を前記液槽の内部または外部に設け、
前記液槽から前記別液槽へ液体がオーバーフローするように液体を供給する液体供給機構を設け、
前記液槽で分離させたスペーサを前記液槽からオーバーフローする液体とともに、前記別液槽に移動させてスペーサを回収することを特徴とする。
（６）本発明は、前記液槽が、前記液体に液浸された前記カセットに収容されたスペーサ付きガラス基板に超音波を照射する超音波照射機構を有することを特徴とする。
（７）本発明は、ガラス基板とスペーサを交互に複数枚重ね合わせたガラス基板積層体とし、該ガラス基板積層体のガラス基板端面部を研磨する工程と、
ガラス基板端面部の研磨を行なったあとにガラス基板積層体からガラス基板を分離する工程と、
ガラス基板の主平面に付着しているスペーサをガラス基板から分離する工程とを有するガラス基板の製造方法において、
前記スペーサをガラス基板から分離する工程で（１）〜（６）いずれかに記載のガラス基板用スペーサ分離装置を用いて分離することを特徴とする。
（８）本発明の前記スペーサは、前記液槽に貯留される液体より比重が軽い材質により形成されていることを特徴とする。

本発明によれば、液槽に設けられた揺動機構によりカセットを揺動させてカセットと気泡発生部の複数の孔との位置を相対的に変化させると共に、カセットの下方に設けられた気泡発生部の複数の孔から発生させた気泡をカセット内に供給するため、カセットの内部における気泡の接触状態を均一化し、気泡を液槽内のカセット内に収容した複数のスペーサ付きガラス基板の表面に接触させることにより、カセット内に収納された全てのスペーサ付きガラス基板のそれぞれからスペーサを同時に分離させて効率良くスペーサを回収することができる。また、カセットを揺動させてカセットと気泡発生部の複数の孔との位置を相対的に変化させることで、カセット内の全てのスペーサに液槽内における液体抵抗が付加されるため、気泡との接触で剥がれかけた各スペーサは、カセット揺動による液体抵抗とカセット下方からの気泡上昇との相乗効果によりガラス基板からの分離動作がより一層促進され、カセット内の全てのスペーサを効率良く剥がすことができる。

本発明によるガラス基板用スペーサ分離装置の一実施例の概略構成断面図である。 図１に示すガラス基板用スペーサ分離装置の平面図である。 液槽内部の構成を側方からみた縦断面図である。 カセット内部を正面からみた縦断面図である。 本発明によるガラス基板用スペーサ分離装置の変形例１の概略構成断面図である。 図５に示すガラス基板用スペーサ分離装置の平面図である。 本発明によるガラス基板用スペーサ分離装置の変形例２の概略構成断面図である。 図７に示すガラス基板用スペーサ分離装置の平面図である。

以下、図面を参照して本発明を実施するための形態について説明する。

図１は本発明によるガラス基板用スペーサ分離装置の実施例１の概略構成断面図である。図２は図１に示すガラス基板用スペーサ分離装置の平面図である。

図１及び図２に示されるように、ガラス基板用スペーサ分離装置１０は、液槽２０と、カセット支持機構３０と、気泡発生機構４０とが設けられている。液槽２０は、直方体形状の箱型に形成されており、上面側が開口２２とされている。液槽２０の内部には、水道水または純水、界面活性剤や、酸、アルカリなどを添加した液体が貯留されている。

カセット支持機構３０は、複数（本実施例では、４個）のカセット５０が載置される格子状部材からなるカセット載置部３２と、カセット載置部３２の両側より上方（垂直方向）に延在する吊下部３４と、吊下部３４の上端より側方（水平方向）に延在する摺動部３６とを有する。摺動部３６は、液槽２０の上端部２４に載置されており、液槽２０の上端部２４に沿ってＸ方向（水平方向）に摺動可能に設けられている。カセット５０は、各スペーサ付きガラス基板７０を１組ずつ収容する基板収容部８０（図３を参照）が長手方向に整列されている。

ここで、ガラス基板７０の製造工程について説明する。

円盤状のガラス基板７０を製造する製造工程においては、ガラス基板７０の平面及び端面に研削、研磨などの加工を施す研削・研磨工程がある。この研削・研磨工程では、例えば、ガラス基板７０の端面の研磨効率を高める手法として複数枚（例えば、数百枚程度）のガラス基板７０を樹脂製のスペーサＳを介して面方向に重ね合わせたガラス基板積層体を形成し、多数のガラス基板７０の端面を同時に研削、研磨加工を行なう。

このガラス基板積層体の端面の研削・研磨加工が終了すると、ガラス基板７０の平面部分を研削、研磨加工する工程に移行する前に、ガラス基板積層体からガラス基板７０を１枚ずつ分離し、続いて、ガラス基板７０の主平面に密着したスペーサＳを一枚ずつ剥がす工程を行なう。

本実施例では、このスペーサ剥がしを効率良く行なうため、スペーサＳがガラス基板７０の主平面に密着したスペーサ付きガラス基板７０を所定のカセット５０の基板収容部に収容させる作業を行なう。

各カセット５０は、例えば、スペーサ付きガラス基板７０を収容する基板収容部８０を複数有し、各基板収容部８０に複数のスペーサ付きガラス基板７０が１枚ずつ所定間隔毎に整列した状態に収容されている。従って、各スペーサ付きガラス基板７０は、基板収容部８０に収容されることで、夫々主平面同士が所定間隔に離間した状態に保持される。

本実施例では、摺動部３６を手動操作によりＸ方向（水平方向）に摺動させることにより、カセット支持機構３０に支持されたカセット５０をＸ方向（水平方向）に往復移動させることができる。また、摺動部３６をエアシリンダ等のアクチュエータによりＸ方向（水平方向）に駆動してカセット支持機構３０に支持されたカセット５０を揺動させる構成としても良い。

気泡発生機構４０は、液槽２０の底部に設けられ、液体中に気泡を発生する複数の気泡噴出孔４１が設けられた気泡発生部４２と、液槽２０の外部に設けられ気泡発生部４２に圧縮気体を供給する圧縮気体源４４と、圧縮気体源４４から供給された圧縮気体の圧力を所定圧に調整する圧力調整弁４６と、圧力調整弁４６により調整された圧縮気体を気泡発生部４２に供給する接続配管４８とを有する。

気泡発生部４２は、例えば、円筒状の中空パイプからなり、内周から外周に貫通する複数の気泡噴出孔４１が１列に設けられている。気泡噴出孔４１は、開孔径０．２ｍｍ〜２．０ｍｍ、好ましくは開孔径０．５ｍｍ〜１．５ｍｍ、さらに好ましくは０．７〜１．３ｍｍとなるように設けられている。尚、複数の気泡噴出孔４１は、中空部材の上側にランダムあるいはジグザグに設けるようにしても良い。

また、気泡発生部４２は、Ｘ方向（水平方向）に延在するように液槽２０の底部に固定された高さ調整部６０により所定高さ位置に支持されている。高さ調整部６０は、任意の高さを有するものを選択的に交換することができるので、気泡発生部４２の上側に配置された複数の気泡噴出孔４１とカセット支持機構３０に支持されたカセット５０との距離Ｌが所定距離（例えば、１０ｍｍ〜１００ｍｍ）となるように設定することができる。

本実施例では、液槽２０の底部に２本の気泡発生部４２が平行に配され、各気泡発生部４２は、それぞれ接続配管４８を介して圧力調整弁４６及び圧縮気体源４４に接続されている。尚、気泡発生部４２の配置本数は、２本に限らず、３本以上設けても良い。また、気泡発生部４２は、カセット５０の下方に平行に配置する構成として良いし、あるいは上下方向に所定角度傾斜してカセット５０の延在方向に対して斜め方向に配置しても良い。

圧縮気体源４４は、例えば、圧縮空気を生成する空気圧縮機と、圧縮空気を貯留するタンクとからなる。圧力調整弁４６は、気泡発生部４２と圧縮気体源４４とを接続する接続配管４８に設けられ、弁開度を変更することにより接続配管４８を介して供給される圧縮空気の供給圧力を調整する。

また、圧力調整弁４６は、予め設定された供給圧力（例えば、５ｋｇ／ｃｍ^２）を保つように弁開度を自動的に調整するように構成されており、気泡発生部４２の複数の気泡噴出孔４１から噴出される気泡の大きさが所定の大きさ（例えば、１ｍｍ〜２ｍｍ程度）になるように圧縮空気の供給圧力を調整している。

気泡発生部４２の上側に形成された複数の気泡噴出孔４１から発生した気泡は、上方に配されたカセット５０内に向かって噴出され、浮力で上昇しながらカセット５０内に収容された複数のガラス基板７０及び各ガラス基板７０の主平面に密着した樹脂製スペーサＳの表面に接触し、各樹脂製スペーサＳを気泡の浮力を利用してガラス基板７０から剥がすことができる。

ここで、気泡発生機構４０により液中に噴出された気泡の作用について説明する。

図３は液槽内部の構成を側方からみた縦断面図である。図４はカセット内部を正面からみた縦断面図である。図３及び図４に示されるように、カセット５０は、内部に複数の基板収容部８０が整列されている。各基板収容部８０は、両側に仕切り９０が左右対称に形成されており、各仕切り９０には、ガラス基板７０の外周が当接する傾斜段部９２が設けられている。さらに、各基板収容部８０は、下方に開口する下側開口８２と、上方に開口する上側開口８４とを有する。

各基板収容部８０の下側開口８２は、気泡発生部４２に対向するようにＸ方向に延在する気泡流入口を形成している。また、各カセット５０を支持するカセット支持機構３０は、ＸＹ方向のワイヤを格子状に交差させたカセット載置部３２を両側の吊下部３４で吊下する構成であり、気泡発生部４２の複数の気泡噴出孔４１から噴出された気泡がカセット載置部３２のワイヤ間の開口を通過して各基板収容部８０の下側開口８２に流入するように配されている。尚、カセット載置部３２は、ワイヤ以外のもの、例えば、ロッドまたは板を横架させた構成としても良い。

各基板収容部８０に１枚ずつ収納されたガラス基板７０の主平面には、樹脂製スペーサＳ（図３中一点鎖線で示す）が密着している。尚、樹脂製スペーサＳは、比重が液槽２０に貯留される液体より軽い材質により形成されている。

気泡発生部４２に圧力調整弁４６により調整された圧力の圧縮空気が供給されると、気泡発生部４２は、複数の気泡噴出孔４１から気泡を上方に向けて噴出する。Ｘ方向に整列された各気泡噴出孔４１の間隔Ｐは、カセット５０のガラス基板収容間隔距離Ｂに対し、０．２〜２倍の間隔距離となるように設定されている。この複数の気泡噴出孔４１から噴出された気泡は、連続して上方のカセット５０の下側開口８２に流入し、各基板収容部８０を上昇して上側開口８４より上方の液面に到達する。

従って、各基板収容部８０に収納されたガラス基板７０の主平面に密着したスペーサＳは、下側開口８２から流入した気泡群が接触すると共に、下縁部分が上方にめくられる。この気泡噴出と共に、摺動部３６を液槽２０の上端部２４に沿ってＸ方向に往復移動させる。これにより、カセット載置部３２に載置された各カセット５０は、液槽２０内をＸ方向に揺動して各カセット５０の内部における気泡の接触状態を均一化する。

図４に示すように、ガラス基板７０の主平面から分離したスペーサＳの下端部分は、Ｕ字状に湾曲して気泡の上昇通路を塞ぐようにガラス基板７０からはみ出し、気泡が衝突する表面積を増大させるように動作する。そのため、ガラス基板７０の主平面の下側からスペーサＳの一部が気泡との接触によりめくられると、その後はスペーサＳに対する気泡の接触面積が次第に増大してスペーサＳを上方に引っ張る力が増大する。

このように、気泡発生部４２の気泡噴出孔４１から噴出された気泡群が各基板収容部８０を上方して通過する過程で各ガラス基板７０に密着された各スペーサＳを殆ど同時に分離させることができ、各カセット５０に収納された全てのガラス基板７０から短時間でスペーサＳを効率良く剥がすことができる。また、この気泡の噴出と共に、作業員がカセット支持機構３０をＸ方向に揺動させることで、スペーサＳに液体抵抗が付加され、気泡との接触で剥がれかけた各スペーサＳは、液体抵抗と上記気泡の作用によりガラス基板７０からの分離動作をより一層促進される。

ガラス基板７０から分離したスペーサＳは、比重が水より軽いので、液槽２０の液面付近に浮遊しており、作業員は容易に各スペーサＳを回収することができる。

図５は本発明によるガラス基板用スペーサ分離装置の変形例１の概略構成断面図である。図６は図５に示すガラス基板用スペーサ分離装置の平面図である。尚、図６において、カセット載置部３２の下方に配置された各部を分かりやすくするため、カセット載置部３２の構成を省略して示す。

図５及び図６に示されるように、変形例１のガラス基板用スペーサ分離装置１００は、上記液槽２０と、カセット支持機構３０と、気泡発生機構４０と、回収槽１１０とを有する。回収槽１１０は、液槽２０の左側面に設けられ、液槽２０からオーバーフローした液体とともにガラス基板７０から分離されたスペーサＳを回収する。尚、回収槽１１０は、液槽２０の内部に設けても良いし、液槽２０の外部に隣接しても良い。

また、液槽２０には、液体供給機構１２０が設けられている。液体供給機構１２０は、複数の水流発生ノズル１２２と、水供給配管１２４と、水圧調整弁１２６と、ポンプ１２８と、排水配管１３０と、フィルタ１３２とを有する。水流発生ノズル１２２は、液槽２０の底部に設けられ、上方のカセット５０に向けて水流を噴射する。水供給配管１２４は、一点が水流発生ノズル１２２に接続され、他端がポンプ１２８の吐出口に接続されている。また、水圧調整弁１２６は、供給配管１２４に設けられ、ポンプ１２８から吐出された水の圧力を予め設定された所定圧力に調整する。ポンプ１２８は、好ましくは気泡発生機構４０の圧縮気体源４４と連動して作動するように起動され、液槽２０において、気泡を発生させるのと同時に水流を発生させるようにオン、オフされる。尚、ポンプ１２８は、気泡発生機構４０と連動せず、所定時間毎に定期的に作動させても良いし、あるいはスペーサＳの分離状態に応じて適宜作動させることも可能である。

排水配管１３０は、一端が回収槽１１０の底部に接続され、他端がポンプ１２８の吸込み口に接続されている。排水配管１３０には、排水された液体中の異物を除去するフィルタ１３２が設けられている。

ポンプ１２８が起動されると、排水配管１３０を介して回収槽１１０の液体が底部から排水され、液体に含まれる異物がフィルタ１３２で濾過され、異物を除去された液体のみがポンプ１２８の吸込み口に吸引される。さらに、ポンプ１２８の吐出口から加圧された液体が吐出されると共に、水圧調整弁１２６により調整された水圧の液体が複数の水流発生ノズル１２２からカセット５０に向けて噴射される。これにより、カセット５０の内部の各基板収容部８０には、気泡発生部４２の複数の気泡噴出孔４１からの気泡と、水流発生ノズル１２２からの水流とが下方から上方に向けて噴射される。

そのため、カセット５０の各基板収容部８０には、下側開口８２から気泡群と水流が流入し、各基板収容部８０に収納された各ガラス基板７０に密着されたスペーサＳを効率良く短時間で一斉に分離させて液面付近に浮遊させることが可能になる。

回収槽１１０と液槽２０との間を画成する壁部１４０の上端には、凹部１４２が設けられている。凹部１４２は、液槽２０の液面より低い位置に設けられているので、液槽２０の液面付近に浮遊するスペーサＳは、液槽２０から回収槽１１０側に流出する液体の流れと共に、回収槽１１０に排出される。そして、ガラス基板７０から分離したスペーサＳは、比重が水より軽いので、回収槽１１０の液面付近に浮遊しており、作業員は容易に各スペーサＳを回収することができる。

図７は本発明によるガラス基板用スペーサ分離装置の変形例２の概略構成断面図である。図８は図７に示すガラス基板用スペーサ分離装置の平面図である。尚、図８において、カセット載置部３２の下方に配置された各部を分かりやすくするため、カセット載置部３２の構成を省略して示す。

図７及び図８に示されるように、変形例２のガラス基板用スペーサ分離装置２００は、上記液槽２０と、カセット支持機構３０と、気泡発生機構４０と、回収槽１１０と、液体供給機構１２０、加振機構２１０を有する。

加振機構２１０は、液槽２０の側面に密着して取り付けた振動板２１２と、振動板２１２に超音波を発生させるための加振信号を入力する超音波発振器２１４とからなる。振動板２１２は、超音波発振器２１４からの加振信号により振動し、液槽２０を介して液体に超音波を伝播させる。液槽２０の液中に液浸された各カセット５０には、液体を介して超音波が伝播するため、各基板収容部８０に収納された各ガラス基板７０が振動する。

尚、振動板２１２の取付位置としては、液槽２０の側面に限らず、例えば、液槽２０の下面でも良い。また、上記振動板２１２を液槽２０の外側に設ける代わりに、液槽２０の内壁に設ける構成としても良いし、あるいは振動板２１２の代わりに液中に投入可能な振動体を液槽２０に貯留された液体中に浸漬させるようにしても良い。

超音波発振器２１４は、好ましくは上記気泡発生機構４０の圧縮気体源４４及び液体供給機構１２０のポンプ１２８と連動して作動するように起動され、液槽２０において、気泡を発生させるのと同時に振動を発生させるようにオン、オフされる。また、超音波発振器２１４は、上記気泡発生機構４０の圧縮気体源４４及び液体供給機構１２０のポンプ１２８と連動させず、所定時間毎に定期的に作動させても良いし、あるいはスペーサＳの分離状態に応じて適宜作動させることも可能である。

そのため、ポンプ１２８が起動されると、水圧調整弁１２６により調整された水圧の液体が複数の水流発生ノズル１２２からカセット５０に向けて噴射されると共に、振動板２１２が超音波発振器２１４からの加振信号により振動して超音波を液槽２０の右側面に伝播する。そして、カセット５０の内部の各基板収容部８０には、気泡発生部４２の複数の気泡噴出孔４１からの気泡と、水流発生ノズル１２２からの水流とが下方から上方に向けて噴射される。

これにより、各基板収容部８０に収納された各ガラス基板７０には、気泡が混ざった水流と、超音波による振動が伝播されるため、各ガラス基板７０に密着したスペーサＳを短時間で一斉に分離させて液面付近に浮遊させることが可能になる。

そして、液槽２０の液面付近に浮遊するスペーサＳは、液槽２０から回収槽１１０側に流出する液体の流れと共に、回収槽１１０に排出され、回収槽１１０の液面付近に浮遊する。そのため、作業員は回収槽１１０の液面付近に浮遊する各スペーサＳを容易に回収することができる。尚、気泡発生機構４０による気泡発生と、液体供給機構１２０による水流と、振動板２１２による超音波の伝播とは、同時に発生させるようにしても良いし、あるいは各機構のそれぞれが任意の時間差で作動するようにしても良いし、あるいは各機構を選択的に組み合わせて作動させることも可能である。

尚、変形例２において、上記液体供給機構１２０を外した構成としても良い。この構成とした場合は、カセット５０の内部の各基板収容部８０には、気泡発生部４２の複数の気泡噴出孔４１からの気泡が噴射されると共に、超音波による振動が伝播し、スペーサＳの分離動作を促進させることができる。

上記実施例では、１つの液槽２０に４個のカセット５０を液浸する場合を例に挙げて説明したが、これに限らず、１つの液槽２０に４個以上のカセット５０を液浸させても良い。

また、上記実施例では、液槽２０の底部に２本の気泡発生部４２を配した構成を例に挙げて説明したが、これに限らず、カセット５０の数に応じて適宜増設しても良い。

また、上記実施例では、中空パイプに気泡噴出孔４１を１列に配して気泡発生部４２を構成した場合を例に挙げて説明したが、これに限らず、例えば、複数の気泡発生ノズルを液槽２０の底部に配しても良いし、あるいは中空平板状の上面に複数の気泡噴出孔を配したものを用いても良い。

１０、１００、２００ ガラス基板用スペーサ分離装置
２０ 液槽
２２ 開口
２４ 上端部
３０ カセット支持機構
３２ カセット載置部
３４ 吊下部
３６ 摺動部
４０ 気泡発生機構
４１ 気泡噴出孔
４２ 気泡発生部
４４ 圧縮気体源
４６ 圧力調整弁
４８ 接続配管
５０ カセット
６０ 高さ調整部
７０ ガラス基板
８０ 基板収容部
８２ 下側開口
８４ 上側開口
９０ 仕切り
９２ 傾斜段部
１１０ 回収槽
１２０ 液体供給機構
１２２ 水流発生ノズル
１２４ 水供給配管
１２６ 水圧調整弁
１２８ ポンプ
１３０ 排水配管
１３２ フィルタ
１４０ 壁部
１４２ 凹部
２１０ 加振機構
２１２ 振動板
２１４ 超音波発振器

Claims (8)

1. ガラス基板の主平面に付着しているスペーサをガラス基板から分離するガラス基板用スペーサ分離装置において、
   複数のスペーサ付きガラス基板を一組毎に分離した状態で収容するカセットと、
   前記カセットを液浸させるための液体が貯留された液槽と、
   前記液槽内に液浸された前記カセットの内部に向けて気泡を発生させる気泡発生機構と、を備え、
   前記気泡発生機構は、
   前記カセットの下方に設けられ、前記液体中に気泡を発生する複数の孔が設けられた気泡発生部を有し、
   前記液槽は、前記カセットと前記気泡発生部の前記複数の孔との位置を相対的に変化させるように前記カセットを揺動する揺動機構を有し、
   前記複数の孔から発生させた気泡が前記液槽内の前記カセット内に収容した前記複数のスペーサ付きガラス基板の表面に接触することにより、前記複数のスペーサ付きガラス基板のそれぞれから前記スペーサを分離させることを特徴とするガラス基板用スペーサ分離装置。
2. 前記気泡発生機構は、
   前記液槽の外部に設けられ、前記気泡発生部に圧縮気体を供給する圧縮気体源と、
   前記圧縮気体源から供給された圧縮気体の圧力を所定圧に調整する圧力調整弁と、
   前記圧力調整弁により調整された圧縮気体を前記気泡発生部の前記複数の孔に供給する接続配管と、
   を有することを特徴とする請求項１に記載のガラス基板用スペーサ分離装置。
3. 前記複数の孔は、パイプまたは平板の表面に開孔径０．２ｍｍ〜２．０ｍｍを有することを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス基板用スペーサ分離装置。
4. 前記複数の孔は、前記スペーサ付きガラス基板を一組毎に分離した状態で収容した前記カセットのガラス基板収容間隔距離に対し、０．２〜２倍の間隔距離で形成されていることを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載のガラス基板用スペーサ分離装置。
5. 前記液槽内で分離した前記スペーサを回収するための別液槽を前記液槽の内部または外部に設け、
   前記液槽から前記別液槽へ液体がオーバーフローするように液体を供給する液体供給機構を設け、
   前記液槽で分離させたスペーサを前記液槽からオーバーフローする液体とともに、前記別液槽に移動させてスペーサを回収することを特徴とする請求項１〜４いずれかに記載のガラス基板用スペーサ分離装置。
6. 前記液槽は、前記液体に液浸された前記カセットに収容されたスペーサ付きガラス基板に超音波を照射する超音波照射機構を有することを特徴とする請求項１〜５いずれかに記載のガラス基板用スペーサ分離装置。
7. ガラス基板とスペーサを交互に複数枚重ね合わせたガラス基板積層体とし、該ガラス基板積層体のガラス基板端面部を研磨する工程と、
   ガラス基板端面部の研磨を行なったあとにガラス基板積層体からガラス基板を分離する工程と、
   ガラス基板の主平面に付着しているスペーサをガラス基板から分離する工程とを有するガラス基板の製造方法において、
   前記スペーサをガラス基板から分離する工程で請求項１〜６いずれかに記載のガラス基板用スペーサ分離装置を用いて分離することを特徴とするガラス基板の製造方法。
8. 前記スペーサは、比重が前記液槽に貯留される液体より軽い材質により形成されていることを特徴とする請求項７記載のガラス基板の製造方法。
   

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